(2013?海淀區(qū)二模)氮化硅膜與二氧化硅膜相比較具有表面化學性能穩(wěn)定等優(yōu)點,故氮化硅膜可用于半導體工業(yè).為生成氮化硅膜,可以用NH
3和SiH
4(硅烷)在一定條件下反應(yīng)并在600℃的加熱基板上生成氮化硅膜:
3SiH
4+4NH
3 Si
3N
4+12H
2(1)以硅化鎂為原料制備硅烷的反應(yīng)和工業(yè)流程如下:
反應(yīng)原理:4NH
4Cl+Mg
2Si
4NH
3↑+SiH
4↑+2MgCl
2(△H<0)
①NH
4Cl的化學鍵類型有
極性鍵(或共價鍵)、離子鍵
極性鍵(或共價鍵)、離子鍵
,SiH
4電子式為
.
②上述生產(chǎn)硅烷的過程中液氨的作用是
吸收熱量,保證反應(yīng)在常溫下進行(答“制冷”或“降溫”均可)
吸收熱量,保證反應(yīng)在常溫下進行(答“制冷”或“降溫”均可)
.
③氨氣也是重要的工業(yè)原料,寫出氨氣發(fā)生催化氧化反應(yīng)生成NO的化學方程式
,實驗室可利用如圖所示裝置完成該反應(yīng).
在實驗過程中,除觀察到錐形瓶中產(chǎn)生紅棕色氣體外,還可觀察到有白煙生成,白煙的主要成分是
NH4NO3(或:硝酸銨)
NH4NO3(或:硝酸銨)
.
(2)三硅酸鎂(Mg
2Si
3O
8?nH
2O)難溶于水,在醫(yī)藥上可做抗酸劑.它除了可以中和胃液中多余酸之外,生成的H
2SiO
3還可覆蓋在有潰瘍的胃表面,保護其不再受刺激.三硅酸鎂與鹽酸反應(yīng)的化學方程式為
MgSi3O8?nH2O+4HCl═2MgCl2+3SiO2+(n+2)H2O
MgSi3O8?nH2O+4HCl═2MgCl2+3SiO2+(n+2)H2O
.將0.184g三硅酸鎂加到50mL 0.1mol/L鹽酸中,充分反應(yīng)后,濾去沉淀,以甲基橙為指示劑,用0.1mol/L NaOH溶液滴定剩余的鹽酸,消耗NaOH溶液30mL,則Mg
2Si
3O
8?nH
2O的n值為
6
6
.(注:Mg
2Si
3O
8的摩爾質(zhì)量為260g/mol)