單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料?茖W家預計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學方法可制得高純度硅,其化學方程式為:       ①SiO2 + 2CSi + 2CO

②Si + 2Cl2SiCl4       ③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl,其中反應①和③屬于(     )

A.化合反應                        B.分解反應

C.置換反應                        D.復分解反應

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相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:

單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料.科學家預計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高.用化學方法可制得高純度硅,其化學方程式為:①SiO2+2C 
 高溫 
.
 
Si+2CO     ②Si+2Cl2
 點燃 
.
 
SiCl4③SiCl4+2H2Si+4HCl.回答下列問題:
(1)上述反應中,屬于氧化還原反應的是
①②③
①②③
(填序號).
(2)反應①和③屬于
C
C

A.化合反應      B.分解反應       C.置換反應      D.復分解反應
(3)下列描述正確的是
B
B

A.氧化還原反應都是置換反應
B.判斷一個反應是否為氧化還原反應的依據(jù)是否有化合價的升降
C.化合反應全部都是氧化還原反應          D.復分解反應全部都是氧化還原反應.

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科目:高中化學 來源:2011-2012學年浙江省溫州市直六校協(xié)作體高一第一學期期中考試化學試卷 題型:填空題

(6分)單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料。科學家預計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學方法可制得高純度硅,其化學方程式為:    ①SiO2 + 2C Si + 2CO    ②Si + 2Cl2SiCl4
③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl;卮鹣铝袉栴}:
(1)上述反應中,屬于氧化還原反應的是           (填序號)。
(2)反應①和③屬于           
A.化合反應      B.分解反應       C.置換反應      D.復分解反應
(3)下列描述正確的是         。
A.氧化還原反應都是置換反應
B.判斷一個反應是否為氧化還原反應的依據(jù)是是否有化合價的升降
C.化合反應全部都是氧化還原反應          D.復分解反應全部都是氧化還原反應

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科目:高中化學 來源:2014屆浙江省蒼南縣靈溪二高高一第一次月考化學試卷(解析版) 題型:填空題

單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料?茖W家預計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學方法可制得高純度硅,其化學方程式為:    

① SiO2 + 2C Si + 2CO     ② Si + 2Cl2SiCl4  ③ SiCl4 + 2H2Si + 4HCl。

回答下列問題:

(1)上述反應中,屬于氧化還原反應的是           (填序號)。

(2)反應①和③屬于           。

A.化合反應      B.分解反應       C.置換反應      D.復分解反應

(3)下列描述正確的是         。

A.氧化還原反應都是置換反應

B.判斷一個反應是否為氧化還原反應的依據(jù)是是否有化合價的升降

C.化合反應全部都是氧化還原反應         

D.復分解反應全部都是氧化還原反應

 

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科目:高中化學 來源:2014屆廣東汕頭市高一第一學期期中考試化學試卷(解析版) 題型:選擇題

單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料?茖W家預計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學方法可制得高純度硅,其化學方程式為 :

①SiO2 + 2C  Si + 2CO②Si + 2Cl2SiCl4       ③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl,

其中反應①和③屬于(     )

A. 化合反應      B. 分解反應        C. 置換反應         D. 復分解反應

 

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科目:高中化學 來源:2014屆浙江省溫州市直六校協(xié)作體高一第一學期期中考試化學試卷 題型:填空題

(6分)單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料?茖W家預計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學方法可制得高純度硅,其化學方程式為:     ①SiO2 + 2C  Si + 2CO     ②Si + 2Cl2SiCl4

③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl;卮鹣铝袉栴}:

(1)上述反應中,屬于氧化還原反應的是            (填序號)。

(2)反應①和③屬于            。

A.化合反應      B.分解反應       C.置換反應      D.復分解反應

(3)下列描述正確的是          。

A.氧化還原反應都是置換反應

B.判斷一個反應是否為氧化還原反應的依據(jù)是是否有化合價的升降

C.化合反應全部都是氧化還原反應          D.復分解反應全部都是氧化還原反應

 

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