下列關于清洗玻璃器皿的敘述中，正確的是

[　　]

A．

試管里的油污先用熱的純堿溶液洗，再用清水沖洗

B．

先把試管里的廢液倒入下水道中，再用清水沖洗

C．

附有氫氧化鐵沉淀的試管，先用燒堿溶解，再用清水沖洗

D．

盛放石灰水后殘留下固體物質(zhì)的燒杯，先用肥皂水洗，再用清水沖洗

答案：A
解析：

試管里的油污可與堿性溶液如熱的純堿溶液或洗衣粉反應而被洗去；試管里的廢液應倒入指定的廢液缸，再根據(jù)廢液的性質(zhì)選用合適的洗滌液去洗；氫氧化鐵沉淀是一種堿，不會被燒堿溶液溶解；盛放石灰水的燒杯，內(nèi)壁的固體物質(zhì)是碳酸鈣，肥皂水呈堿性，所以用肥皂水洗不去．


練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：

下列關于清洗玻璃器皿的敘述中，正確的是（    ）

A.試管里的油污先用熱的純堿溶液洗，再用清水沖洗

B.先把試管里的廢液倒入下水道中，再用清水沖洗

C.附有氫氧化鐵沉淀的試管，先用燒堿溶解，再用清水沖洗

D.盛放石灰水后殘留下固體物質(zhì)的燒杯，先用肥皂水洗，再用清水沖洗

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科目：高中化學 來源：2014屆浙江省杭州市七校高三上學期期中聯(lián)考化學試卷（解析版） 題型：填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                    ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎�                     。

（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

 

實驗事實

事實一

水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。

事實三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實四

在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。

事實五

1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。

 

結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應             。高溫無水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應生成H2；

B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應中NH3作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

 

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科目：高中化學 來源： 題型：單選題

下列關于清洗玻璃器皿的敘述中，正確的是


  1. A.
    試管里的油污先用熱的純堿溶液洗，再用清水沖洗
  2. B.
    先把試管里的廢液倒入下水道中，再用清水沖洗
  3. C.
    附有氫氧化鐵沉淀的試管，先用燒堿溶解，再用清水沖洗
  4. D.
    盛放石灰水后殘留下固體物質(zhì)的燒杯，先用肥皂水洗，再用清水沖洗

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