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(1) |
[解題思路]本題主要考查制取純硅過程中H2還原SiCl4的實驗,解題過程中要充分利用題干所給信息,去考慮裝置的設(shè)計、優(yōu)化所應(yīng)采取的措施.如SiCl4沸點低(57.6),故要使其逸出燒瓶與H2反應(yīng),則需對燒瓶B進(jìn)行水浴加熱,,由于H2還原SiCl4的實驗是在某些方面1000—1100℃的高溫下進(jìn)行的,在此溫度下普通玻璃管會軟化,故需用石英玻璃管,由SiCl4易水解生成硅酸和氯化氫,不難想到尾氣應(yīng)通入NaOH溶液中;而H2從A逸出時會帶出水蒸氣,使B中SiCl4發(fā)生水解影響實驗,所以可以想到應(yīng)在A、B之間加一個干燥裝置 對裝置B水浴加熱 |
(2) |
在1000—1100℃時普通玻璃管會軟化,SiO2 |
(3) |
B中液面上方產(chǎn)生少量白色煙霧,液體中有少量白色皎狀物生成 |
(4) |
NaOH,SiCl4+6NaOH=Na2SiO3+4NaCl+3H2O |
(5) |
在裝置A與B之間連接一盛有濃硫酸的洗氣瓶(或盛有堿石灰的干燥管) |
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解
A-B | A=B | A≡B | ||
CO | 鍵能(kJ?mol-1) | 357.7 | 798.9 | 1071.9 |
鍵能差值(kJ?mol-1) | 441.2 273 | |||
N2 | 鍵能(kJ?mol-1) | 154.8 | 418.3 | 941.7 |
鍵能差值(kJ?mol-1) | 263.6 523.3 |
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科目:高中化學(xué) 來源:2011-2012學(xué)年河北省高三上學(xué)期第二次月考化學(xué)試卷 題型:選擇題
甲、乙、丙是三種常見單質(zhì),X、Y、Z是常見化合物,他們之間有如下轉(zhuǎn)化關(guān)系:
已知甲是短周期金屬單質(zhì),乙、丙是短周期非金屬單質(zhì),X、Y、Z中只有一種是離子晶體。下列說法不正確的是
A.X是具有極性鍵的非極性分子 B.Z是水煤氣的主要成分之一
C.甲和X的反應(yīng)是吸熱反應(yīng) D.丙是生產(chǎn)硅的重要原料
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科目:高中化學(xué) 來源:2011年福建省福州三中高考化學(xué)練習(xí)試卷(解析版) 題型:解答題
A-B | A=B | A≡B | ||
CO | 鍵能 | 357.7 | 798.9 | 1071.9 |
鍵能差值 | 441.2 273 | |||
N2 | 鍵能 | 154.8 | 418.3 | 941.7 |
鍵能差值 | 263.6 523.3 |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
甲、乙、丙是三種常見單質(zhì),X、Y、Z是常見化合物,他們之間有如下轉(zhuǎn)化關(guān)系:
已知甲是短周期金屬單質(zhì),乙、丙是短周期非金屬單質(zhì),X、Y、Z中只有一種是離子晶體。下列說法不正確的是
A.X是具有極性鍵的非極性分子 B.Z是水煤氣的主要成分之一
C.甲和X的反應(yīng)是吸熱反應(yīng) D.丙是生產(chǎn)硅的重要原料
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科目:高中化學(xué) 來源:2012屆河北省三河一中高三上學(xué)期第二次月考化學(xué)試卷 題型:單選題
甲、乙、丙是三種常見單質(zhì),X、Y、Z是常見化合物,他們之間有如下轉(zhuǎn)化關(guān)系:
已知甲是短周期金屬單質(zhì),乙、丙是短周期非金屬單質(zhì),X、Y、Z中只有一種是離子晶體。下列說法不正確的是
A.X是具有極性鍵的非極性分子 | B.Z是水煤氣的主要成分之一 |
C.甲和X的反應(yīng)是吸熱反應(yīng) | D.丙是生產(chǎn)硅的重要原料 |
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