某工廠用FeCl3溶液腐蝕鍍有銅的絕緣板生產(chǎn)印刷電路.課外活動(dòng)小組為確認(rèn)生產(chǎn)后的廢液的組成,進(jìn)行如下實(shí)驗(yàn):
(1)取10mL廢液加入足量的AgNO3溶液,生成沉淀 0.06mol
(2)另取10mL廢液放入銅片充分反應(yīng),銅片質(zhì)量減少了0.256g.
下列關(guān)于原廢液組成的判斷正確的是( 。
A、一定只有Fe2+、Fe3+、Cl-B、c(Fe2+):c(Cu2+)=1:3C、c(Fe2+):c(Fe3+)=3:2D、c(Cl-)=6mol/L,c(Fe2+)=1.2mol/L
分析:廢液加入足量的AgNO3溶液,生成沉淀0.06mol,沉淀為AgCl,根據(jù)氯元素守恒計(jì)算溶液中n(Cl-),再根據(jù)c=
n
V
計(jì)算原廢液中c(Cl-);
廢液放入銅片充分反應(yīng),銅片質(zhì)量減少了0.256g,說明溶液中含有Fe3+,根據(jù)銅片減少的質(zhì)量結(jié)合方程式計(jì)算溶液中Fe3+的物質(zhì)的量,進(jìn)而計(jì)算原廢液中c(Fe 3+);
由方程式2FeCl3+Cu═2FeCl2+CuCl2可知,原廢液中c(Fe2+)=2c(Cu2+);
根據(jù)電荷守恒,原廢液中3c(Fe 3+)+2c(Fe2+)+2c(Cu2+)=c(Cl-),據(jù)此計(jì)算原廢液中c(Fe2+)、c(Cu2+).
解答:解:A、廢液放入銅片充分反應(yīng),銅片質(zhì)量減少了0.256g,說明溶液中含有Fe3+,結(jié)合反應(yīng)2FeCl3+Cu═2FeCl2+CuCl2可知,原廢液一定含有Fe2+、Fe3+、Cu2+、Cl-,故A錯(cuò)誤;
B、由方程式2FeCl3+Cu═2FeCl2+CuCl2可知,原廢液中c(Fe2+)=2c(Cu2+),c(Fe2+):c(Cu2+)=2:1,故B錯(cuò)誤;
C、廢液加入足量的AgNO3溶液,生成沉淀 0.06mol,沉淀為AgCl,原廢液中c(Cl-)=
0.06mol
0.01L
=6mol/L,廢液放入銅片充分反應(yīng),銅片質(zhì)量減少了0.256g,物質(zhì)的量為
0.256g
64g/mol
=0.004mol,10mL廢液中Fe3+為nmol,則:
2FeCl3+Cu═2FeCl2+CuCl2
2       1
nmol  0.004mol
故n=0.008mol,所以原廢液中c(Fe3+)=
0.008mol
0.01L
=0.8mol/L,
由方程式2FeCl3+Cu═2FeCl2+CuCl2可知,原廢液中c(Fe2+)=2c(Cu2+),根據(jù)電荷守恒,原廢液中3c(Fe3+)+2c(Fe2+)+2c(Cu2+)=c(Cl-),故3×0.8+2c(Fe2+)+c(Fe2+)=6,解得c(Fe2+)=1.2mol/L,故原廢液中c(Fe2+):c(Fe3+)=1.2mol/L:0.08mol/L=3:2,故C正確;
D、由C中分析可知,c(Cl-)=6mol/L,c(Fe2+)=1.2mol/L,故D正確;
故選CD.
點(diǎn)評(píng):本題考查根據(jù)方程式的計(jì)算、混合溶液的有關(guān)計(jì)算等,題目難度中等,選項(xiàng)C為難點(diǎn)、易錯(cuò)點(diǎn),注意電荷守恒的運(yùn)用,試題培養(yǎng)了學(xué)生的分析、理解能力及靈活應(yīng)用所學(xué)知識(shí)的能力.
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

某工廠用FeCl3溶液腐蝕鍍有銅的絕緣板生產(chǎn)印刷電路.課外活動(dòng)小組為確認(rèn)生產(chǎn)后的廢液的組成,進(jìn)行如下實(shí)驗(yàn):
Ⅰ.取50mL廢液稀釋配成250mL溶液.
Ⅱ.從250mL稀釋溶液取25mL加入足量的AgNO3溶液,生成不溶于硝酸的沉淀8.61g.
Ⅲ.另從250mL稀釋溶液取25mL放入銅片充分反應(yīng),銅片質(zhì)量減少了0.256g.
(1)操作I是配制物質(zhì)的量濃度溶液,所用到的玻璃儀器除燒杯、玻璃棒外,還必須有
量筒
量筒
、
250ml容量瓶、膠頭滴管
250ml容量瓶、膠頭滴管
.(填儀器名稱)
(2)下列操作可能使所配溶液濃度偏小的是
①④
①④
(填寫序號(hào)).
①未洗滌燒杯和玻璃棒
②定容時(shí)俯視容量瓶的刻度線
③配溶液前容量瓶中有少量蒸餾水
④搖勻后,發(fā)現(xiàn)液面低于刻度線后繼續(xù)加水至凹液面與刻度線相切
(3)操作Ⅱ中檢驗(yàn)沉淀是否已經(jīng)洗滌干凈的操作是
取少量最后一次洗出液,滴加AgNO3溶液,若無沉淀生成,則證明洗滌干凈
取少量最后一次洗出液,滴加AgNO3溶液,若無沉淀生成,則證明洗滌干凈

(4)原廢液中氯離子的物質(zhì)的量濃度是
12mol/l
12mol/l

(5)原廢液中三種陽離子濃度比值c(Fe3+):c(Fe2+):c(Cu2+)為
49:2:1
49:2:1

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科目:高中化學(xué) 來源:2012-2013學(xué)年廣東省廣州市番禺區(qū)高三統(tǒng)考(一)理綜化學(xué)試卷(解析版) 題型:實(shí)驗(yàn)題

某工廠廢液中含有苯酚、乙酸,實(shí)驗(yàn)小組對(duì)該廢液進(jìn)行探究,設(shè)計(jì)如下方案:

己知熔點(diǎn):乙酸16.6℃、苯酚43℃。沸點(diǎn):乙酸118℃、苯酚182℃。

(1)寫出②的反應(yīng)化學(xué)方程式                                       

(2)②中分離B的操作名稱是                                        。

(3)現(xiàn)對(duì)物質(zhì)C的性質(zhì)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)探究,請(qǐng)你幫助實(shí)驗(yàn)小組按要求完成實(shí)驗(yàn)過程記錄,在答題卡上填寫出實(shí)驗(yàn)操作、預(yù)期現(xiàn)象和現(xiàn)象解釋。

限選試劑:蒸餾水、稀HNO3、2moL·L—1NaOH、0.1 mol •L—1KSCN、酸性KMnO4溶      液、FeCl3溶液、飽和溴水、紫色石蕊試液。

實(shí)驗(yàn)操作

預(yù)期現(xiàn)象

現(xiàn)象解釋

步驟1:取少量C放入a試管,加入少量蒸餾水,振蕩。

 

                

 

                   

 

                    

 

                    

步驟2:取少量C的稀溶液分裝b、c兩支試管,往b試管         

                             

 

產(chǎn)生白色沉淀

                                 

 

                       

 

                       

步驟3:往c試管               

 

                             

              

 

               

C與加入的試劑發(fā)生顯色反應(yīng)。

 

(4)稱取一定量的C試樣,用水溶解后全部轉(zhuǎn)移至1000mL容量瓶中定容。取此溶液  25.00mL,加入濃度為0.0500 moL·L1的溴水溶液30.00mL,放置。待反應(yīng)完全后,加入過量的KI,再用0.1100 moL•L1Na2S2O3標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定生成的I2,耗去Na2S2O3標(biāo)準(zhǔn)溶液11.80mL。則試樣中C物質(zhì)的量的計(jì)算表達(dá)式為:               。  (部分反應(yīng)離子方程式:I2+2S2O32—=2I+S4O62—

 

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:解答題

某工廠用FeCl3溶液腐蝕鍍有銅的絕緣板生產(chǎn)印刷電路.課外活動(dòng)小組為確認(rèn)生產(chǎn)后的廢液的組成,進(jìn)行如下實(shí)驗(yàn):
Ⅰ.取50mL廢液稀釋配成250mL溶液.
Ⅱ.從250mL稀釋溶液取25mL加入足量的AgNO3溶液,生成不溶于硝酸的沉淀8.61g.
Ⅲ.另從250mL稀釋溶液取25mL放入銅片充分反應(yīng),銅片質(zhì)量減少了0.256g.
(1)操作I是配制物質(zhì)的量濃度溶液,所用到的玻璃儀器除燒杯、玻璃棒外,還必須有______、______.(填儀器名稱)
(2)下列操作可能使所配溶液濃度偏小的是______(填寫序號(hào)).
①未洗滌燒杯和玻璃棒
②定容時(shí)俯視容量瓶的刻度線
③配溶液前容量瓶中有少量蒸餾水
④搖勻后,發(fā)現(xiàn)液面低于刻度線后繼續(xù)加水至凹液面與刻度線相切
(3)操作Ⅱ中檢驗(yàn)沉淀是否已經(jīng)洗滌干凈的操作是______.
(4)原廢液中氯離子的物質(zhì)的量濃度是______.
(5)原廢液中三種陽離子濃度比值c(Fe3+):c(Fe2+):c(Cu2+)為______.

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