Question

【題目】硅酸鈉（Na2SiO3）是我國優(yōu)先發(fā)展的精細化學品，用某種石英砂礦石（主要成分是SiO2 ， 還含有少量的CuO、Na2SO4、Na2CO3）制備硅酸鈉（Na2SiO3）的流程如下：
資料：SiO2既不溶于水，也不與鹽酸反應．
請回答下列問題：
（1）“研磨”的目的是 ．
（2）檢驗“洗滌a”已洗凈的方法是 ．
（3）“酸浸”的化學方程式為 ．
（4）“堿浸”的化學方程式為 ．
（5）“操作a”包含蒸發(fā)濃縮、、過濾、洗滌、干燥等一系列操作．

Answer 1

【答案】
（1）使溶解或者反應更快更徹底
（2）取過濾得到的清液滴入氯化鋇溶液，無明顯現象
（3）CuO+H2SO4=CuSO4+H2O
（4）SiO2+2NaOH=H2O+Na2SiO3
（5）降溫結晶
【解析】解：（1）由于反應物之間接觸越充分反應越快，同時顆粒越小，溶解也就越快，所以“研磨”的目的是 使溶解或者反應更快更徹底．（2）檢驗“洗滌a”已洗凈就是說固體表面洗滌液中沒有生成的碳酸鈉和硫酸鈉，所以就是檢驗是否有殘留的碳酸鈉和硫酸鈉，所以方法是 取過濾得到的清液滴入氯化鋇溶液，無明顯現象．（3）“酸浸”是除去氧化銅，是氧化銅和硫酸反應生成硫酸銅和水，對應的化學方程式為 CuO+H2SO4=CuSO4+H2O．（4）“堿浸”是二氧化硅和氫氧化鈉反應，生成硅酸鈉和水，對應的化學方程式為 SiO2+2NaOH=H2O+Na2SiO3 ． （5）“操作a”包含蒸發(fā)濃縮、降溫結晶、過濾、洗滌、干燥等一系列操作． 所以答案是：（1）使溶解或者反應更快更徹底．（2）取過濾得到的清液滴入氯化鋇溶液，無明顯現象．（3）CuO+H2SO4=CuSO4+H2O．（4）SiO2+2NaOH=H2O+Na2SiO3 ． （5）降溫結晶．
【考點精析】認真審題，首先需要了解書寫化學方程式、文字表達式、電離方程式(注意：a、配平 b、條件 c、箭號)．