【題目】加熱條件下,硅單質(zhì)和HCl反應(yīng)生成SiHCl3是粗硅提純的重要步驟.某小組設(shè)計(jì)如圖所示裝置完成上述轉(zhuǎn)化(夾持裝置略去).

已知:SiHCl3的沸點(diǎn)為33.0°C,易溶于有機(jī)溶劑,能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易被氧化,CCl4的沸點(diǎn)為76.8°C.
請(qǐng)回答:
(1)儀器a的名稱(chēng)為;導(dǎo)管g的作用為;
(2)裝置A中,濃硫酸體現(xiàn)的性質(zhì)為;實(shí)驗(yàn)時(shí),需先打開(kāi)分液漏斗活塞,一段時(shí)間后,在點(diǎn)燃C處酒精燈,理由是;
(3)裝置C中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為;
(4)裝置D中所得的液態(tài)混合物的分離方法為 . (填操作名稱(chēng))
(5)反應(yīng)后的氣體通過(guò)裝置F中的NaOH溶液后,對(duì)逸出氣體的處理方法為;
(6)SiHCl3在潮濕的空氣中被氧化,生成一種氧化物和一種無(wú)氧酸,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為

【答案】
(1)蒸餾燒瓶;平衡壓強(qiáng),使?jié)饬蛩崛菀椎渭樱ɑ蚱渌侠泶鸢福?/span>
(2)吸水性;排盡裝置中的空氣,避免SiHCl3與空氣中的水蒸氣反應(yīng)和被O2氧化
(3)Si+3HCl SiHCl3+H2
(4)蒸餾
(5)點(diǎn)燃(或氣囊收集)
(6)2SiHCl3+O2+2H2O═2SiO2+6HCl
【解析】解:(1)儀器a是具有支管的燒瓶,為蒸餾燒瓶,裝置A中的b導(dǎo)管是為了平衡壓強(qiáng)的作用,使分液漏斗中的液體濃硫酸順利流下,
故答案為:蒸餾燒瓶;平衡壓強(qiáng),使?jié)饬蛩崛菀椎渭樱ɑ蚱渌侠泶鸢福唬?)裝置A,蒸餾燒瓶中盛放濃鹽酸,分液漏斗中盛放濃硫酸,利用濃硫酸的吸水性以及氯化氫的揮發(fā)性,打開(kāi)分液漏斗活塞,從A中排出氯化氫氣體,SiHCl3的沸點(diǎn)為33.0°C,易溶于有機(jī)溶劑,能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易被氧化,實(shí)驗(yàn)時(shí),需先打開(kāi)分液漏斗活塞,一段時(shí)間后,在點(diǎn)燃C處酒精燈,排盡裝置中的空氣,避免SiHCl3與空氣中的水蒸氣反應(yīng)和被O2氧化,
故答案為:吸水性; 排盡裝置中的空氣,避免SiHCl3與空氣中的水蒸氣反應(yīng)和被O2氧化;(3)根據(jù)題干信息,硅單質(zhì)和HCl反應(yīng)生成SiHCl3可知,硅和氯化氫反應(yīng)的方程式為:Si+3HCl SiHCl3+H2 ,
故答案為:Si+3HCl SiHCl3+H2;(4)SiHCl3的沸點(diǎn)為33.0°C,易溶于有機(jī)溶劑,制出的SiHCl3可能不純,提純SiHCl3的方法是利用其沸點(diǎn)較低,通過(guò)蒸餾的方法分離得到純凈的SiHCl3 ,
故答案為:蒸餾;(5)硅單質(zhì)和HCl反應(yīng)Si+3HCl SiHCl3+H2 , 粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HCl SiHCl3+H2;裝置F中的氫氧化鈉是為了吸收過(guò)量的氯化氫,通過(guò)裝置F后,剩余氣體為氫氣,氫氣燃燒生成水,可通過(guò)點(diǎn)燃或氣囊收集處理,
故答案為:點(diǎn)燃(或氣囊收集);(6)硅的穩(wěn)定氧化物為二氧化硅,SiHCl3在潮濕的空氣中被氧化,生成一種氧化物為二氧化硅,根據(jù)原子守恒可知一種無(wú)氧酸為氯化氫,所以該反應(yīng)的化學(xué)方程式為:2SiHCl3+O2+2H2O═2SiO2+6HCl,
故答案為:2SiHCl3+O2+2H2O═2SiO2+6HCl.
粗硅提純:裝置A,蒸餾燒瓶中盛放濃鹽酸,分液漏斗中盛放濃硫酸,利用濃硫酸的吸水性以及氯化氫的揮發(fā)性,打開(kāi)分液漏斗活塞,從A中排出氯化氫氣體,排盡裝置中的空氣,裝置B,對(duì)氯化氫氣體進(jìn)行干燥,裝置C,粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HCl SiHCl3+H2;裝置F中的氫氧化鈉是為了吸收過(guò)量的氯化氫,裝置E防止F中的水蒸氣進(jìn)入裝置D與SiHCl3發(fā)生反應(yīng),裝置D收集SiHCl3 , 通過(guò)裝置F后,剩余氣體為氫氣,可通過(guò)點(diǎn)燃或氣囊收集處理. (1)根據(jù)儀器a的特征以及常見(jiàn)儀器的名稱(chēng)解答,裝置A中的b導(dǎo)管是為了平衡壓強(qiáng)的作用;(2)濃硫酸具有吸水性,氯化氫易揮發(fā),SiHCl3能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易被氧化;(3)硅和氯化氫在加熱的條件下反應(yīng)生成和三氯硅烷和氫氣;(4)得到的產(chǎn)物沸點(diǎn)不同,可以控制沸點(diǎn)通過(guò)蒸餾的方法得到SiHCl3;(5)反應(yīng)后的氣體為氫氣,氫氣具有可可燃性,可通過(guò)燃燒或氣囊收集的方法處理尾氣;(6)SiHCl3在潮濕的空氣中被氧化,生成一種氧化物為二氧化硅,一種無(wú)氧酸根據(jù)原子守恒可知為氯化氫.

練習(xí)冊(cè)系列答案
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(1)請(qǐng)完成以下實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)表(表中不要留空格).

實(shí)驗(yàn)編號(hào)

實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/span>

T/K

pH

c/103molL1

H2O2

Fe2+

為以下實(shí)驗(yàn)作參考

298

3

6.0

0.30

探究溫度對(duì)降解反應(yīng)速率的影響

298

10

6.0

0.30


(2)[數(shù)據(jù)處理]實(shí)驗(yàn)測(cè)得p﹣CP的濃度隨時(shí)間變化的關(guān)系如圖.
請(qǐng)根據(jù)如圖實(shí)驗(yàn)①曲線,計(jì)算降解反應(yīng)在50﹣150s內(nèi)的反應(yīng)速率:v(p﹣CP)=
(3)[解釋與結(jié)論]實(shí)驗(yàn)①、②表明溫度升高,降解反應(yīng)速率增大.但溫度過(guò)高時(shí)反而導(dǎo)致降解反應(yīng)速率減小,請(qǐng)從Fenton法所用試劑H2O2的角度分析原因:
(4)實(shí)驗(yàn)③得出的結(jié)論是:pH等于10時(shí),
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已知:①當(dāng)苯環(huán)上連有甲基時(shí),再引入的其他基團(tuán)主要進(jìn)入它的鄰位或?qū)ξ;?dāng)苯環(huán)上連有羧基時(shí),再引入的其他基團(tuán)主要進(jìn)入它的間位。

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請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

1化合物B的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為________。

2反應(yīng)⑦的化學(xué)方程式為______________________________________________

3下列關(guān)于上述合成路線的說(shuō)法正確的是________。

a.反應(yīng)①除了主要生成A物質(zhì)外,還可能生成等;

b.途徑中的步驟①和⑤可以互換;

c.反應(yīng)③的另一產(chǎn)物是H2O;

d.與途徑相比,途徑的缺點(diǎn)是步驟多,產(chǎn)率低;

e.途徑中的步驟③的目的是保護(hù)氨基不被步驟④中的KMnO4酸性溶液氧化。

4途徑中的步驟⑤和⑥能互換嗎?________,理由是_______________________

5苯佐卡因有多種同分異構(gòu)體,其中有2個(gè)對(duì)位取代基,-NH2直接連在苯環(huán)上,分子結(jié)構(gòu)中含有酯基的同分異構(gòu)體有:、________________。

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