Question

工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：
SiCl₄(g)＋2H₂(g)Si(s)＋4HCl(g)；ΔH＝＋Q kJ·mol^－1（Q＞0）
某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行該反應(yīng)，下列敘述正確的是

A．反應(yīng)過(guò)程中，若增大壓強(qiáng)因?yàn)榉磻?yīng)速率增大，所以能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B．已知，一定溫度下，反應(yīng)的平衡常數(shù)（k）為定值，若向已經(jīng)達(dá)到平衡狀態(tài)的容器中再次加入四種物質(zhì)，若＞k，平衡就要向正反應(yīng)方向移動(dòng)

C．反應(yīng)至4 min時(shí)，若HCl的濃度為0.12 mol·L－1，則H2的反應(yīng)速率為0.03 mol/(L·min)

D．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025Q kJ時(shí)，生成的HCl可被100 mL 1 mol·L－1的NaOH溶液恰好完全吸收

Answer 1

D

解析試題分析：正反應(yīng)是體積減小的可逆反應(yīng)，所以增大壓強(qiáng)平衡平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng)，反應(yīng)物的轉(zhuǎn)化率降低，A不正確；B不正確，應(yīng)該是向逆反應(yīng)方向移動(dòng)；C不正確，氫氣的濃度變化量是0.12mol/L÷2＝0.06mol/L，所以氫氣的反應(yīng)速率是0.06mol/L÷4min＝0.015 mol/(L·min)；反應(yīng)吸收熱量為0.025Q kJ時(shí)，生成的HCl是0.1mol，恰好和0.1mol氫氧化鈉反應(yīng)，D正確，答案選D。
考點(diǎn)：考查外界條件對(duì)反應(yīng)速率和平衡狀態(tài)的影響以及反應(yīng)熱的有關(guān)計(jì)算等
點(diǎn)評(píng)：在判斷外界條件對(duì)反應(yīng)速率的影響時(shí)，應(yīng)該利用勒夏特列原理進(jìn)行分析和判斷。