Question

（10分）電子工業(yè)中，可用FeCl3—HCl溶液作為印刷電路銅板蝕刻液。某探究小組設(shè)計如下線路處理廢液和資源回收：

請回答：

（1）FeCl3—HCl溶液蝕刻銅板后的廢液中含有的金屬陽離子是 。

（2）FeCl3蝕刻液中加入鹽酸的目的：可以 ，又可提高蝕刻速率。

（3）步驟①中加入H2O2溶液的目的是 。

（4）已知：生成氫氧化物沉淀的pH

	Cu(OH)2	Fe(OH)2	Fe(OH)3
開始沉淀時	4.7	7.0	1.9
沉淀完全時	6.7	9.0	3.2

根據(jù)表中數(shù)據(jù)推測調(diào)節(jié)pH的范圍是 。

（5）寫出步驟②中生成CO2的一個離子方程式_____（已知Cu2(OH)2CO3不易溶于水）。

（6）寫出步驟③生成Cu2(OH)2CO3的離子方程式___________________。

Answer 1

（共10分）

（1）Fe3+ 、Fe2+和Cu2+ （2分，寫對3個得2分，少一個得一分）

（2）抑制氯化鐵水解 （1分）

（3）將Fe2+氧化成Fe3+，方便后續(xù)沉淀時除去（1分）

（4）[3.2，4.7）或3.2≤pH＜4.7

（5）4H++Cu2(OH)2CO3 ＝ 3H2O +2 Cu2++ CO2↑

或4Fe3++3Cu2(OH)2CO3+3H2O ＝ 4Fe(OH)3+6 Cu2++3 CO2↑

（6）2Cu2++4HCO3— ＝ Cu2(OH)2CO3↓+H2O +3 CO2↑

【解析】

試題分析：（1）由2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+可知，溶液蝕刻銅板后的廢液中含有的金屬陽離子是Fe3+ 、Fe2+和Cu2+；（2）為了防止Fe3+的水解，蝕刻液中加入鹽，又可提高蝕刻速率；（3）由生成氫氧化物沉淀的pH表可知Fe3+比Fe2+更易沉淀而除去，所以在步驟①中加入H2O2溶液將Fe2+氧化成Fe3+，方便后續(xù)沉淀時除去；（4）根據(jù)表中數(shù)據(jù)為了讓Fe3+完全沉淀，pH應(yīng)該大于等于3.2，為了防止Fe2+、Cu2+沉淀，pH小于4.7，所以pH的范圍是[3.2，4.7）或3.2≤pH＜4.7；（5）由Cu2(OH)2CO3不易溶于水，可寫出生成二氧化碳的方程式為4H++Cu2(OH)2CO3 ＝ 3H2O +2 Cu2++ CO2↑或4Fe3++3Cu2(OH)2CO3+3H2O ＝ 4Fe(OH)3+6 Cu2++3 CO2↑；（6）步驟③生成Cu2(OH)2CO3的離子方程式2Cu2++4HCO3— ＝ Cu2(OH)2CO3↓+H2O +3 CO2↑。

考點：鐵及其化合物性質(zhì)

考點分析： 考點1：溶解平衡 考點2：離子濃度比較 考點3：物質(zhì)的制備 試題屬性

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