室溫下,有以下四種溶液:①pH=2的HCl溶液;②pH=2的NH4Cl溶液;③pH=12的NaOH;④pH=12的CH3COONa溶液.請回答下列問題:
(1)①④溶液中由水電離出來的c(H+)的比是:
10-10:1
10-10:1

(2)將②③溶液等體積混合后,溶液的pH
7 (填“>”“<”或“=”).
(3)將①④溶液均稀釋至原來的10倍后,它們的pH之和
14(填“>”“<”或“=”)
(4)向300mL溶液③中通入44.8mL CO2(標準狀況)氣體,充分反應后,溶液中粒子濃度關系正確的是
AD
AD

A、c(Na+)+c(H+)=c(OH-)+c(HCO3-)+2c(CO32-
B、2c(Na+)=3c(HCO3-)+c(CO32-)+c(H2CO3
C、c(Na+)>c(CO32-)>c(HCO3-)>c(OH-)>c(H+
D、c(Na+)>c(HCO3-)>c(CO32-)>c(OH-)>c(H+
分析:(1)依據(jù)①④溶液pH和水的離子積分析計算;
(2)②③溶液等體積混合后氫氧根離子和平衡狀態(tài)下氫離子恰好反應,促進銨根離子的水解平衡正向進行,溶液呈酸性;
(3)將①④溶液均稀釋至原來的10倍后,醋酸根離子水解,pH=12的CH3COONa溶液的pH大于11;
(4)向300mL溶液③PH=12的NaOH中通入44.8mL CO2(標準狀況)氣體,充分反應后依據(jù)二氧化碳和氫氧化鈉定量關系降低判斷產(chǎn)物;依據(jù)產(chǎn)物在溶液中離子濃度大。
解答:解:(1)①pH=2的HCl溶液中C(H+)=10-2mol/L,由C(H+)?C(OH-)=10-14可知溶液中水電離出的氫離子濃度為=
10-14
10-2
=10-10mol/L;
④pH=12的CH3COONa溶液C(H+)=10-12mol/L,由C(H+)?C(OH-)=10-14可知溶液中水電離出的氫離子濃度等于水電離出的氫氧根離子濃度=
10-14
10-12
=10-2mol/L;
①④溶液中由水電離出來的C(H+)的比=10-10mol/L:10-2mol/L=10-12:1,故答案為:10-12:1;
(2)將②pH=2的NH4Cl溶液、③pH=12的NaOH溶液等體積混合后,氫氧根離子和平衡狀態(tài)下氫離子恰好反應,促進銨根離子的水解平衡正向進行,溶液呈酸性,其pH<7,故答案為:<;
(3)①pH=2的HCl溶液、④pH=12的CH3COONa溶液;溶液均稀釋至原來的10倍后,由于醋酸根離子水解,稀釋促進水解,溶液中pH大于11,故pH之和>14,故答案為:>;
(4)向300mL溶液③pH=12的NaOH中通入44.8mL CO2(標準狀況)氣體,n(NaOH)=0.003mol;n(CO2)=0.002mol;
充分反應后,可能發(fā)生反應為:CO2+2NaOH=Na2CO3+H2O;CO2+NaOH=NaHCO3;1:2<n(CO2):n(NaOH)=2:3<1:1;所以產(chǎn)物為碳酸鈉和碳酸氫鈉;設Na2CO3物質的量為x;NaHCO3物質的量為x;
得到:
x+y=0.002
2x+y=0.003
x=0.001mol
y=0.001mol
溶液中含有等物質的量的碳酸鈉和碳酸氫鈉,溶液中離子濃度關系:
A、溶液中的電荷守恒,故A正確;
B、依據(jù)物料守恒和溶液中電荷守恒:3C(Na+)=2C(HCO3-)+2C(CO32-)+2C(H2CO3),故B錯誤;
C、溶液中碳酸根離子水解程度大于碳酸氫根離子水解程度,故C錯誤;
D、溶液中碳酸根離子水解程度大于碳酸氫根離子水解程度,故D正確;
故答案為:AD.
點評:本題考查了溶液PH的計算判斷應用,弱電解質的電離平衡,鹽類水解的應用,溶液稀釋計算判斷溶液酸堿性,離子濃度大小比較,化學反應產(chǎn)物的判斷計算,較難.
練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源:2013-2014學年陜西省高三上學期第三次教學質量檢測理綜化學試卷(解析版) 題型:實驗題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(如某些有機物,無機鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應25~35 min,效果良好;卮鹣铝袉栴}

Ⅰ.(1)寫出晶片制絨反應的離子方程式               ,對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型,他指出Si與NaOH溶液的反應,首先是Si與OH反應,生成SiO44,然后SiO44迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應中氧化劑為                   。

(2)本校化學興趣小組同學,為驗證Seidel的理論是否正確,完成以下實驗:

 

實驗事實

事實一

水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。

事實三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實四

在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點著后燜燒,可劇烈放出H2。

事實五

1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。

結論:從實驗上說明堿性水溶液條件下,H2O可作                劑;NaOH作_____             劑,降低反應             。高溫無水環(huán)境下,NaOH作               劑。

Ⅱ.在工業(yè)中利用鎂制取硅:2Mg+SiO22MgO+Si,同時有副反應發(fā)生:2Mg+SiMg2Si,Mg2Si遇鹽酸迅速反應生成SiH4(硅烷),SiH4在常溫下是一種不穩(wěn)定、易分解的氣體。如圖是進行Mg與SiO2反應的實驗裝置:

由于氧氣的存在對該實驗有較大影響,實驗中應通入氣體X作為保護氣,試管中的固體藥品可選用________(填序號)。        a.石灰石   b.鋅!  .純堿

(4)實驗開始時,必須先通入X氣體,再加熱反應物,其理由是______________________________,當反應開始后,移走酒精燈反應能繼續(xù)進行,其原因是___________________________。

(5)反應結束后,待冷卻至常溫時,往反應后的混合物中加入稀鹽酸?捎^察到閃亮的火星,產(chǎn)生此現(xiàn)象的原因用化學方程式表示為_______________________________________。

 

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科目:高中化學 來源:2014屆浙江省杭州市七校高三上學期期中聯(lián)考化學試卷(解析版) 題型:填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(如某些有機物,無機鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH,Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應25~35 min,效果良好。

回答下列問題

(1)能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液,為什么?用化學方程式加以解釋                           

(2)寫出晶片制絨反應的離子方程式                                    ,對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型,他指出Si與NaOH溶液的反應,首先是Si與OH反應,生成SiO44,然后SiO44迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應中氧化劑為                     。

(3)本校化學興趣小組同學,為驗證Seidel的理論是否正確,完成以下實驗:

 

實驗事實

事實一

水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。

事實三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實四

在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點著后燜燒,可劇烈放出H2。

事實五

1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。

 

結論:從實驗上說明堿性水溶液條件下,H2O可作                 劑;NaOH作               劑,降低反應             。高溫無水環(huán)境下,NaOH作               劑。

(4)在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷(SiH4)與氨氣(NH3)在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體,常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                

A.在使用硅烷時要注意隔離空氣和水,SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應生成H2

B.硅烷與氨氣反應的化學方程式為:3SiH4+4NH3=Si3N4+12H2↑,反應中NH3作氧化劑;

C.它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能,化學穩(wěn)定性很好,不與任何酸、堿反應;

D.氮化硅晶體中只存在共價鍵,Si3N4是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

 

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科目:高中化學 來源: 題型:閱讀理解

不同物質的溶解度會隨溫度的變化而發(fā)生不同的變化,利用這一性質,我們可以將物質進行分離和提純。工業(yè)上制取
硝酸鉀就是利用了該原理。請你回答以下問題:

1.右圖是幾種鹽的溶解度曲線,下列說法正確是   

(A)40℃時,將35克食鹽溶于100克水中,降溫至0℃時,可析 出氯化鈉晶體
 (B)20℃時,硝酸鉀飽和溶液的質量百分比濃度是31.6%
 (C)60℃時,200克水中溶解80克硫酸銅達飽和.當降溫至30℃時,可析出30克硫酸銅晶體
  (D)30℃時,將35克硝酸鉀和35克食鹽同時溶于100克水中, 蒸發(fā)時,先析出的是氯化鈉

2.從右圖曲線中可以分析得到KNO3和NaCl的溶解度隨溫度變化的關系是                                   

3.請?zhí)顚懣瞻住?/p>

步驟

操作

具體操作步驟

現(xiàn)象解釋結論等

 

 

溶解

取20克NaNO3和17克KCl溶解在35ml水中,加熱至沸,并不斷攪拌。

NaNO3和KCl溶于水后產(chǎn)生四種離子,這四種離子可能組成四種物質     、       、     、     。這四種物質在不同溫度下的溶解度特點                            

蒸發(fā)

繼續(xù)加熱攪拌,使溶液蒸發(fā)濃縮。

            晶體析出。

 

當溶液體積減少到約原來的一半時,迅速趁熱過濾

濾液中的最主要成分為         。

冷卻

將濾液冷卻至室溫。

       晶體析出。尚有少量的   析出。

 

按有關要求進行操作

得到初產(chǎn)品硝酸鉀晶體(稱量為m1

 

 

將得到的初產(chǎn)品硝酸鉀晶體溶于適量的水中,加熱、攪拌,待全部溶解后停止加熱,使溶液冷卻至室溫后抽濾。

 

得到純度較高的硝酸鉀晶體(稱量為m2

 

檢驗

分別取⑤、⑥得到的產(chǎn)品,配置成溶液后分別加入1d1mol/l的HNO3和2d0.1mol/l的AgNO3

可觀察到⑤、⑥產(chǎn)品中出現(xiàn)的現(xiàn)象分別是                           

                                    

 (1)檢驗所得產(chǎn)品中是否Cl-的目的是                                          。結合⑤、⑥步實驗得到的產(chǎn)品質量,計算初產(chǎn)品的純度為         。(不考慮損失)

(2)步驟③過濾使用了保溫漏斗,用圖所示裝置,其主要作用是          


(3)步驟③過濾裝置如圖1―8所示,采用這種裝置過濾的主要目的是                                  

這種裝置工作的主要原理是                                         

 (4)玻璃棒在實驗中一般有如下三種用途:攪拌、引流和蘸取溶液,上述實驗步驟中一般需要用到玻璃棒的是_______________(填代號).

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同步練習冊答案