【題目】如圖是用稀硝酸和Cu制取少量NO并驗(yàn)證氮氧化合物性質(zhì)的裝置。下列說法不正確的是(　　 )

A. 吸收劑可以是NaOH溶液

B. 試管上部的氣體始終為無色

C. 小試管中溶液最終呈藍(lán)色

D. 試紙最終呈藍(lán)色

【答案】B

【解析】銅和稀硝酸反應(yīng)生成硝酸銅、一氧化氮和水，反應(yīng)的化學(xué)方程式為3Cu+8H++2NO3-=3Cu2++2NO↑+4H2O，2NO+O2=2NO2，無色氣體變化為紅棕色氣體二氧化氮，可以用堿溶液吸收，A．上述分析可知得到的氣體主要是NO2和NO，可以被氫氧化鈉溶液吸收，所以吸收劑可以是NaOH溶液，選項(xiàng)A正確；B．銅和稀硝酸反應(yīng)生成硝酸銅、一氧化氮和水，一氧化氮和試管中的氧氣反應(yīng)生成紅棕色氣體二氧化氮，選項(xiàng)B不正確；C．銅和稀硝酸反應(yīng)得到溶液為硝酸銅溶液，溶液為藍(lán)色，選項(xiàng)C正確；D．生成的一氧化氮和氧氣反應(yīng)生成二氧化氮紅棕色氣體，二氧化氮具有氧化性，和碘化鉀溶液反應(yīng)生成碘單質(zhì)，碘單質(zhì)遇到淀粉變藍(lán)色，選項(xiàng)D正確；答案選B。

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】某溶液中 Cl- 、Br- 、I - 三者物質(zhì)的量之比為1∶2∶3，通入一定量的氯氣，當(dāng)反應(yīng)后，該比值為3∶2∶1，則反應(yīng)的氯氣和原溶液中I-的物質(zhì)的量之比為

A.3∶2B.2∶3C.1∶2D.1∶3

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】化合物AX3和單質(zhì)X2在一定條件下反應(yīng)可生成化合物AX5 ． 回答下列問題．
（1）已知AX3的熔點(diǎn)和沸點(diǎn)分別為﹣93.6℃和76℃，AX5的熔點(diǎn)為167℃．室溫時(shí)AX3與氣體X2反應(yīng)生成lmol AX5 ， 放出熱量123.8kJ．該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為 ．
（2）反應(yīng)AX3（g）+X2（g）AX5（g）在容積為10L的密閉容器中進(jìn)行．起始時(shí)AX3和X2均為0.2mol．反應(yīng)在不同條件下進(jìn)行，反應(yīng)體系總壓強(qiáng)隨時(shí)間的變化如圖所示．
①下列不能說明反應(yīng)達(dá)到平衡狀態(tài)的是 ．
A．混合氣體的平均相對分子質(zhì)量保持不變
B．混合氣體密度保持不變
C．體系中X2的體積分?jǐn)?shù)保持不變
D．每消耗1molAX3同時(shí)消耗1molAX5
②計(jì)算實(shí)驗(yàn)a從反應(yīng)開始至達(dá)到平衡時(shí)的反應(yīng)速率v（AX5）=（保留2位有效數(shù)字）．
③圖中3組實(shí)驗(yàn)從反應(yīng)開始至達(dá)到平衡時(shí)的反應(yīng)速率v（AX5）由大到小的次序?yàn)?/span>（填實(shí)驗(yàn)序號(hào)）；與實(shí)驗(yàn)a相比，其他兩組改變的實(shí)驗(yàn)條件及判斷依據(jù)是：b、c ． 該反應(yīng)在實(shí)驗(yàn)a和實(shí)驗(yàn)c中的化學(xué)平衡常數(shù)的大小關(guān)系是KaKc（填“＞、＜或=”），其中Kc=（保留小數(shù)點(diǎn)后1位）．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】氧化還原反應(yīng)在生產(chǎn)生活中有著重要的應(yīng)用．請按要求寫出相應(yīng)的方程式．
（1）將含SO2的廢氣通入含F(xiàn)e2+（催化劑）的溶液中，常溫下可使SO2轉(zhuǎn)化為SO24﹣ ， 其總反應(yīng)為2SO2+O2+2H2O=2H2SO4 ． 上述總反應(yīng)分兩步進(jìn)行，第一步反應(yīng)的離子方程式為4Fe2++O2+4H+=4Fe3++2H2O，寫出第二步反應(yīng)的離子方程式： ．
（2）pH=3.6時(shí)，碳酸鈣與硫酸鋁反應(yīng)可制備堿式硫酸鋁[Al2（SO4）x（OH）6﹣2x]溶液．若溶液的pH偏高，則堿式硫酸鋁產(chǎn)率降低且有氣泡產(chǎn)生，用化學(xué)方程式表示其原因： ．
（3）ClO2是一種高效安全的殺菌消毒劑．氯化鈉電解法生產(chǎn)ClO2工藝原理示意圖如下：

①寫出氯化鈉電解槽內(nèi)發(fā)生反應(yīng)的離子方程式： ．
②寫出ClO2發(fā)生器中的化學(xué)方程式，并標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的方向及數(shù)目： ．
③ClO2能將電鍍廢水中的CN﹣離子氧化成兩種無毒氣體，自身被還原成Cl﹣ ． 寫出該反應(yīng)的離子方程式 ．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】某興趣小組甲設(shè)計(jì)了以下裝置和方法測定空氣中SO2含量．你認(rèn)為可行的操作是

序號(hào)

A

B

C

裝置

原理

通入V升空氣，測定生成沉淀的質(zhì)量

當(dāng)KMnO4溶液剛好褪色時(shí)，測定通入空氣的體積V

通入V升空氣，測定U型管增加的質(zhì)量

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】配制一定物質(zhì)的量濃度的NaCl溶液時(shí)，造成實(shí)驗(yàn)結(jié)果偏高的是（ ）

A.定容時(shí)觀察液面仰視B.定容時(shí)觀察液面俯視

C.盛溶液的燒杯未洗滌D.容量瓶中原來有少量蒸餾水

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題：

（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式_____________________________。

②整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、H2和另一種酸，寫出并配平化學(xué)反應(yīng)方程式_________________________________；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________________________________。

（2）下列有關(guān)硅材料的說法正確的是________ 。

A．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高，硬度很大

（3）自然界中硅酸鹽種類多，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，通常用二氧化硅和金屬氧化物的形式來表示其組成．如正長石（KAlSi3O8），氧化物形式為_________________________________

（4）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入稀硝酸，產(chǎn)生的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象為_____________，水玻璃在工業(yè)上有許多用途，試舉出一例____________________。

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】簡單原子的原子結(jié)構(gòu)可用下圖來形象表示：

其中·表示質(zhì)子或電子，°表示中子，則下列有關(guān)的敘述中，不正確的是（ ）

A. ①②③具有相同的質(zhì)子數(shù)

B. ①②③互為同位素

C. ①②③是三種粒子的化學(xué)性質(zhì)幾乎完全相同

D. ①②③具有的電子數(shù)不同

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

【題目】如圖所示的裝置，C、D、E、F、X、Y都是惰性電極．將電源接通后，向（乙）中滴入酚酞溶液，在F極附近顯紅色．則以下說法正確的是
（1）電源B極是極（填“正”或“負(fù)”）
（2）（甲）、（乙）裝置的C、D、E、F電極均有單質(zhì)生成，其物質(zhì)的量比為 ．
（3）欲用（丙）裝置給鋼鍍銀，G應(yīng)該是（填電極材料），電鍍液選溶液．
（4）電解一段時(shí)間后，加入何種物質(zhì)能使溶液恢復(fù)到原來濃度，甲應(yīng)加入乙應(yīng)加入 ．

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