在Cl-濃度為0.5 mol·L－1的某無(wú)色澄清溶液中，還可能含有下表中的若干種離子。

陽(yáng)離子

K＋ Al3＋ Mg2＋ Ba2＋ Fe3+

陰離子

NO3- CO32- SiO32- SO42- OH-

現(xiàn)取該溶液100 mL進(jìn)行如下實(shí)驗(yàn)(氣體體積均在標(biāo)準(zhǔn)狀況下測(cè)定)。

序號(hào)

實(shí)驗(yàn)內(nèi)容

實(shí)驗(yàn)結(jié)果

Ⅰ

向該溶液中加入足量稀鹽酸

產(chǎn)生白色沉淀并放出標(biāo)準(zhǔn)狀況下0.56 L氣體

Ⅱ

將Ⅰ的反應(yīng)混合液過(guò)濾，對(duì)沉淀洗滌、灼燒至恒重，稱(chēng)量所得固體質(zhì)量

固體質(zhì)量為2.4 g

Ⅲ

向Ⅱ的濾液中滴加BaCl2溶液

無(wú)明顯現(xiàn)象

請(qǐng)回答下列問(wèn)題。

（1）通過(guò)以上實(shí)驗(yàn)?zāi)艽_定一定不存在的離子是____ ____。

（2）實(shí)驗(yàn)Ⅰ中生成沉淀的離子方程式為_(kāi)__________________________。

（3）通過(guò)實(shí)驗(yàn)Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ和必要計(jì)算，請(qǐng)寫(xiě)出一定存在的陰離子及其濃度（不一定要填滿）。

陰離子

濃度c/(mol·L－1)

①

②

③

④

（4）判斷K＋是否存在，若存在，求出其最小濃度，若不存在說(shuō)明理由：________ _____。

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半導(dǎo)體工業(yè)用石英砂做原料通過(guò)三個(gè)重要反應(yīng)生產(chǎn)單質(zhì)硅：

①SiO2(s)＋2C(s)===Si(s)＋2CO(g) ΔH＝＋682.44 kJ·mol－1，

(石英砂) (粗硅)

②Si(s)＋2Cl2(g)===SiCl4(g) ΔH＝－657.01 kJ·mol－1

(粗硅)

③SiCl4(g)＋2Mg(s)===2MgCl2(s)＋Si(s) ΔH＝－625.63 kJ·mol－1

(純硅)

用石英砂生產(chǎn)1.00 kg純硅的總放熱為

A．2.43×104 kJ B．2.35×104 kJ C．2.23×104 kJ D．2.14×104 kJ

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臭氧的化學(xué)式為O3，a molO3和a molO2具有相同的

A．原子數(shù) B．分子數(shù)

C．體積 D．質(zhì)量

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某氣態(tài)的烷烴與烯烴的混合氣體9 g，其密度為同狀況下H2密度的11.25倍，將混合氣體通過(guò)足量的溴水，溴水增重4.2 g，則原混合氣體的組成為

A．甲烷，乙烯 B．乙烷，乙烯

C．甲烷，丙烯 D．甲烷，丁烯

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有機(jī)物的天然提取和人工合成往往得到的是混合物，假設(shè)給你一種這樣的有機(jī)混合物讓你研究，一般要采取的幾個(gè)步驟是（ ）

A．分離、提純→確定化學(xué)式→確定實(shí)驗(yàn)式→確定結(jié)構(gòu)式

B．分離、提純→確定結(jié)構(gòu)式→確定實(shí)驗(yàn)式→確定化學(xué)式

C．分離、提純→確定實(shí)驗(yàn)式→確定化學(xué)式→確定結(jié)構(gòu)式

D．確定化學(xué)式→確定實(shí)驗(yàn)式→確定結(jié)構(gòu)式→分離、提純

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A．第一電離能：③＞②＞① B．原子半徑：③＞②＞①

C．電負(fù)性：③＞②＞① D．最高正化合價(jià)：③＞②＞①

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A．a(chǎn)或b B．c C．d D．e或f

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A．SiH4的沸點(diǎn)高于CH4，可推測(cè)PH3的沸點(diǎn)高于NH3

B．根據(jù)主族元素最高正化合價(jià)與族序數(shù)的關(guān)系，推出氧族元素最高正價(jià)都是＋6

C．根據(jù)較強(qiáng)酸可以制取較弱酸的規(guī)律，推出CO2通入NaClO溶液中能生成HClO

D．根據(jù)HCl的酸性遠(yuǎn)強(qiáng)于H2S，可推出結(jié)合質(zhì)子能力：S2－＜Cl－

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室溫下，在純水中加入0.1 mol/L HCl ，水的電離平衡 移動(dòng)，若加入0.1 mol/L NH4Cl ，水的電離平衡 移動(dòng)

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