下列實驗裝置圖和相關(guān)操作正確的是

      

C


解析:

在A項中,稱量氫氧化鈉固體時,氫氧化鈉是不能直接放在濾紙上進(jìn)行稱量,因為氫氧化鈉固體易潮解,應(yīng)放在小燒杯中進(jìn)行稱量。在B項中,將溶液轉(zhuǎn)移到容量瓶中時,應(yīng)用玻璃棒進(jìn)行引流,它沒有用玻璃棒進(jìn)行引流; C項,HCl氣體出口不和水接觸.可防止倒吸. 在D項中,分離硝酸鉀與氯化鈉不能用蒸餾法,應(yīng)用降溫結(jié)晶法。

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解

(2011?武漢模擬)某實驗小組欲制取氧化銅并證明氧化銅能加快氯酸鉀的分解,進(jìn)行了如下實驗:
(一)制取氧化銅
①稱取2gCuSO4?5H2O研細(xì)后倒入燒杯,加10mL蒸餾水溶解;
②向上述CuSO4溶液中逐滴加入NaOH溶液,直到不再產(chǎn)生沉淀,然后將所得混合物轉(zhuǎn)移到蒸發(fā)皿,加熱至沉淀全部變?yōu)楹谏?BR>③將步驟②所得混合物過濾、洗滌,晾干后研細(xì)備用.
回答下列問題:
(1)上述實驗步驟中需要使用玻璃棒的是
①②③
①②③
(填實驗序號),步驟①、③中研磨固體所用儀器的名稱是
研缽
研缽
;
(2)步驟③中洗滌沉淀的操作是
沿玻璃棒向漏斗中沉淀加蒸餾水至浸沒沉淀,待水自然流出后,重復(fù)2-3次,
沿玻璃棒向漏斗中沉淀加蒸餾水至浸沒沉淀,待水自然流出后,重復(fù)2-3次,

(二)證明氧化銅能加快氯酸鉀的分解并與二氧化錳的催化效果進(jìn)行比較,用右圖裝置進(jìn)行實驗,實驗時均以生成25mL氣體為準(zhǔn),其它可能影響實驗的因素均已忽略,相關(guān)數(shù)據(jù)見表:
實驗序號 KClO3質(zhì)量 其它物質(zhì)質(zhì)量 待測數(shù)據(jù)
1.2g 無其他物質(zhì)
1.2g CuO  0.5g
1.2g MnO2  0.5g
回答下列問題:
(3)上述實驗中的“待測數(shù)據(jù)”指
產(chǎn)生25mL氣體所需時間
產(chǎn)生25mL氣體所需時間

(4)本實驗裝置圖中量氣裝置B由干燥管、乳膠管和50mL滴定管改造后組裝而成,此處所用滴定管是
堿式
堿式
(填“酸式”或“堿式”)滴定管;
(5)若要證明實驗⑤中干燥管內(nèi)收集的氣體是O2,可待氣體收集結(jié)束后,用彈簧夾夾住B中乳膠管,拔去干燥管上單孔橡皮塞,
用帶火星的木條靠近,若復(fù)燃則證明收集的氣體是氧氣.
用帶火星的木條靠近,若復(fù)燃則證明收集的氣體是氧氣.
;
(6)為探究CuO在實驗⑤中是否起催化作用,需補(bǔ)做如下實驗(無需寫出具體操作):
a.
檢測CuO反應(yīng)前后質(zhì)量是否改變
檢測CuO反應(yīng)前后質(zhì)量是否改變
,b.CuO的化學(xué)性質(zhì)有沒有改變.

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

用下列實驗裝置進(jìn)行的相關(guān)實驗,能達(dá)到實驗?zāi)康氖牵ā 。?br />精英家教網(wǎng)
A、用圖1所示裝置除去Cl2中含有的少量HClB、用圖2所示裝置蒸干NH4HCO3飽和溶液制備NH4HCO3晶體C、用圖3所示裝置制取少量純凈的CO2氣體D、用圖4所示裝置分離CCl4萃取碘水后已分層的有機(jī)層和水層

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源:2013-2014學(xué)年云南省部分名校高三第一次聯(lián)考(11月)理綜化學(xué)試卷(解析版) 題型:實驗題

高純度單晶硅是典型的無機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計算機(jī)的一場“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置圖。

相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點/℃

57.7

12.8

315

熔點/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

 

請回答下列問題:

(1)儀器e的名稱為               ,裝置A中f管的作用是                           ,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為                                              。

(2)裝置B中的試劑是                     

(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計了以下兩種實驗方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請你評價后填寫下表。

方案

不足之處

 

 

 

(4)在上述(3)的評價基礎(chǔ)上,請設(shè)計一個合理方案:                                   。

(5)通過上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是            (填寫元素符號)。

 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源:2014屆甘肅省高三上學(xué)期期中考試?yán)砭C化學(xué)試(解析版) 題型:實驗題

高純度單晶硅是典型的無機(jī)非金屬材料,是制備半導(dǎo)體的重要材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計算機(jī)的一場“革命”。高純硅通常用以下方法制備:用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含F(xiàn)e、Al、B、P等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置圖。

相關(guān)信息:a.四氯化硅遇水極易水解;b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接化合生成相應(yīng)的氯化物;c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點/℃

57.7

12.8

315

熔點/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

 

請回答下列問題:

(1)儀器e的名稱為____________,裝置A中f管的作用是_______________________________________,其中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_____        ____________________________________     _______。

(2)裝置B中的試劑是____________。

(3)某學(xué)習(xí)小組設(shè)計了以下兩種實驗方案:方案甲:g接裝置Ⅰ;方案乙:g接裝置Ⅱ。但是甲乙兩個方案中虛線內(nèi)裝置均有不足之處,請你評價后填寫下表。

方案

不足之處

 

 

 

(4)在上述(3)的評價基礎(chǔ)上,請設(shè)計一個合理方案:___________     ________                  。

(5)通過上述合理的裝置制取并收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是    (填寫元素符號)。

 

查看答案和解析>>

同步練習(xí)冊答案