【題目】下列物質(zhì)中,屬于電解質(zhì)的是
A. 石墨 B. HCl C. 二氧化硫 D. 氨水
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【題目】實驗室里需要純凈的氯化鈉溶液,但手邊只有混有硫酸鈉、碳酸氫銨的氯化鈉。某學(xué)生設(shè)計了如下方案:
如果此方案正確,那么:
(1)操作①可選擇_______儀器。
(2)操作②是否可改為加硝酸鋇溶液__________,原因是___________。
(3)進行操作②后,判斷硫酸根離子已除盡的方法是_____________。
(4)操作③的目的是_______,不先過濾后加碳酸鈉溶液的理由是__________。
(5)操作④的目的是____________________________。
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【題目】在沸水中滴入氯化鐵溶液制備氫氧化鐵膠體,欲除去膠體中的HCl等雜質(zhì),可采用方法的是( )
A.過濾B.蒸餾C.電泳D.滲析
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【題目】某些國家已禁用水銀溫度計,因為它在使用時易破碎,如有水銀泄漏將會危害人體健康.水銀屬于( 。
A.化合物B.混合物C.單質(zhì)D.氧化物
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【題目】配制一定物質(zhì)的量濃度的NaOH溶液時,造成實驗結(jié)果偏高的是( 。
A.定容時觀察液面仰視
B.定容時觀察液面俯視
C.有少量NaOH溶液殘留在燒杯中
D.容量瓶中原來有少量蒸餾水
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【題目】晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2;
③SiHCl3與過量H2在1 000~1 100 ℃反應(yīng)制得純硅。
已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng),在空氣中易自燃。請回答下列問題:
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為______________________________。
(2)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如圖所示(熱源及夾持裝置均已略去):
①裝置B中的試劑是________。裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_________________________。
②反應(yīng)一段時間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是__________________________________,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_____________________________,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_________________。
③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性、控制好反應(yīng)溫度以及______________。
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【題目】一定條件下,在一恒容密閉容器中,下列能表示反應(yīng):X(g)+2Y(g)2Z(g)一定達到化學(xué)平衡狀態(tài)的是
①X、Y、Z的物質(zhì)的量之比為1:2:2;②Y的消耗速率與Z的消耗速率相等;③容器中的壓強不再發(fā)生變化;④單位時間內(nèi)生成n mol Z的同時消耗nmol Y
A. ①② B. ①④ C. ③④ D. ②③
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【題目】溶液、濁液、膠體三種分散系的本質(zhì)區(qū)別為( )
A.穩(wěn)定性B.透明度C.分散質(zhì)粒子的直徑大小D.顏色
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【題目】高分子化合物PTT是一種性能優(yōu)異的新型纖維。PTT的一種合成路線如下圖:
已知:()
(1)已知A分子中有兩種不同化學(xué)環(huán)境的氫原子,數(shù)目比為1:3,則A的結(jié)構(gòu)簡式為______。
(2)由B生成C的反應(yīng)類型為______,C物質(zhì)的化學(xué)名稱為______。
(3)芳香烴D的相對分子質(zhì)量為106,D的一氯代物只有2種,則D的結(jié)構(gòu)簡式為______。
(4)由E生成F的反應(yīng)類型為______。
(5)G分子所含官能團名稱為______。
(6)寫出合成PTT的化學(xué)方程式______。
(7)有機物H的同分異構(gòu)體有很多種,寫出符合下列條件的一種同分異構(gòu)體結(jié)構(gòu)簡式______。
①含有苯環(huán) ②核磁共振氫譜有三個峰
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