請用化學用語表示：

5個鉀原子________

4個銨根離子________

2個氯離子________

氧化鋁中鋁的化合價為＋3價________

二氧化硅________

為了除去物質中的雜質(括號內物質為雜質)，所選用試劑和操作方法都正確的是________

根據(jù)氯化鈉的溶解度曲線，完成下列問題．

(1)A點所示溶液為某溫度下氯化鈉的________(選填“飽和”或“不飽和”)溶液．

(2)將B點所示的溶液升高溫度到40℃(忽略水的蒸發(fā))，此時溶液中溶質質量分數(shù)將________(選填“變大”或“變小”或“不變”)．

(3)B點代表20℃時氯化鈉的溶解度為36.0 g，若將滿足B點指標的溶液恒溫蒸發(fā)10 g水，會有________g氯化鈉晶體折出．

根據(jù)氫氧化鈣的溶解度曲線，完成下列問題．

(1)曲線上滿足A點指標的溶液在升高溫度后會產生的現(xiàn)象是：________，此時的溶液中溶質質量分數(shù)將________(選填“變大”或“變小”或“不變”)

(2)若向曲線上滿足A點指標的溶液中加入生石灰，則溶液中的溶質質量獎________(選填“增加”或“減少”或“不變”)

完成下列反應的化學方程式，并回答有關問題．

(1)生石灰放入水中：________，基本反應類型是________．

(2)實驗室用雙氧水制取氧氣(二氧化錳粉末作催化劑)：________，該反應是________(選填“吸熱”或“放熱”)反應．

(3)鎂條投入稀鹽酸中：________，基本反應類型是________．

(4)氫氧化鋇溶液和稀硫酸恰好完全反應：________，此時液體的導電性比反應前________(選填“增強”或“減弱”或“不變”)．

(5)氯化銨晶體(NH₄Cl)和熟石灰混合研磨生成氯化鈣和水，同時生成一種氨臭味的氣體(NH₃)：________，檢驗該氣體可用濕潤的________試紙．

形態(tài)各異的物質可按一定規(guī)律分類．現(xiàn)有以下八種物質，請選用各物質名稱前的字母序號填涂在答題卡相應位置．

A．鹽酸　B．氯化鉀　C．氧化銅　D．淀粉　E．五氧化二磷　F．氮氣　G．氫氧化鈣　H．甲烷

2009年3月22日是“世界水日”．水與人類的生活和生產密切相關．

請回答以下問題：

(1)生理鹽水中的溶劑是________．

(2)保護水環(huán)境、珍愛水資源，是每個公民應盡的責任和義務．下列做法有利于保護水資源的是________(填序號)．

A．大量使用化肥農藥

B．工業(yè)廢水處理達標后排放

C．使用含磷洗衣粉

D．生活污水直接排放

(3)在水蒸發(fā)的過程中，下列說法正確的是________(填序號)．

A．水分子不斷運動

B．水分子之間間隔不變

C．水分子分解成氫原子和氧原子

D．水分子可以保持水的物理性質

(4)課外活動中，同學們玩起了以水為主題的“化學反應接龍”游戲．游戲的規(guī)則為：用前一個反應的一種生成物作為下一個反應的反應物，并按序號和要求的基本反應類型循環(huán)，如圖所示．仿照示例完成下列反應的化學方程式．

示例：①分解反應：電解水2H₂O2H₂↑＋O₂↑

②置換反應__________________

③化合反應__________________

④復分解反應________________

從20世紀中葉開始，硅成了信息技術的關鍵材料，是目前應用最多的半導體材料．請回答－下列問題：

(1)地殼里各種元素的含量(質量分數(shù))如圖所示，其中表示硅元素的是________(填字母)．

(2)根據(jù)元素周期表可知，原子序數(shù)為6的碳原子和原子序數(shù)為14的硅原子最外層電子數(shù)均為4，則常溫下硅的化學性質________(選瑣“活潑”、“不活潑”)．

(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產過程示意如下：

①整個制備過程必須達到無水無氧．在H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是________．

②在生產過程中物質A可循環(huán)使用，A的化學式是________；在生產過程中還有一種可循環(huán)使用的物質是________．

ClO₂是新一代飲用水的消毒劑，可以用來代替Cl₂進行自來水的消毒．請回答下列問題：

(1)ClO₂的名稱為________．

(2)制取ClO₂的反應過程示意圖如下：

該反應的化學方程式為________．

在農村，有時用10％－20％的氯化鈉溶液來選種．若要配制50 kg　15％的氯化鈉溶液，需要________kg氯化鈉，________kg水．