Question

晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用過量的碳還原二氧化硅制得粗硅，同時得到一種可燃性氣態(tài)；
②粗硅與干燥的HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl₃（Si+3HCl=SiHCl₃+H₂）
③SiHCl₃與過量的H₂在1000℃～1100℃反應(yīng)制得純硅，已知SiHCl₃能與水強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃．請回答：
（1）第一步制取軌的化學(xué)方程式______ Si+2CO↑

Answer 1

【答案】分析：根據(jù)題目給出的信息，高溫下，碳做還原劑時，碳和二氧化硅生成CO和硅；利用沸點(diǎn)的不同提純SiHCl₃屬于蒸餾；濃硫酸是常用的干燥劑，裝置C需水浴加熱，目的是加快反應(yīng)的速率；裝置D不能采用普通玻璃管的原因是溫度太高，普通玻璃管易熔化；保證實(shí)驗(yàn)成功的關(guān)鍵是：裝置要嚴(yán)密；控制好溫度等．
解答：解：（1）高溫下，碳做還原劑時，生成CO，即2C+SiO2═2CO+Si．故答案為：2C+SiO2═2CO+Si
（2）利用沸點(diǎn)的不同提純SiHCl₃屬于蒸餾，故答案為：蒸餾
（3）濃硫酸是常用的干燥劑，裝置C需水浴加熱，目的是使SiHCl₃氣化，與氫氣反應(yīng)；SiHCl₃與過量的H₂在1000℃～1100℃反應(yīng)制得純硅，溫度太高，普通玻璃管易熔化；保證實(shí)驗(yàn)成功的關(guān)鍵是：裝置要嚴(yán)密；控制好溫度等；書寫化學(xué)方程式時，要注意配平．故答案為：①濃硫酸；使SiHCl₃氣化，與氫氣反應(yīng)；②SiHCl₃與過量的H₂在1000℃～1100℃反應(yīng)制得純硅，溫度太高，普通玻璃管易熔化；SiHCl₃+H₂=Si+3HCl；③裝置要嚴(yán)密；控制好溫度．
點(diǎn)評：本考點(diǎn)屬于物質(zhì)的轉(zhuǎn)化和制備題，還考查了化學(xué)方程式的書寫．本題利用文字描述設(shè)計出相應(yīng)的實(shí)驗(yàn)步驟，分步驟進(jìn)行鑒別，解決本考點(diǎn)需要根據(jù)實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象，綜合分析，從而得出正確的結(jié)論，要注意知識的整體性．此考點(diǎn)主要出現(xiàn)在實(shí)驗(yàn)題中．