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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

硅在地殼中的含量較高，硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久，在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用．回答下列問(wèn)題：
（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)非金屬材料，其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有

．
（2）高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料．工業(yè)上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如圖：

①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外，也可以生產(chǎn)碳化硅，則在電弧爐內(nèi)可能發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為

．
②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中，SiHCl₃大約占85%，還有SiCl₄、SiH₂Cl₂、SiH₃Cl等，粗硅生成SiHCl₃的化學(xué)反應(yīng)方程式

．
（3）有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表，提純SiHCl₃的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和

；SiHCl₃極易水解，其完全水解的產(chǎn)物為

．

物質(zhì)	Si	SiCl₄	SiHCl₃	SiH₂Cl₂	SiH₃Cl	HCl	SiH₄
沸點(diǎn)/℃	2355	57.6	31.8	8.2	-30.4	-84.9	-111.9

（4）還原爐中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)為：

．
（5）氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料，這些原料是

．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久，在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用�；卮鹣铝袉�(wèn)題：

（1）1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí)，得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是。

（2）陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中，生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有。

（3）高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下：

①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產(chǎn)碳化硅，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為；碳化硅又稱，其晶體結(jié)構(gòu)與相似。

②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中，SiHCl₃大約占85%，還有SiCl₄、SiH₂Cl₂、SiH₃Cl等，有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表，提純SiHCl₃的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和。

物質(zhì)	Si	SiCl₄	SiHCl₃	SiH₂Cl₂	SiH₃Cl	HCl	SiH₄
沸點(diǎn)/℃	2355	57.6	31.8	8.2	-30.4	-84.9	-111.9

③SiHCl₃極易水解，其完全水解的產(chǎn)物為。

（4）氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料，這些原料是。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2013年全國(guó)普通高等學(xué)校招生統(tǒng)一考試化學(xué)（海南卷帶解析） 題型：填空題

硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久，在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用�；卮鹣铝袉�(wèn)題：
（1）1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí)，得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是。
（2）陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中，生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有。
（3）高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下：

	發(fā)生的主要反應(yīng)
電弧爐	SiO₂+2CSi+2CO↑
流化床反應(yīng)器	Si+3HClSiHCl₃+H₂
還原爐	SiHCl₃+H₂Si+3HCl

①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產(chǎn)碳化硅，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為；碳化硅又稱，其晶體結(jié)構(gòu)與相似。
②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中，SiHCl₃大約占85%，還有SiCl₄、SiH₂Cl₂、SiH₃Cl等，有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表，提純SiHCl₃的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和。

物質(zhì)	Si	SiCl₄	SiHCl₃	SiH₂Cl₂	SiH₃Cl	HCl	SiH₄
沸點(diǎn)/℃	2355	57.6	31.8	8.2	-30.4	-84.9	-111.9

③SiHCl₃極易水解，其完全水解的產(chǎn)物為。
（4）氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料，這些原料是。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2013-2014學(xué)年河北省邯鄲市高三第一次模擬考試?yán)砭C化學(xué)試卷（解析版） 題型：填空題

硅在地殼中的含量較高，硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久，在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用�；卮鹣铝袉�(wèn)題：

（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)非金屬材料，其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有????????????????????? 。

（2）高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下：

①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外，也可以生產(chǎn)碳化硅，則在電弧爐內(nèi)可能發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為??????????????????????? 。

②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中，SiHCl3大約占85%，還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，粗硅生成SiHCl3的化學(xué)反應(yīng)方程式?????????????????????????????? 。

（3）有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表，提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和??????? ；SiHCl3極易水解，其完全水解的產(chǎn)物為??????? 。

物質(zhì)	Si	SiCl4	SiHCl3	SiH2Cl2	SiH3Cl	HCl	SiH4
沸點(diǎn)/℃	2355	57.6	31.8	8.2	-30.4	-84.9	-111.9

（4）還原爐中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)為：???????????????????????????????? 。

（5）氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料，這些原料是??????? 。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2013年全國(guó)普通高等學(xué)校招生統(tǒng)一考試化學(xué)（海南卷解析版） 題型：填空題

硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久，在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用�；卮鹣铝袉�(wèn)題：

（1）1810年瑞典化學(xué)家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時(shí)，得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是。

（2）陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中，生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有。

（3）高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下：

	發(fā)生的主要反應(yīng)
電弧爐	SiO₂+2CSi+2CO↑
流化床反應(yīng)器	Si+3HClSiHCl₃+H₂
還原爐	SiHCl₃+H₂Si+3HCl

①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產(chǎn)碳化硅，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為；碳化硅又稱，其晶體結(jié)構(gòu)與相似。

②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中，SiHCl₃大約占85%，還有SiCl₄、SiH₂Cl₂、SiH₃Cl等，有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表，提純SiHCl₃的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和。

物質(zhì)	Si	SiCl₄	SiHCl₃	SiH₂Cl₂	SiH₃Cl	HCl	SiH₄
沸點(diǎn)/℃	2355	57.6	31.8	8.2	-30.4	-84.9	-111.9

③SiHCl₃極易水解，其完全水解的產(chǎn)物為。

（4）氯堿工業(yè)可為上述工藝生產(chǎn)提供部分原料，這些原料是。

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