Question

由銀（74%）、鉛（25%）、銻（1%）等制成的合金是一種優(yōu)良的電鍍新材料。對(duì)其中的銀的分析，可采用絡(luò)合滴定法，具體分析步驟概括如下：

試樣沉淀（A）溶液（B）溶液（C）溶液（D）

其中（I）加入HNO₃（1:1），煮沸，再加入HCl（1:9），煮沸，過(guò)濾，依次用HCl（1:9）和水洗滌沉淀；（II）加入濃氨水，過(guò)濾，用5%氨水洗滌沉淀；（Ⅲ）加入氨水-氯化銨緩沖溶液（pH=10），再加入一定量的鎳氰化鉀固體；（IV）加入紫脲酸銨指示劑（簡(jiǎn)記為In），用乙二胺四乙酸二鈉（簡(jiǎn)寫為Na₂H₂Y）標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定至近終點(diǎn)時(shí)，加入氨水10mL（為了使其終點(diǎn)明顯），繼續(xù)滴定至溶液顏色由黃色變?yōu)樽霞t色為終點(diǎn)。已知有關(guān)數(shù)據(jù)如下：

配合物	[AgY]3-  [NiY]2-  [Ag(CN)2]-  [Ni(CN)4]2-  [Ag(NH3)2] +  [Ni(NH3)6]2+
lgK穩(wěn)	7.32    18.62     21.1       31.3         7.05        8.74

酸	H4Y     H3Y-     H2Y2-     HY3-
lgKa	-2.0    -2.67    -6.16    -10.26

 

 

 

5-1寫出A和D中Ag存在形體的化學(xué)式。

5-2寫出第Ⅲ步驟的主反應(yīng)方程式和第IV步驟滴定終點(diǎn)時(shí)的反應(yīng)方程式。

5-3試樣加HNO₃溶解后，為什么要煮沸？加入HCl（1:9）后為什么還要煮沸？

5-4假定溶液C中Ag（I）的總濃度為0.010mol/L，游離NH₃濃度為2mol/L，要求滴定誤差控制在0.2%以內(nèi)，試計(jì)算溶液C中Ni（II）總濃度至少為若干？

Answer 1

5-1  A：AgCl  D：[Ag(CN)₂]^-， [Ag(NH₃)₂]⁺

5-2  2[Ag(NH₃)₂]⁺+ [Ni(CN)₄]^2-+2NH₃=2[Ag(CN)₂]^-+ [Ni(NH₃)₆]²⁺  NiIn+HY^3-= NiY^3- +HIn

5-3  加HNO₃后繼續(xù)煮沸是為了除去氮的氧化物；加入HCl（1∶9）后，再煮沸是為了使AgCl膠狀沉淀凝聚，便于過(guò)濾和洗滌。

5-4  根據(jù)滴定誤差要求，未被置換的Ag(NH₃)₂⁺平衡濃度為：

[Ag(NH₃)₂⁺]≤0.010×0.2%=2×10^-5mol/L

2[Ag(NH₃)₂]⁺   +  [Ni(CN)₄]^2-  + 2NH₃ = 2[Ag(CN)₂]^-  +   [Ni(NH₃)₆]²⁺

開始濃度(mol/L)   0.010             c            0               0

反應(yīng)濃度(mol/L)  -0.010     -0.0050             +0.010          +0.0050

平衡濃度(mol/L)  2×10^-5        c-0.0050  2       0.010           0.0050

根據(jù)多重平衡原理：  c= 6×10^-3mol?L^-1

即：溶液C中Ni(Ⅱ)總濃度≥6×10^-3mol?L^-1（有效數(shù)字錯(cuò)，扣0.5分）