(06年天津卷)(19分)晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl3與過量H2在1000~1100℃反應(yīng)制得純硅
已知SiHCl3,能與H2O強烈反應(yīng),在空氣中易自燃。
請回答下列問題:
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為 。
(2)粗硅與HCl反映完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6℃)和HCl(沸點-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為 。
(3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):
①裝置B中的試劑是 。裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是 。
②反應(yīng)一段時間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是 ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是 ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為 。
③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及 。
④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是 。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
(06年天津卷)下列說法正確的是()
A 用乙醇或CCl4可提取碘水中的碘單質(zhì)
B NaCl和SiC晶體溶化時,克服粒子間作用力的類型相同
C 24Mg32S晶體中電子總數(shù)與中子總數(shù)之比為11
D H2S和SiF4分子中各原子最外層都滿足8電子結(jié)構(gòu)
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
(06年天津卷)下列說法正確的是()
A 用乙醇或CCl4可提取碘水中的碘單質(zhì)
B NaCl和SiC晶體溶化時,克服粒子間作用力的類型相同
C 24Mg32S晶體中電子總數(shù)與中子總數(shù)之比為11
D H2S和SiF4分子中各原子最外層都滿足8電子結(jié)構(gòu)
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(06年天津卷)下列說法正確的是()
A 用乙醇或CCl4可提取碘水中的碘單質(zhì)
B NaCl和SiC晶體溶化時,克服粒子間作用力的類型相同
C 24Mg32S晶體中電子總數(shù)與中子總數(shù)之比為11
D H2S和SiF4分子中各原子最外層都滿足8電子結(jié)構(gòu)
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