Question

（2002?朝陽區(qū)）如圖為常見的實(shí)驗(yàn)裝置（各具用途）．根據(jù)下列要求回答問題（裝置可重復(fù)使用）：

（1）將含水蒸氣的氫氣干燥后再還原氧化銅，則該氣體 先要通過______裝置．寫出H₂還原氧化銅的化學(xué)方程式______ Cu+H₂O

Answer 1

【答案】分析：首先要明確每一個(gè)裝置的作用，通過灼熱的氧化銅來證明是否含有還原性氣體，通過白色硫酸銅粉末來證明水分，氫氧化鈉溶液一般用來除去酸性氣體，石灰水用來檢驗(yàn)二氧化碳，濃硫酸用來吸收水分．多個(gè)裝置進(jìn)行組合時(shí)，要根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求正確的按順序連接，以排除可能造成的干擾．
解答：解：（1）干燥氫氣應(yīng)選擇濃硫酸；H₂還原氧化銅的化學(xué)方程式為H₂+CuOCu+H₂O；
（3）要驗(yàn)證混合氣體由H₂、H₂O組成，首先要通過無水硫酸銅驗(yàn)證水的存在，然后用濃硫酸把水除去，防止后面的干擾，再把氣體通過氧化銅和無水硫酸銅，故需要連接的儀器順序?yàn)锳BEA；
（3）要驗(yàn)證混合氣體由H₂、CO、H₂O組成，首先要通過無水硫酸銅驗(yàn)證水的存在，然后用濃硫酸把水除去，防止后面的干擾，再把氣體通過氧化銅和無水硫酸銅和澄清的石灰水，故需要連接的儀器順序?yàn)锳BEAD．
故答案為：
（1）B； H₂+CuOCu+H₂O；
（2）ABEA；
（3）ABEAD．
點(diǎn)評(píng)：一定要注意多余氣體的干擾，一般是多余的二氧化碳對(duì)一氧化碳生成物的干擾，再就是氣體通過溶液時(shí)帶出的水蒸氣對(duì)氫氣生成物的干擾．