Question

【題目】三氯氫硅(SiHCl3)是制備硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列問(wèn)題：

(1)SiHCl3在常溫常壓下為易揮發(fā)的無(wú)色透明液體，遇水氣時(shí)發(fā)煙生成(HSiO)2O等，寫(xiě)出該反應(yīng)的化學(xué)方程式___。

(2)SiHCl3在催化劑作用下發(fā)生反應(yīng)：

2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g) ΔH1=48kJ·mol-1

3SiH2Cl2(g)=SiH4(g)+2SiHCl3(g) ΔH2=-30kJ·mol-1

則反應(yīng)4SiHCl3(g)=SiH4(g)+3SiCl4(g)的ΔH=___kJ·mol-1。

(3)對(duì)于反應(yīng)2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)，采用大孔弱堿性陰離子交換樹(shù)脂催化劑，在323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示。

①343K時(shí)反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率α=___%。

②比較a、b處反應(yīng)速率大�。�va___vb(填“大于”“小于”或“等于”)。

Answer 1

【答案】2SiHCl3+3H2O=(HSiO)2O+6HCl +114 22 大于

【解析】

該反應(yīng)為非氧化還原反應(yīng)，由原子守恒進(jìn)行配平即可；根據(jù)蓋斯定律，書(shū)寫(xiě)熱化學(xué)方程式；依據(jù)圖像可以看出343K時(shí)反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率，從影響速率條件進(jìn)行分析。

(1)由題中信息可知，SiHCl3在常溫常壓下為易揮發(fā)的無(wú)色透明液體，遇水氣時(shí)發(fā)煙生成(HSiO)2O，該反應(yīng)為非氧化還原反應(yīng)，由原子數(shù)目守恒進(jìn)行配平，方程式為2SiHCl3+3H2O=(HSiO)2O+6HCl，故答案為：2SiHCl3+3H2O=(HSiO)2O+6HCl；

(2)SiHCl3在催化劑作用下發(fā)生反應(yīng)：

2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+ SiCl4(g) ΔH1=48 kJ·mol-1

3SiH2Cl2(g)=SiH4(g)+2SiHCl3 (g) ΔH2=30 kJ·mol-1

把第一個(gè)反應(yīng)乘以3后和第二個(gè)反應(yīng)相加，即可得反應(yīng)4SiHCl3(g)=SiH4(g)+3SiCl4(g)，由蓋斯定律可得其ΔH=3ΔH1+ΔH2=3×48 kJ·mol-1+(30 kJ·mol-1)=+144kJ·mol-1，故答案為：+144；

(3)①溫度越高，反應(yīng)速率越快，越先達(dá)到平衡，所以圖像中a點(diǎn)所在的曲線溫度高，即為343K下的曲線，從曲線可以看出，平衡時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率為22%，故答案為：22；

②a、b兩處反應(yīng)物的轉(zhuǎn)化率相等，所以各物質(zhì)的濃度相等，而a處溫度高于b處溫度，溫度越高，反應(yīng)速率越快，所以反應(yīng)速率：va大于vb，故答案為：大于。