(本題6分)
⑴電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板。
①檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是 __,證明Fe3+存在的現(xiàn)象是 __。[來(lái)]②寫出FeCl3溶液與金屬銅發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式: 。
⑵ 3Cl2 + 6NaOH == 5NaCl + NaClO3 + 3H2O
氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ,氧化產(chǎn)物是 ________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
(本題6分)
⑴電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板。
①檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是 __,證明Fe3+存在的現(xiàn)象是 __。[來(lái)]②寫出FeCl3溶液與金屬銅發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式: 。
⑵ 3Cl2 + 6NaOH == 5NaCl + NaClO3 + 3H2O
氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ,氧化產(chǎn)物是 ________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2010—2011年福建省廈門市杏南中學(xué)高一12月月考化學(xué)卷 題型:填空題
(本題6分)
⑴電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板。
①檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是 __,證明Fe3+存在的現(xiàn)象是 __。[來(lái)]②寫出FeCl3溶液與金屬銅發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式: 。
⑵ 3Cl2 + 6NaOH ="= " 5NaCl + NaClO3 + 3H2O
氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ,氧化產(chǎn)物是 ________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2011-2012學(xué)年浙江省桐鄉(xiāng)市高三上學(xué)期10月份月考化學(xué)試卷 題型:填空題
(本題6分)運(yùn)送“神舟”五號(hào)飛船的火箭燃料除液態(tài)雙氧水外,還有另一種液態(tài)氮?dú)浠衔铩R阎摶衔镏袣湓氐馁|(zhì)量分?jǐn)?shù)為12.5%,相對(duì)分子質(zhì)量為32,結(jié)構(gòu)分析發(fā)現(xiàn)該分子結(jié)構(gòu)中只有單鍵。
(1)該氮?dú)浠衔锏碾娮邮綖?u> 。
(2)該物質(zhì)與液態(tài)雙氧水反應(yīng)能產(chǎn)生兩種無(wú)毒又不污染環(huán)境的物質(zhì),寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式 。
(3)NH3分子中的N原子有一對(duì)孤對(duì)電子能發(fā)生反應(yīng):NH3+HCl=NH4Cl。試寫出上述氮?dú)浠衔锿ㄈ胱懔葵}酸時(shí),發(fā)生反應(yīng)的方程式。
。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
(本題6分)
⑴電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板。
①檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是 __,證明Fe3+存在的現(xiàn)象是 __。[來(lái)]②寫出FeCl3溶液與金屬銅發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式: 。
⑵ 3Cl2 + 6NaOH == 5NaCl + NaClO3 + 3H2O
氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為 ,氧化產(chǎn)物是 ________。
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