反應2C+SiO2
高溫
Si+2CO↑中的還原劑是（　�。�
A．CB．SiO2C．SiD．CO
在反應2C+SiO2
高溫
Si+2CO↑中二氧化硅在反應中失去氧元素，被還原，是氧化劑；碳在反應中得到氧元素，被氧化，是還原劑．
故選A．
練習冊系列答案
相關習題

科目：初中化學 來源： 題型：

芯片是電腦、“智能”加點的核心部件，它是用高純度硅制成的．下面是生產(chǎn)單質(zhì)硅過程中的一個重要反應：SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑，該反應的基本類型是（　�。�
A、化合反應B、分解反應
C、置換反應D、復分解反應

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科目：初中化學 來源： 題型：

2010年上海世博會上，我國將展示出高純度單硅高科技產(chǎn)品．硅的制取反應為2C+SiO2
高溫
Si+2CO↑，有關該反應的說法中正確的是（　�。�
A、反應中CO是還原劑
B、SiO2發(fā)生氧化反應
C、反應為復分解反應
D、反應為置換反應

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科目：初中化學 來源： 題型：

（2010?益陽）芯片是計算機的核心部件，它是由高純硅制成的，下面是生產(chǎn)單質(zhì)硅過程中的主要反應：
①SiO2+2c
 高溫 
.
 
Si+2CO↑  ②Si+2Cl2
 點燃 
.
 
SiCl4  ③siCl4+2H2
  △  
.
 
Si+4HCl
上述反應③的基本反應類型是（　�。�

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科目：初中化學 來源： 題型：

（2010?海滄區(qū)質(zhì)檢）高純硅是制造計算機電路芯片的主要原料．工業(yè)上用石英（主要成分為SiO2）制備粗硅的反應為SiO2+2C
  △  
.
 
Si+2R↑，下列說法錯誤的是（　�。�

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科目：初中化學 來源： 題型：

晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用過量的碳還原二氧化硅制得粗硅，同時得到一種可燃性氣態(tài)；
②粗硅與干燥的HCl氣體反應制得SiHCl3（Si+3HCl=SiHCl3+H2）
③SiHCl3與過量的H2在1000℃～1100℃反應制得純硅，已知SiHCl3能與水強烈反應，在空氣中易自燃．請回答：
（1）第一步制取軌的化學方程式
2C+SiO2
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
2C+SiO2
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
．
（2）粗硅與HCl反應完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3（沸點33.0℃）中含有少量SiCl4（沸點57.6℃），提純SiHCl3可采用
蒸餾
蒸餾
的方法．
（3）實驗室用SiHCl3與過量的H2反應制取純硅裝置如圖所示（加熱和夾持裝置略去）：

①裝置B中的試劑是
濃硫酸
濃硫酸
，裝置C需水浴加熱，目的是
使SiHCl3氣化，與氫氣反應
使SiHCl3氣化，與氫氣反應
．
②反應一段時間后，裝置D中可觀察到有晶體硅生成，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是
SiHCl3與過量的H2在1000℃～1100℃反應制得純硅，溫度太高，普通玻璃管易熔化
SiHCl3與過量的H2在1000℃～1100℃反應制得純硅，溫度太高，普通玻璃管易熔化
，D中發(fā)生的反應的化學方程式是
SiHCl3+H2=Si+3HCl
SiHCl3+H2=Si+3HCl
．
③為保證實驗的成功，操作的關鍵除題中已告知的之外，你認為最重要的還有：
裝置要嚴密
裝置要嚴密
，
控制好溫度
控制好溫度
．（答出兩點）

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