通常用飽和NaHCO3溶液除去混在CO2中的少量HCl氣體，其反應(yīng)的離子方程式為                              ；不能用NaOH溶液的原因是

                        （用離子方程式表示）；也不能用Na2CO3溶液吸收的原因是）                         （用離子方程式表示）。


   H+ + HCO3- === H2O+ CO2↑     

   CO2 + 2OH- === H2O + CO32-       CO2 + CO32- + H2O === 2HCO3-


練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


硫代硫酸鈉(Na2S2O3)是一種重要的化工產(chǎn)品。某興趣小組擬制備硫代硫酸鈉晶體(Na2S2O3·5H2O)。

Ⅰ.【查閱資料】

      (1)硫代硫酸鈉(Na2S2O3)易溶于水，在中性或堿性環(huán)境中穩(wěn)定，受熱、遇酸易分解。

      (2)Na2S2O3·5H2O是無(wú)色透明晶體，易溶于水，其稀溶液與BaCl2溶液混合無(wú)沉淀生成。

  (3)向Na2CO3和Na2S混合溶液中通入SO2可制得Na2S2O3（反應(yīng)方程式為：2Na2S＋Na2CO3＋ 4SO2===3Na2S2O3＋CO2），所得產(chǎn)品常含有少量Na2SO3和Na2SO4。

Ⅱ.【制備產(chǎn)品】實(shí)驗(yàn)裝置如圖所示：

請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

(1)實(shí)驗(yàn)步驟：檢查裝置氣密性后，向三頸瓶c中加入Na2CO3和Na2S的混合溶液，再將分液漏斗a中液體滴加到燒瓶b中加熱發(fā)生反應(yīng)產(chǎn)生SO2，請(qǐng)寫(xiě)出b中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式______________________。待Na2S和Na2CO3完全消耗后，結(jié)束反應(yīng)。過(guò)濾c中的混合物，濾液經(jīng)____________________(填寫(xiě)操作名稱)、過(guò)濾、洗滌、干燥、得到產(chǎn)品。

(2) 裝置A用于處理尾氣，可選用的最合理裝置(夾持儀器已略去)為_(kāi)_______(填序號(hào))。

 (3)為了保證硫代硫酸鈉的產(chǎn)量，實(shí)驗(yàn)中通入的SO2不能過(guò)量，原因是_________。

III.【測(cè)定產(chǎn)品純度】

準(zhǔn)確稱取W g產(chǎn)品，用適量蒸餾水溶解，以淀粉作指示劑，用0.100 0 mol·L－1碘的標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。

反應(yīng)原理為2S2O＋I(xiàn)2===S4O＋2I－（忽略Na2SO3與I2反應(yīng)）

(4)滴定至終點(diǎn)時(shí)，溶液顏色的變化：_________________________________。

(5)滴定起始和終點(diǎn)的液面位置如圖，則產(chǎn)品的純度為(設(shè)Na2S2O3·5H2O相對(duì)分子質(zhì)量為M)______________。

IV.【探究與反思】

(6)為驗(yàn)證產(chǎn)品中含有Na2SO3和Na2SO4，該小組設(shè)計(jì)了以下實(shí)驗(yàn)方案，請(qǐng)將方案補(bǔ)充完整。(所需試劑從稀HNO3、稀H2SO4、稀鹽酸、蒸餾水中選擇)

取適量產(chǎn)品配成稀溶液，滴加足量BaCl2溶液，有白色沉淀生成， __________________，若沉淀未完全溶解，并有刺激性氣味的氣體產(chǎn)生，則可確定產(chǎn)品中含有Na2SO3和Na2SO4。

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


從鋁土礦(主要成分是Al2O3，含SiO2、Fe2O3、MgO等雜質(zhì))中提取氧化鋁的兩種工藝流程如下：

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

（1）流程甲加入鹽酸后生成Al3＋的離子方程式為_(kāi)____________________________________。

（2）流程乙加入燒堿后生成SiO的離子方程式為_(kāi)__________________________。

（3）驗(yàn)證濾液B中含F(xiàn)e3＋，可取少量濾液并加入________(填試劑名稱)。

（4）濾液E、K中溶質(zhì)的主要成分是__________(填化學(xué)式)，寫(xiě)出該溶液的一種用途：___________。

（5）已知298 K時(shí)，Mg(OH)2的溶度積常數(shù)Ksp＝5.6×10－12，取適量的濾液B，加入一定量的燒堿達(dá)到沉淀溶解平衡，測(cè)得pH＝13.00，則此溫度下殘留在溶液中的c(Mg2＋)＝__________。

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


常溫下，某無(wú)色透明的溶液中，下列各組離子能夠大量共存的是

 A．H＋、Na＋、Cl－、CO32－                  B． Ba2＋、Na＋、SO42－、Cl－

 C．MnO4－、K＋、I－、H＋                    D． Mg2＋、Cl－、NO、H＋ 

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


 Na、Mg、Al三種金屬各2 mol分別跟1L1mol∙L-1的鹽酸反應(yīng)時(shí)，相同條件下放出氫氣體積最大的是

 A．Al      B． Mg         C． Na       D．三者產(chǎn)生的氫氣一樣多

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


1．下列溶液一定呈中性的是(　　)

A．pH＝7的溶液

B．[H＋]＝[OH－]的溶液

C．由強(qiáng)酸、強(qiáng)堿等物質(zhì)的量反應(yīng)得到的溶液

D．非電解質(zhì)溶于水得到的溶液

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


將pH為3和pH為5的稀鹽酸等體積混合，所得溶液的pH為(　　)

A．3.7             B．3.3            C．4.7            D．5.3

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


A、B、C為中學(xué)常見(jiàn)單質(zhì)，其中一種為金屬，通常情況下，A為固體，B為黃綠色氣體，C為無(wú)色氣體。D、E、F、G、H、X均為化合物，其中X常溫下是無(wú)色氣體，其水溶液是一種強(qiáng)酸，E為黑色固體，H在常溫下為液體。它們之間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下圖所示(其中某些反應(yīng)條件和部分反應(yīng)物已略去)。

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

（1）寫(xiě)出下列物質(zhì)的化學(xué)式：A__________、D__________、E__________、X_________。

（2）在反應(yīng)①～⑦中，不屬于氧化還原反應(yīng)的是__________(填編號(hào))。

（3）反應(yīng)④的離子方程式是_____________________________________________；

（4）反應(yīng)⑦的化學(xué)方程式是_____________________________________________；

該反應(yīng)中每消耗0.3 mol的A，可轉(zhuǎn)移電子______mol。

（5）寫(xiě)出D的溶液與小蘇打溶液反應(yīng)的離子方程式是________________________

_____________________________________________________________________。

（6）除去D溶液中混有的少量G的方法是_________________________________

_____________________________________________________________________。

（7）在D溶液中制備無(wú)水D固體的方法是__________________________________

_____________________________________________________________________。

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：


硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．

（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅，工業(yè)上可以按如下步驟制備純硅．

Ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅與干燥的氯氣在450℃～500℃條件下反應(yīng)制得SiCl4

Ⅲ.SiCl4液體經(jīng)精餾提純后與過(guò)量H2在1100℃～1200℃條件下反應(yīng)制得純硅

已知SiCl4沸點(diǎn)為57.6℃，能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng).1 mol H2與SiCl4氣體完全反應(yīng)吸收的熱量為120.2 kJ.

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

①第Ⅲ步反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是______________________________________

_______________________________________________________________________。

②整個(gè)制備純硅的過(guò)程中必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧，其生成物是____________；H2還原SiCl4過(guò)程中若混入O2，可能引起的后果是____________．

③上述生產(chǎn)過(guò)程所需氯氣和氫氣均由氯堿廠提供，氯堿廠的基本設(shè)備是離子交換膜電解槽(如圖所示)，其中進(jìn)入陽(yáng)極室的溶液是__________________________________，b電極上的電極

反應(yīng)式是______________________________________________________．

（2）二氧化硅被大量用于生產(chǎn)玻璃．工業(yè)上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高溫下完全反應(yīng)時(shí)放出CO2 44 kg，生產(chǎn)出的玻璃可用化學(xué)式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，則其中x＝________。

查看答案和解析>>

同步練習(xí)冊(cè)答案