若用CuSO4·5H2O晶體配制450 mL 0.2mol/L 的CuSO4溶液，需要CuSO4·5H2O晶體的質(zhì)量為（  ）

    A、25g          B、16g         C、9g           D、22.5g 

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

25℃時(shí)，用兩個(gè)質(zhì)量相同的銅棒作電極，電解500mL 0.1mol?L-1 H2SO4溶液，電解過(guò)程中，電解液的pH變化如表所示（假定溶液溫度保持不變）．電解2h后，取出電極，對(duì)電極進(jìn)行干燥，并稱量，測(cè)得兩電極的質(zhì)量差為9.6g．已知，25℃時(shí)0.1mol?L-1 CuSO4溶液的pH為4.17．
時(shí)間/h 0.5 1 1.5 2
pH 1.3 2.4 3.0 3.0
（1）實(shí)驗(yàn)剛開(kāi)始階段電解池陰極所發(fā)生反應(yīng)的電極反應(yīng)式為
2H++2e-═H2↑
2H++2e-═H2↑
．
（2）電解進(jìn)行到1.5h后，電解質(zhì)溶液的pH不再發(fā)生變化的原因是
電解持續(xù)進(jìn)行，H+電解完后，電解過(guò)程發(fā)生轉(zhuǎn)變，陽(yáng)極反應(yīng)式為Cu-2e-═Cu2+，陰極反應(yīng)式為Cu2++2e-═Cu，電解質(zhì)溶液的組成、濃度不再發(fā)生變化，溶液的pH也不再發(fā)生變化
電解持續(xù)進(jìn)行，H+電解完后，電解過(guò)程發(fā)生轉(zhuǎn)變，陽(yáng)極反應(yīng)式為Cu-2e-═Cu2+，陰極反應(yīng)式為Cu2++2e-═Cu，電解質(zhì)溶液的組成、濃度不再發(fā)生變化，溶液的pH也不再發(fā)生變化
；用離子反應(yīng)方程式表示0.1mol?L-1 CuSO4溶液的pH為4.17的原因
Cu2++2H2?Cu（OH）2+2H+
Cu2++2H2?Cu（OH）2+2H+
．
（3）電解進(jìn)行的2h中，轉(zhuǎn)移電子的總物質(zhì)的量
＞
＞
0.15mol（填“＜”、“=”或“＞”）．
（4）若欲使所得電解質(zhì)溶液復(fù)原到500mL 0.1mol?L-1 H2SO4溶液，應(yīng)對(duì)溶液進(jìn)行怎樣處理？
向溶液中通入約0.05mol H2S
向溶液中通入約0.05mol H2S
．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

(08上海松江區(qū)模擬)過(guò)碳酸鈉是由碳酸鈉和過(guò)氧化氫復(fù)合形成的一種新型氧系漂白劑，具有碳酸鈉和過(guò)氧化氫的雙重性質(zhì)，其分子式為2Na2CO3?3H2O2，已知過(guò)渡元素的金屬離子可作為催化劑使之分解。

它的制備原理和濕法生產(chǎn)路線如下：2Na2CO3 + 3H2O2 → 2 Na2CO3?3H2O2

 
 

 

 

 

 

 

 

 

 


回答下列問(wèn)題：

（1）反應(yīng)控制在0～5℃條件下進(jìn)行，其主要原因是                            ，流程中的“分離”指的是實(shí)驗(yàn)操作中的        ；

（2）工業(yè)碳酸鈉中一般含有少量錳、銅等金屬離子（用M2+表示），加入穩(wěn)定劑的作用是將M2+沉淀而除去，M2+對(duì)產(chǎn)品的不良影響是                                   ，

若加入的穩(wěn)定劑是Na2SiO3，反應(yīng)的離子方程式為                                 ；

（3）加入的食鹽為鹽析劑，其原理是降低過(guò)碳酸鈉的溶解度使之析出。鹽析是物理變化還是化學(xué)變化？                    ；

（4）過(guò)碳酸鈉在生產(chǎn)上的應(yīng)用是利用它分解所釋放的H2O2。以銅為原料用H2O2氧化是工業(yè)上制膽礬的方法之一。做法是：

將銅絲放到一定量的稀硫酸中，控溫在50℃，加入一定量的H2O2溶液，反應(yīng)0.5h后，升溫到60℃，再持續(xù)反應(yīng)1 h，過(guò)濾后取濾液，再經(jīng)過(guò)“某些操作”、減壓抽濾，用少量95%的酒精淋洗后晾干，可得CuSO4?5H2O。

①在反應(yīng)中，起氧化作用的是H2O2，寫出H2O2在稀硫酸中氧化單質(zhì)銅的化學(xué)反應(yīng)方程式                                               ；

②處理濾液時(shí)的“某些操作”指的是                         ；

③晶體采用酒精淋洗的優(yōu)點(diǎn)是                                              。

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