將15.6gdNa2O2與8.4g晶體si同時(shí)投入一定量水中,充分反應(yīng)后得到200mL,再向溶液中緩緩?fù)ㄈ?.72L標(biāo)準(zhǔn)狀況下HCl氣體,若反應(yīng)過程溶液體積不變,則下列敘述正確的是


  1. A.
    根據(jù)硅元素守恒,生成沉淀23.4g
  2. B.
    所得溶液pH<7
  3. C.
    根據(jù)鈉元素守恒,溶液中NaCI物質(zhì)的量濃度為2mol/L
  4. D.
    所得溶液c(Na+)>e(C l-)+2c(SiO32-)+c(HSiO3-
D
分析:先計(jì)算過氧化鈉、硅及HCl的物質(zhì)的量,再利用發(fā)生的化學(xué)反應(yīng):2Na2O2+2H2O═4NaOH+O2↑、Si+2NaOH+H2O═Na2SiO3+2H2↑、Na2SiO3+2HCl═H2SiO3↓+2NaCl來分析解答.
解答:n(Na2O2)=15.6g/78g?mol-1=0.2mol,n(Si)=8.4g/28g?mol-1=0.3mol,n(HCl)=6.72L/22.4L?mol-1=0.3mol
由2Na2O2+2H2O═4NaOH+O2
2 4 1
0.2mol 0.4mol 0.1mol
Si+2NaOH+H2O═Na2SiO3+2H2
1 2 1 2
0.3mol 0.6mol 0.3mol 0.6mol
根據(jù)反應(yīng)的量可知,反應(yīng)了0.2mol硅單質(zhì),剩余0.1mol硅單質(zhì),生成的氫氧化鈉全部反應(yīng);生成硅酸鈉為0.2mol
Na2SiO3+2HCl═H2SiO3↓+2NaCl
1 2 1 1
0.2mol 0.4mol 0.2mol 0.4mmol
根據(jù)上述反應(yīng)可知硅酸鈉剩余,氯化氫全部反應(yīng);反應(yīng)了硅酸鈉0.15mol,生成硅酸0.15mol;生成氯化鈉0.3mol;
A、硅元素未全部反應(yīng),得到的沉淀為0.1mol硅單質(zhì)和0.15mol硅,質(zhì)量為0.1mol×28g?mol-1+0.15mol×78g?mol-1=14.5g,故A錯(cuò)誤;
B、所得溶液為剩余的硅酸鈉溶液,水解顯堿PH>7,故B錯(cuò)誤;
C、根據(jù)上述計(jì)算生成氯化鈉0.3mol,濃度為0.3mol/0.2L=1.5mol?L-1故C錯(cuò)誤;
D、所得溶液中存在電荷守恒為c(Na+)+C(H+)═C(Cl-)+2C(SiO32-)+c(HSiO3-)+C(OH-),最后溶液C(OH-)>C(H+),所以c(Na+)>C(C l-)+2C(SiO32-)+c(HSiO3-);故D正確;
故選 D.
點(diǎn)評(píng):本題較難,考查利用化學(xué)反應(yīng)方程式進(jìn)行過量計(jì)算,熟悉發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)是解答本題的關(guān)鍵.
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(2010?南昌一模)將15.6gdNa2O2與8.4g晶體si同時(shí)投入一定量水中,充分反應(yīng)后得到200mL,再向溶液中緩緩?fù)ㄈ?.72L標(biāo)準(zhǔn)狀況下HCl氣體,若反應(yīng)過程溶液體積不變,則下列敘述正確的是( 。

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科目:高中化學(xué) 來源:南昌一模 題型:單選題

將15.6gdNa2O2與8.4g晶體si同時(shí)投入一定量水中,充分反應(yīng)后得到200mL,再向溶液中緩緩?fù)ㄈ?.72L標(biāo)準(zhǔn)狀況下HCl氣體,若反應(yīng)過程溶液體積不變,則下列敘述正確的是( 。
A.根據(jù)硅元素守恒,生成沉淀23.4g
B.所得溶液pH<7
C.根據(jù)鈉元素守恒,溶液中NaCI物質(zhì)的量濃度為2mol/L
D.所得溶液c(Na+)>e(C l-)+2c(SiO32-)+c(HSiO3-

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科目:高中化學(xué) 來源:2010年江西省南昌市高考化學(xué)一模試卷(解析版) 題型:選擇題

將15.6gdNa2O2與8.4g晶體si同時(shí)投入一定量水中,充分反應(yīng)后得到200mL,再向溶液中緩緩?fù)ㄈ?.72L標(biāo)準(zhǔn)狀況下HCl氣體,若反應(yīng)過程溶液體積不變,則下列敘述正確的是( )
A.根據(jù)硅元素守恒,生成沉淀23.4g
B.所得溶液pH<7
C.根據(jù)鈉元素守恒,溶液中NaCI物質(zhì)的量濃度為2mol/L
D.所得溶液c(Na+)>e(C l-)+2c(SiO32-)+c(HSiO3-

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