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2010年11月14日，全球超級計算機500強排行榜在美國公布，中國天河一號超級計算機以每秒2570萬億次的實測運算速度，成為世界運算最快的超級計算機。計算機芯片的主要材料是硅，下列有關(guān)硅及化合物的說法正確的是

A．單質(zhì)硅具有良好的導(dǎo)電性能

B．光導(dǎo)纖維的主要成份是二氧化硅

C．二氧化硅是H₂SiO₃的酸酐，因此能與水反應(yīng)，也能與堿溶液反應(yīng)

D．硅酸鹽是由二氧化硅與金屬氧化物組成的混合物

略

練習冊系列答案

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相關(guān)習題

科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

瑞典皇家科學(xué)院宣布，英國華裔科學(xué)家高錕以及兩名美國科學(xué)家威拉德·博伊爾和喬治·史密斯獲得諾貝爾物理學(xué)獎，以獎勵他們在光纖和半導(dǎo)體領(lǐng)域上的開創(chuàng)性研究。下列有關(guān)光導(dǎo)纖維和半導(dǎo)體的說法中錯誤的是

A．二氧化硅是制備光導(dǎo)纖維的主要原料，光導(dǎo)纖維遇強堿會“斷路”

B．作半導(dǎo)體材料的硅位于周期表中第三周期ⅣA族

C．工業(yè)上，利用二氧化硅熱分解法冶煉硅

D．二氧化硅和硅的晶體類型相同

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

青石棉（cricidolite）是世界衛(wèi)生組織確認的一種致癌物質(zhì)。它的化學(xué)式為：Na₂Fe₅Si₈O₂₂(OH)₂，青石棉用稀硝酸溶液處理時，還原產(chǎn)物只有NO，下列說法正確的是

A．青石棉的化學(xué)組成用氧化物的形式可表示為：Na₂O·5FeO·8SiO₂·H₂O

B．該反應(yīng)中氧化產(chǎn)物與還原產(chǎn)物的物質(zhì)的量之比為3︰1

C．青石棉是一種易燃品，且易溶于水

D．適量Na₂Fe₅Si₈O₂₂(OH)₂能完全溶于足量硝酸中，得到澄清透明溶液

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實驗題

（16分）碳和碳的化合物在生產(chǎn)生活實際中應(yīng)用廣泛。運用化學(xué)反應(yīng)原理研究碳的氧化物的性質(zhì)具有重要意義。
（1）常溫下，碳酸在水中的電離常數(shù)K_a1=4.2×10^－⁷，K_a2=5.6×10^－¹¹；次氯酸在水中的電離常數(shù)K_a =

4.7×10^－⁸。寫出向“84消毒液”(主要成分為氯化鈉和次氯酸鈉)中通入二氧化碳發(fā)生反應(yīng)的離子方程式；

（2）上圖為常用筆記本電腦所用的甲醇質(zhì)子交換膜燃料電池的結(jié)構(gòu)示

意圖。電池總反應(yīng)為2CH₃OH＋3O₂

2CO₂＋4H₂O。該裝置放電時（填“a”或“b”）為電池的負極，其電極反應(yīng)式為；
（3）CO具有還原性，某化學(xué)研究小組為證明CO具有還原性，設(shè)計了如圖所示的實驗裝置。

已知：C + H₂O

CO+H₂ CO + H₂O

CO₂ +

H₂ C + CO₂

2CO
試回答下列問題:
①裝置B中最適宜的試劑是               ，必須用裝置C吸收氣體中的水蒸氣的理由是                                                                   ；
②根據(jù)該實驗中的                             現(xiàn)象，可證明CO具有還原性；
③若要根據(jù)裝置F中石灰水變渾濁的現(xiàn)象準確確認CO具有還原性，則應(yīng)在上圖裝置    與     之間(填字母標號)連接下圖中的          裝置(選填序號)。

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：單選題

計算機是現(xiàn)代非常重要的一種通訊工具,用于制造計算芯片的材料是

A．Na₂CO₃

B．Si

C．CaCO₃

D．SiO₂

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科目：高中化學(xué) 來源：不詳 題型：實驗題

工業(yè)上用“三氯氫硅還原法”制備純硅的工業(yè)流程如圖：

（1）石英砂的主要成分是（填化學(xué)式），在制備粗硅時焦炭的作用是。
（2）制備三氯氫硅的反應(yīng)：
Si（s）+3HCl（g）

SiHCl3（g）+H2（g）

伴隨的副反應(yīng)為：
Si（s）+4HCl（g）

SiCl4（g）+2H2（g）

已知SiHCl3和SiCl4常溫下均為液體，工業(yè)上分離SiHCl3和SiCl4的操作方法
為        ；
寫出SiHCl3（g）和HCl反應(yīng)生成SiCl4（g）和H2的熱化學(xué)方程式        。
（3）該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是        。
（4）實驗室用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下圖（熱源及夾持裝置略去）.已知SiHCl3能與H2O強烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。
①裝置B中的試劑是        （填名稱），裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是         。