其中X裝置供選用的試劑有:
A.濃硫酸 B.食鹽溶液 C.濃硝酸 D.二氧化錳 E.氯酸鉀 F.雙氧水G.濃鹽酸
Y裝置供選用的試劑有:
圖1-5-12
①濃硫酸 ②氫氧化鈉溶液 ③飽和食鹽水
(1)根據(jù)題目要求填寫表格:
項(xiàng)目 氣體 | X裝置選用試劑(填序號(hào)) | Y裝置選用試劑(填序號(hào)) | X裝置中發(fā)生主要反應(yīng)的化學(xué)方程式或反應(yīng)原理 |
氧氣 |
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氯化氫 |
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(2)利用上述裝置制取氯氣,X裝置中選用的試劑是_________(填序號(hào));若要制取純凈、干燥氯氣,在X和Y裝置之間還需要增加_______裝置,該裝置中所加試劑是_______(填序號(hào))。
(3)利用上述裝置,任意選擇試劑,還可制取其他氣體,例如制取_________,此時(shí)X裝置中選用的試劑名稱是_________。
解析:(1)由裝置X的特點(diǎn)可知,要求在常溫下制備O2、HCl和Cl2,顯然不能采用課本中所學(xué)的實(shí)驗(yàn)室制備氣體的方法,只能尋找常溫下可發(fā)生反應(yīng)的代用品。氧氣可用MnO2和H2O2發(fā)生反應(yīng)2H2O22H2O+O2↑制備,而HCl則可利用濃硫酸和濃鹽酸相混合時(shí)放出大量的熱使大量HCl揮發(fā)來制取,所得O2、HCl皆可用濃H2SO4干燥。
(2)聯(lián)想Cl2的實(shí)驗(yàn)室制法,可知要在常溫下制取Cl2,所采用的氧化劑,一定比MnO2的氧化性強(qiáng),而在酸性條件下氧化劑、還原劑的氧化、還原性增強(qiáng),所以可選擇氯酸鉀和濃鹽酸來制備Cl2,其中所含的雜質(zhì)HCl可用飽和NaCl水溶液除去,所以在X、Y之間還需加一個(gè)除雜裝置。
(3)常見氣體中密度比空氣大,且在常溫下制備的氣體除上述三種外,還有SO2(用Na2SO3和H2SO4制備),H2S(用FeS和稀H2SO4制備),NO2(用銅片與濃HNO3反應(yīng)制備)等。
答案:(1)DF ① 2H2O22H2O+O2↑
AG ① 利用兩者混合放熱,使氯化氫大量揮發(fā)
(2)EG 洗氣(或除雜) ③
(3)二氧化硫 亞硫酸鈉和硫酸
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試劑 | 乙醚 | 乙醇 | 乙酸 | 乙酸乙酯 |
沸點(diǎn)(℃) | 34.7 | 78.5 | 118 | 77.1 |
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