有同學(xué)采用如圖裝置制取并探究氯氣的某些性質(zhì).
精英家教網(wǎng)
(1)實(shí)驗(yàn)開始先點(diǎn)燃
 
處的酒精燈,再點(diǎn)燃另一處酒精燈,Cl2通過C裝置后進(jìn)入D發(fā)生氧化還原反應(yīng),生成CO2和HCl(g),發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
 
;
(2)C裝置的
 
端與a相連,為了更好地發(fā)揮C裝置的作用,可向C裝置的燒杯中加入
 
(填物質(zhì)名稱);
(3)在上述裝置中有一處明顯的錯(cuò)誤,改進(jìn)的方法是
 
;
(4)本實(shí)驗(yàn)中B裝置的作用是
 
分析:(1)實(shí)驗(yàn)開始先點(diǎn)燃A處的酒精燈打開閥K,讓Cl2充滿整個(gè)裝置,再點(diǎn)燃D處的酒精燈,根據(jù)反應(yīng)物和生成物,結(jié)合質(zhì)量守恒定律書寫化學(xué)方程式;
(2)氣體通過盛有水的試管時(shí)應(yīng)長進(jìn)短出;吸收Cl2中的HCl氣體,提供D處所需水蒸氣,可向燒杯中加入濃硫酸,加入濃硫酸的作用是溶解放熱,促進(jìn)試管里的水蒸;
(3)氯化氫極易溶于水,易發(fā)生倒吸;
(4)氯氣有毒不能排放到空氣中,B裝置利用壓強(qiáng)關(guān)系可以儲(chǔ)存少量氯氣.
解答:解:(1)實(shí)驗(yàn)開始先點(diǎn)燃A處的酒精燈打開閥K,讓Cl2充滿整個(gè)裝置,再點(diǎn)燃D處的酒精燈,由題意知反應(yīng)為Cl2、C、H2O,生成物為HCl和CO2,則反應(yīng)的化學(xué)方程式為2Cl2+C+2H2O(g)
  △  
.
 
4HCl+CO2,C為提供水蒸氣的裝置,
故答案為:A;2Cl2+C+2H2O(g)
  △  
.
 
4HCl+CO2
(2)由裝置圖判斷判斷,氣體由B流經(jīng)C進(jìn)入到D中反應(yīng),氣體通過盛有水的試管時(shí)應(yīng)長進(jìn)短出,否則不能通過C裝置,所以C裝置的c端與a相連,為了更好地發(fā)揮C裝置的作用,可向燒杯中加入濃硫酸,加入濃硫酸的作用是稀釋時(shí)放出大量的熱,促進(jìn)試管里的水蒸發(fā),減少氯氣的溶解,
故答案為:c;濃硫酸;
(3)D中反應(yīng)生成的HCl氣體極易溶于水,易發(fā)生倒吸,故答案為:HCl極易溶于水,易產(chǎn)生倒吸現(xiàn)象,應(yīng)用倒置的漏斗;
(4)關(guān)閉旋塞K,移去兩個(gè)酒精燈,由于余熱的作用,A處仍有少量Cl2產(chǎn)生,B中的氣體逐漸增多,壓強(qiáng)增大,則導(dǎo)致瓶中液面下降,長頸漏斗內(nèi)液面上升,氯氣有毒,不能直接排放到空氣中,B具有貯存少量氯氣,并能防止空氣污染,
故答案為:貯存少量Cl2,避免Cl2對(duì)環(huán)境造成污染.
點(diǎn)評(píng):本題考查氯氣的制備和性質(zhì)實(shí)驗(yàn),題目難度中等,注意氣密性的檢查原理和方法.
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解

SO2是一種重要的化工原料,也是引起酸雨污染的重要來源.
(1)下列有關(guān)酸雨的說法正確的是
D
D
(填序號(hào)).
A.SO2、NO2或CO2都會(huì)導(dǎo)致酸雨的形成
B.NO不溶于水,所以不會(huì)造成酸雨污染
C.燃煤時(shí)鼓入足量空氣,可以減少酸雨的產(chǎn)生
D.采用清潔能源,可以減少酸雨的產(chǎn)生
(2)某興趣小組采用如圖裝置制取并探究SO2氣體的性質(zhì).
①下列實(shí)驗(yàn)方案適用于用右圖所示裝置制取所需SO2的是
B
B
(填序號(hào)).
A.Na2SO3溶液與HNO3                 B.Na2SO3固體與濃硫酸
C.固體硫在純氧中燃燒               D.銅與濃H2SO4
②組裝完儀器后,檢查裝置氣密性的方法是:關(guān)閉活塞b,
試管d中加水至浸沒長導(dǎo)管口,(塞緊試管c和d的膠塞,)加熱c(或用手捂熱c),試管d中有氣泡冒出,停止加熱后,試管d中有一段水柱上升,說明裝置氣密性良好
試管d中加水至浸沒長導(dǎo)管口,(塞緊試管c和d的膠塞,)加熱c(或用手捂熱c),試管d中有氣泡冒出,停止加熱后,試管d中有一段水柱上升,說明裝置氣密性良好

③指導(dǎo)老師指出應(yīng)增加一尾氣吸收裝置,并幫助同學(xué)們?cè)O(shè)計(jì)了如下裝置,其中合理的是
AD
AD
(填序號(hào)).

④小組同學(xué)設(shè)計(jì)在試管d中加入FeCl3溶液,驗(yàn)證SO2的還原性.為了驗(yàn)證SO2與Fe3+發(fā)生了氧化還原反應(yīng),他們?cè)谕ㄈ胱懔縎O2后,取試管d中的溶液,分成三份,并設(shè)計(jì)了如下實(shí)驗(yàn):
方案A:往第一份試液中加入KmnO4溶液,紫紅色褪去
方案B:往第二份試液加入KSCN溶液,不變紅,再加入新制的氯水,溶液變紅
方案C:往第三份試液加入用稀鹽酸酸化的BaCl2,產(chǎn)生白色沉淀.
上述方案不合理的是
A
A
原因是
SO2和Fe2+都可以使KMnO4溶液褪色,所以無法確定一定有Fe2+生成
SO2和Fe2+都可以使KMnO4溶液褪色,所以無法確定一定有Fe2+生成

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

某課外活動(dòng)小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn),試回答下列問題。

       圖I                        圖II

(1)若開始時(shí)開關(guān)K與a連接,則B極的電極反應(yīng)式為_____________。

(2)若開始時(shí)開關(guān)K與b連接,則總反應(yīng)的離子方程式為_______             ______;

有關(guān)上述實(shí)驗(yàn),下列說法正確的是(填序號(hào))_____________。

①溶液中Na+向A極移動(dòng)

②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)

③反應(yīng)一段時(shí)間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度

④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體,則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子

(3)該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法,設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。

①該電解槽工作時(shí),通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______(填“大于” “小于”或“等于”)通過陽離子交換膜的離子數(shù)。

②通電開始后,陰極附近溶液pH會(huì)增大,請(qǐng)簡(jiǎn)述原因_____             ________。

(4)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為                                    。

②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應(yīng):

   3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達(dá)平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為      kg。

 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源:2011屆廣西桂林中學(xué)高三高考模擬試題(理綜)化學(xué)部分 題型:實(shí)驗(yàn)題

某課外活動(dòng)小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn),試回答下列問題。

圖I                        圖II
(1)若開始時(shí)開關(guān)K與a連接,則B極的電極反應(yīng)式為_____________。
(2)若開始時(shí)開關(guān)K與b連接,則總反應(yīng)的離子方程式為_______             ______;
有關(guān)上述實(shí)驗(yàn),下列說法正確的是(填序號(hào))_____________。
①溶液中Na+向A極移動(dòng)
②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)
③反應(yīng)一段時(shí)間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度
④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體,則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子
(3)該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法,設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。
①該電解槽工作時(shí),通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______(填“大于” “小于”或“等于”)通過陽離子交換膜的離子數(shù)。
②通電開始后,陰極附近溶液pH會(huì)增大,請(qǐng)簡(jiǎn)述原因_____              ________。
(4)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。
①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為                                    。
②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應(yīng):
3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)
達(dá)平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為     kg。

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源:2010-2011學(xué)年廣西桂林中學(xué)高三高考模擬試題(理綜)化學(xué)部分 題型:實(shí)驗(yàn)題

某課外活動(dòng)小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn),試回答下列問題。

       圖I                         圖II

(1)若開始時(shí)開關(guān)K與a連接,則B極的電極反應(yīng)式為_____________。

(2)若開始時(shí)開關(guān)K與b連接,則總反應(yīng)的離子方程式為_______              ______;

有關(guān)上述實(shí)驗(yàn),下列說法正確的是(填序號(hào))_____________。

①溶液中Na+向A極移動(dòng)

②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)

③反應(yīng)一段時(shí)間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度

④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體,則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子

(3)該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法,設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。

①該電解槽工作時(shí),通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______(填“大于” “小于”或“等于”)通過陽離子交換膜的離子數(shù)。

②通電開始后,陰極附近溶液pH會(huì)增大,請(qǐng)簡(jiǎn)述原因_____              ________。

(4)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為                                     。

②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應(yīng):

   3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達(dá)平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為      kg。

 

查看答案和解析>>

科目:高中化學(xué) 來源:0120 模擬題 題型:填空題

某課外活動(dòng)小組同學(xué)用如圖Ⅰ裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn),試回答下列問題。
(1)若開始時(shí)開關(guān)K與a連接,則B極的電極反應(yīng)式為_____________。
(2)若開始時(shí)開關(guān)K與b連接,則總反應(yīng)的離子方程式為________________________;有關(guān)上述實(shí)驗(yàn),下列說法正確的是(填序號(hào))___________。
①溶液中Na+向A極移動(dòng)
②從A極處逸出的氣體能使?jié)駶橩I淀粉試紙變藍(lán)
③反應(yīng)一段時(shí)間后加適量鹽酸可恢復(fù)到電解前電解質(zhì)的濃度
④若標(biāo)準(zhǔn)狀況下B極產(chǎn)生2.24 L氣體,則溶液中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子
(3)該小組同學(xué)模仿工業(yè)上用離子交換膜法制燒堿的方法,設(shè)想用如圖Ⅱ裝置電解硫酸鉀溶液來制取氫氣、氧氣、硫酸和氫氧化鉀。
①該電解槽工作時(shí),通過陰離子交換膜的離子數(shù)_______(填“大于” “小于”或“等于”)通過陽離子交換膜的離子數(shù)。
②通電開始后,陰極附近溶液pH會(huì)增大,請(qǐng)簡(jiǎn)述原因_____________。
(4)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用收到廣泛關(guān)注。
①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為____________________。
②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應(yīng):
3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)達(dá)平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于圖Ⅱ離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗硫酸鉀質(zhì)量為________kg。

查看答案和解析>>

同步練習(xí)冊(cè)答案