將0. 3mol的氣態(tài)高能燃料乙硼烷(B2H6)在氧氣中燃燒，生成固態(tài)三氧化二硼和液態(tài)水，放出649. 5kJ熱量， 該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為____。又已知：H2O(g)=H2O(l) △H= - 44.0kJ/mol，則11. 2L （標(biāo)準(zhǔn)狀況）乙硼烷完全燃燒生成氣態(tài)水時(shí)放出的熱量是____kJ。
B2H6(g)+3O2(g)=B2O3(s)+3H2O(l) △H=-2165kJ/mol  ；1016.5
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

（2012?石家莊模擬）科學(xué)家一直致力于“人工固氮”的方法研究．
（1）合成氨的原理為：N2（g）+3H2（g）?2NH3（g）△H=-92.4kJ/mol，該反應(yīng)的能量變化如圖所示．
①在反應(yīng)體系中加入催化劑，反應(yīng)速率增大，E2的變化是
減小
減小
（填“增大”、“減小”或“不變”）．
②將0.3mol N2和0.5mol H2充入體積不變的密閉容器中，在一定條件下達(dá)到平衡，測得容器內(nèi)氣體壓強(qiáng)變?yōu)樵瓉淼?span id="3dunsnj" class="MathJye" mathtag="math" style="whiteSpace:nowrap;wordSpacing:normal;wordWrap:normal">
7
8
，此時(shí)H2的轉(zhuǎn)化率為
30%
30%
；欲提高該容器中H2的轉(zhuǎn)化率，下列措施可行的是
AD
AD
（填選項(xiàng)字母）．
A．向容器中按原比例再充入原料氣  B．向容器中再充入一定量H2
C．改變反應(yīng)的催化劑              D．液化生成物分離出氨
（2）根據(jù)最新“人工固氮”的研究報(bào)道，在常溫、常壓、光照條件下，N2在催化劑（摻有少量Fe2O3和TiO2）表面與水發(fā)生反應(yīng)：
2N2（g）+6H2O（1）?4NH3（g）+3O2（g）△H=+1530kJ/mol
又知：H2O（1）=H2O（g）△H=+44.0kJ/mol
則2N2（g）+6H2O（g）?4NH3（g）+3O2（g）△H=
+1266
+1266
kJ/mol，該反應(yīng)的化學(xué)平衡常數(shù)表達(dá)式為K=
C4(NH3)C3(O2)
C2(N2)C6(H2O)
，
C4(NH3)C3(O2)
C2(N2)C6(H2O)
，
，控制其他條件不變，增大壓強(qiáng)，K值
不變
不變
（填“增大”、“減小”或“不變”）．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

（2013?房山區(qū)一模）碳化硅（SiC）、氧化鋁（Al2O3） 和氮化硅（Si3N4）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途．
（1）Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為
；Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為
2Al+2OH-+2H2O=2AlO2-+3H2↑
2Al+2OH-+2H2O=2AlO2-+3H2↑
．
（2）氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應(yīng)方程式為
Si3N4+16HF=4NH4F+3SiF4
Si3N4+16HF=4NH4F+3SiF4
．
（3）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：
3SiCl4（g）+2N2（g）+6H2（g）
高溫
Si3N4（s）+12HCl（g）△H＜0
某溫度和壓強(qiáng)條件下，分別將0.3mol SiCl4（g）、0.2mol N2（g）、0.6mol H2（g）充入2L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得Si3N4（s）的質(zhì)量是5.60g．
①H2的平均反應(yīng)速率是
0.024
0.024
 mol/（L?min）．
②平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度是
0.06
0.06
mol?L-1．
③SiCl4（g）的轉(zhuǎn)化率是
40%
40%
．
④若按n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=3：2：6的投料配比，向上述容器不斷擴(kuò)大加料，SiCl4（g）的轉(zhuǎn)化率應(yīng)
減小
減小
（填“增大”、“減”或“不變”）．
⑤在不改變反應(yīng)條件的情況下，為了提高SiCl4（g）的轉(zhuǎn)化率，可通過改變投料配比的方式來實(shí)現(xiàn)．下列四種投料方式，其中可行的是
AB
AB
．
選項(xiàng) 投料方式
A n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=1：1：2
B n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=1：2：2
C n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=3：2：2
D n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=2：1：3

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科目：高中化學(xué) 來源：2012-2013學(xué)年北京市房山區(qū)房山中學(xué)高二下學(xué)期期中考試化學(xué)試卷（帶解析） 題型：填空題

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。
（1）Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為                ；Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為
                                                              。
（2）氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應(yīng)方程式為                                                    。
（3）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：
3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H＜0  
某溫度和壓強(qiáng)條件下，分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。
①H2的平均反應(yīng)速率是         mol／(L·min)。
②平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度是          mol·L-1。
③SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率是        。
④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比，向上述容器不斷擴(kuò)大加料，SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         （填“增大”、“減”或“不變”）。
⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：
SiCl4(g)＋2H2(g) Si(s)＋4HCl(g)；△H＝＋QkJ·mol－1(Q＞0)
某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng))，下列敘述正確的是(   )
A．反應(yīng)過程中，若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B．若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol，則達(dá)到平衡時(shí)，吸收熱量為QkJ
C．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí)，生成的HCl通入100mL1mol·L－1的NaOH恰好反應(yīng)
D．反應(yīng)至4min時(shí)，若HCl的濃度為0.12mol·L－1，則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

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科目：高中化學(xué) 來源：2012-2013學(xué)年四川成都棠湖中學(xué)外語實(shí)驗(yàn)學(xué)校高二5月月考化學(xué)卷（帶解析） 題型：填空題

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。宇宙火箭和導(dǎo)彈中，大量用鈦代替鋼鐵。
(1)Al的離子結(jié)構(gòu)示意圖為                  ；
Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為                                         
(2)氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，
其反應(yīng)方程式為                                                
（3）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：
3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)   Si3N4(s) + 12 HCl(g)   △H＜0  
在恒溫、恒容時(shí)，分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5 min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得HCl(g)為0.3mol/L、 N2為0.05 mol/L
① H2的平均反應(yīng)速率是                       
② 反應(yīng)前與達(dá)到平衡時(shí)容器內(nèi)的壓強(qiáng)之比=           
③ 系數(shù) x =     
(4)已知：TiO2(s)＋2Cl2(g)===TiCl4(l)＋O2(g)  ΔH1＝＋140 kJ·mol－1
C(s)＋O2(g)=== CO(g)    ΔH2 ＝－110 kJ·mol－1
寫出TiO2和焦炭、氯氣反應(yīng)生成TiCl4和CO氣體的熱化學(xué)方程式：
                                                                              。

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科目：高中化學(xué) 來源：2014屆北京市高二下學(xué)期期中考試化學(xué)試卷（解析版） 題型：填空題

碳化硅(SiC) 、氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。

（1）Al的原子結(jié)構(gòu)示意圖為                ；Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為

                                                              。

（2）氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應(yīng)方程式為                                                    。

（3）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：

3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H＜0  

某溫度和壓強(qiáng)條件下，分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。

①H2的平均反應(yīng)速率是         mol／(L·min)。

②平衡時(shí)容器內(nèi)N2的濃度是          mol·L-1。

③SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率是        。

④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比，向上述容器不斷擴(kuò)大加料，SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)         （填“增大”、“減”或“不變”）。

⑤工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：

SiCl4(g)＋2H2(g) Si(s)＋4HCl(g)；△H＝＋QkJ·mol－1(Q＞0)

某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng))，下列敘述正確的是(   )

A．反應(yīng)過程中，若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B．若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol，則達(dá)到平衡時(shí)，吸收熱量為QkJ

C．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí)，生成的HCl通入100mL1mol·L－1的NaOH恰好反應(yīng)

D．反應(yīng)至4min時(shí)，若HCl的濃度為0.12mol·L－1，則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

 

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