10.下列各組三種元素中,屬于同一周期的是(  )
A.C、H、OB.F、Cl、BrC.Li、Be、BD.Si、S、P

分析 原子的核外電子層數(shù)相同時(shí),則在元素周期表中位于同一周期,以此來(lái)解答.

解答 解:A、H只有1個(gè)電子層,而C、O有2個(gè)電子層,則不在同一周期,故A錯(cuò)誤;
B、F有2個(gè)電子層,Cl有3個(gè)電子層,Br有4個(gè)電子層,則不在同一周期,故B錯(cuò)誤;
C、Li、Be、B都有2個(gè)電子層,所以在同一周期,故C正確;
D、Si、P、S都有3個(gè)電子層,則在同一周期,故D正確;
故選DC.

點(diǎn)評(píng) 本題考查元素在周期表中的位置,明確原子的電子排布與元素在周期表中的位置關(guān)系是解答本題的關(guān)鍵,難度不大.

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:解答題

20.硝酸是工業(yè)上常見(jiàn)的三酸之一,在化學(xué)上有廣泛應(yīng)用.某稀硝酸和稀硫酸的混合溶液中C(NO3-)+C(SO42-)=0.5mol•L-1.100ml該混合酸最多能溶解銅的質(zhì)量為1.92g;其中,C(HNO3):C(H2SO4)=2:3.

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

1.某飽和一元醛和飽和一元酮的混合物共0.1mol,質(zhì)量為5.8g,此混合物和足量的銀氨溶液發(fā)生銀鏡反應(yīng)可析出8.64g銀,則該混合物中的醛是( 。
A.HCHOB.CH3CHOC.CH3CH2CHOD.CH3CH2CH2CHO

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

18.下列各組分子中,都屬于含極性鍵的非極性分子的是( 。
A.CO2 SO2B.C2H4 CH4C.C60   C2H4D.NH3    HCl

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

5.下列關(guān)于工業(yè)生產(chǎn)的敘述中,錯(cuò)誤的是(  )
A.制普通玻璃的主要原料是純堿、石灰石、石英
B.氨是制作氮肥、硝酸、銨鹽的重要原料
C.將氫氣和氯氣混合光照生成氯化氫,溶于水制得鹽酸
D.制造普通水泥的主要原料是黏土、石灰石

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:解答題

15.寫(xiě)出符合下列要求的化學(xué)方程式:
(1)除去乙烷中混有的乙烯:C2H4+Br2→CH2BrCH2Br.
(2)由甲苯制備梯恩梯(TNT):
(3)苯甲醛為最簡(jiǎn)單的芳香醛,通?捎勉y氨溶液檢驗(yàn):C6H5CHO+2Ag(NH32OH$\stackrel{水浴加熱}{→}$C6H5COONH4+H2O+2Ag↓+3NH3↑.
(4)2-氯丙烷與NaOH乙醇溶液共熱的反應(yīng):CH3CHClCH3+NaOH$→_{△}^{醇}$CH3CH=CH2↑+NaCl+H2O.
(5)利用純堿溶液鑒別乙醇中是否混有乙酸:2CH3COOH+Na2CO3=2CH3COONa+CO2↑+H2O.

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

2.下列物質(zhì)屬于強(qiáng)電解質(zhì)的是( 。
A.CH3COOHB.BaSO4C.NH3H2OD.SO3

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

19.用惰性電極實(shí)現(xiàn)電解,下列說(shuō)法正確的是( 。
A.電解稀硫酸溶液,實(shí)質(zhì)上是電解水,故溶液的pH不變
B.電解稀氫氧化鈉溶液,要消耗OH-,故溶液的pH減小
C.電解氯化鉀溶液,在陰極上和陽(yáng)極上析出的產(chǎn)物的物質(zhì)的量之比為1:1
D.電解硫酸鈉溶液,在陰極上和陽(yáng)極上析出的產(chǎn)物的物質(zhì)的量之比為1:2

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:解答題

20.高純晶體硅是信息技術(shù)的關(guān)鍵材料.

(1)硅元素位于周期表的位置第三周期第ⅣA族.下面有關(guān)硅材料的說(shuō)法中正確的是BCD(填字母).
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料---光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,故在玻璃尖口點(diǎn)燃H2時(shí)出現(xiàn)黃色火焰
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(2)工業(yè)上用石英砂和焦炭可制得粗硅.已知:圖1
請(qǐng)將以下反應(yīng)的熱化學(xué)方程式補(bǔ)充完整:SiO2(s)+2C(s)═Si(s)+2CO(g)△H=+638.4 kJ•mol-1
(3)粗硅經(jīng)系列反應(yīng)可生成硅烷(SiH4),硅烷分解生成高純硅.已知硅烷的分解溫度遠(yuǎn)低于甲烷,用原子結(jié)構(gòu)解釋其原因:C和Si最外層電子數(shù)相同,C原子半徑小于Si,Si元素的非金屬性弱于C元素,硅烷的熱穩(wěn)定性弱于甲烷.
(4)將粗硅轉(zhuǎn)化成三氯氫硅(SiHCl3),進(jìn)一步反應(yīng)也可制得高純硅.
①SiHCl3中含有的SiCl4、AsCl3等雜質(zhì)對(duì)晶體硅的質(zhì)量有影響.根據(jù)下表數(shù)據(jù),可用蒸餾(或分餾) 方法提純SiHCl3
物質(zhì)SiHCl3SiCl4AsCl3
沸點(diǎn)/℃32.057.5131.6
②用SiHCl3制備高純硅的反應(yīng)為SiHCl3(g)+H2(g) $\stackrel{一定條件下}{?}$Si(s)+3HCl(g),不同溫度下,SiHCl3的平衡轉(zhuǎn)化率隨反應(yīng)物的投料比(反應(yīng)初始時(shí),各反應(yīng)物的物質(zhì)的量之比)的變化關(guān)系如圖所示.下列說(shuō)法正確的是ac(填字母序號(hào)).

a.該反應(yīng)的平衡常數(shù)隨溫度升高而增大 
 b.橫坐標(biāo)表示的投料比應(yīng)該是$\frac{n(SiHC{l}_{3})}{n({H}_{2})}$
c.實(shí)際生產(chǎn)中為提高SiHCl3的利用率,應(yīng)適當(dāng)升高溫度
③整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧.SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式:SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑.

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