氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛.
在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境.該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3+3H2O2
N2
N2
+6H2O
工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H2?2NH3△H<0.某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入濃度均為c(N2)=0.100mol/L,c(H2)=0.300mol/L進行反應(yīng)時,N2的濃度隨時間的變化如下圖①、②、③曲線所示.

(1)該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式
c2(NH3)平衡
c(N2)平衡c3(H2)平衡
c2(NH3)平衡
c(N2)平衡c3(H2)平衡
;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為
40%
40%

(2)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同.請指出,并說明判斷的理由.
②條件:
加了催化劑
加了催化劑
理由:
因為加入催化劑能縮短達到平衡的時間,但化學(xué)平衡不移動所以①②兩裝置達到平衡時N2的濃度相同.
因為加入催化劑能縮短達到平衡的時間,但化學(xué)平衡不移動所以①②兩裝置達到平衡時N2的濃度相同.

③條件:
溫度升高
溫度升高
理由:
該反應(yīng)為放熱反應(yīng),溫度升高,達到平衡的時間縮短,但平衡向逆反應(yīng)方向移動,③中到達平衡時N2的濃度高于①
該反應(yīng)為放熱反應(yīng),溫度升高,達到平衡的時間縮短,但平衡向逆反應(yīng)方向移動,③中到達平衡時N2的濃度高于①
分析:根據(jù)質(zhì)量守恒定律推斷未知物;
(1)化學(xué)平衡常數(shù),是指在一定溫度下,可逆反應(yīng)達到平衡時,各生成物濃度的化學(xué)計量數(shù)次冪的乘積除以各反應(yīng)物濃度的化學(xué)計量數(shù)次冪的乘積所得的比值;
實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為α(H2)=
△c(H2)
c起始(H2)
×100%
(2)②到達平衡的時間比①短,到達平衡時N2的濃度與①相同,化學(xué)平衡不移動;
③到達平衡的時間比①短,到達平衡時N2的濃度高于①,與①相比,平衡向逆反應(yīng)方向移動.
解答:解:根據(jù)質(zhì)量守恒定律,反應(yīng)前后的元素及原子守恒,則推知未知物為N2,故答案為:N2;
(1)該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式k=
c2(NH3)平衡
c(N2)平衡c3(H2)平衡
;
濃度變化量之比等于化學(xué)計量數(shù)之比,所以△c(H2)=3△c(N2)=3×(0.1-0.06 )mol/L=0.12mol/L,
實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為α(H2)=
△c(H2)
c起始(H2)
×100%=
0.12mol/L
0.3mol/L
×100%=40%.
故答案為:
c2(NH3)平衡
c(N2)平衡c3(H2)平衡
;40%;
(2)②到達平衡的時間比①短,到達平衡時N2的濃度與①相同,化學(xué)平衡不移動,故②與①相比加了催化劑,
故答案為:加了催化劑;因為加入催化劑能縮短達到平衡的時間,但化學(xué)平衡不移動所以①②兩裝置達到平衡時N2的濃度相同;
③到達平衡的時間比①短,到達平衡時N2的濃度高于①,與①相比,平衡向逆反應(yīng)方向移動,故③與①相比溫度升高,
故答案為:溫度升高;該反應(yīng)為放熱反應(yīng),溫度升高,達到平衡的時間縮短,但平衡向逆反應(yīng)方向移動,③中到達平衡時N2的濃度高于①.
點評:本題考查了化學(xué)平衡常數(shù)、影響因素及有關(guān)計算等,注意計算平衡常數(shù)時表達式中的濃度為平衡濃度,不是任意時刻的濃度.
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。

(1)在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH+ 3H2O2=        +6H2O

(2)工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH△H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入N2和H2,濃度均為c(N2) = 0.100mol/L, c(H2)= 0.300mol/L,進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如圖①、②、③曲線所示。

該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式為            ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_____       。

(3)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。

②條件:_______      理由:                                     ________

③條件:_______      理由:                                     ________

 

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。

在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3+3H2O2=     +6H2O

工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH△H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入濃度均為C(N2)=0.100mol/L,C(H2)=0.300mol/L進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如下圖①、②、③曲線所示。

(1)該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式            ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_______

(2)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。

②條件:_______      理由:                                     ________

③條件:_______      理由:                                     ________

 

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科目:高中化學(xué) 來源:2010-2011學(xué)年廣東省高三學(xué)年會考(理綜)化學(xué)部分 題型:填空題

(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。

(1)在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH+ 3H2O2=         +6H2O

(2)工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH△H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入N2和H2,濃度均為c(N2) = 0.100mol/L, c(H2) = 0.300mol/L,進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如圖①、②、③曲線所示。

該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式為             ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_____        。

(3)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。

②條件:_______      理由:                                      ________

③條件:_______      理由:                                      ________

 

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科目:高中化學(xué) 來源:2010-2011學(xué)年廣東省中山市高三化學(xué)模擬試卷(九) 題型:填空題

(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。

在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3+3H2O2=      +6H2O

工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH△H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入濃度均為C(N2)=0.100mol/L, C(H2)=0.300mol/L進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如下圖①、②、③曲線所示。

(1)該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式             ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_______

(2)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。

②條件:_______      理由:                                      ________

③條件:_______      理由:                                      ________

 

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