【題目】在核磁共振氫譜中出現(xiàn)兩組峰,其峰面積之比為3:2的化合物是( )
A.
B.
C.
D.
【答案】D
【解析】解:A、 分子中有2種H原子,分別處于甲基上、乙烯基上,二者H原子數(shù)目之比為6:2=3:1,故A不符合; B、 分子中有3種H原子,分別處于甲基上、苯環(huán)上,三者H原子數(shù)目之比為6:2:2=3:1:1,故B不符合;
C、 分子中有2種H原子,分別處于甲基上、環(huán)上,二者H原子數(shù)目之比為6:8=3:4,故C不符合;
D、 分子為高度對稱結(jié)構(gòu),分子中有2種H原子,分別處于甲基上、苯環(huán)上,二者H原子數(shù)目之比為6:4=3:2,故D符合.
故選:D.
核磁共振氫譜只出現(xiàn)兩組峰,說明有機物含有兩種H原子,峰面積之比為3:2說明分子中兩種H原子數(shù)目之比為3:2,結(jié)合分子中等效氫判斷;分子中等效氫原子一般有如下情況:①分子中同一甲基上連接的氫原子等效;②同一碳原子所連甲基上的氫原子等效;③處于鏡面對稱位置(相當于平面成像時,物與像的關系)上的氫原子等效.
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【題目】FeS2焙燒產(chǎn)生的SO2可用于制硫酸.已知25℃、101kPa時: 2SO2(g)+O2(g) 2SO3(g)△H1=﹣197kJmol﹣1;
H2O(g)═H2O(l)△H2=﹣44kJmol﹣1;
2SO2(g)+O2(g)+2H2O(g)═2H2SO4(l)△H3=﹣545kJmol﹣1
則SO3(g)與H2O(l)反應生成H2SO4(l)的熱化學方程式是 .
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【題目】已知氨可以與灼熱的氧化銅反應得到氮氣和金屬銅,用圖中的裝置可以實現(xiàn)該反應.回答下列問題:
(1)A中發(fā)生反應的化學方程式是_____.
(2)B中加入的物質(zhì)是_____.
(3)實驗時在C中觀察到的現(xiàn)象是_____,發(fā)生反應的化學方程式是_____.
(4)實驗時在D中收集到的物質(zhì)是_____,檢驗該物質(zhì)的方法和現(xiàn)象是_____.
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【題目】常溫下,如果取0.1molL﹣1 HA溶液與0.1molL﹣1 NaOH溶液等體積混合(忽略混合后溶液體積的變化),測得混合溶液的pH=8,試回答以下問題:
(1)混合溶液的pH=8的原因:(用離子方程式表示).
(2)混合溶液中由水電離出的c(OH﹣)(填“>”、“<”或“=”)0.1molL﹣1 NaOH溶液中由水電離出的 c(OH﹣).
(3)求出混合溶液中下列算式的精確計算結(jié)果(填具體數(shù)字):c(OH﹣)﹣c(HA)=molL﹣1 .
(4)已知NH4A溶液為中性,又知HA溶液加到Na2CO3溶液中有氣體放出,試推斷(NH4)2CO3溶液的pH7(填“>”、“<”或“=”);將同溫度下等濃度的四種鹽溶液NH4+按由大到小的順序排列是(填序號). A.NH4HSO4 B.NH4A C.(NH4)2SO4 D.NH4Cl.
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【題目】多晶硅是單質(zhì)硅的一種形態(tài),是制造硅拋光片、太陽能電池及高純硅制晶的主要原料。已知多晶硅第三代工業(yè)制取流程如圖所示:
下列說法錯誤的是( )
A.Y、Z分別為H2、Cl2
B.制取粗硅的過程中焦炭與石英會發(fā)生副反應生成碳化硅,在該副反應中,氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為1:1
C.SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為H2SiO3、H2、HCl,據(jù)此推測SiHCl3中硅元素的化合價為+2價
D.Y與SiHCl3制備多晶硅的反應屬于置換反應
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【題目】如圖都是簡化的碳架結(jié)構(gòu):
(1)其分子式分別是、 .
(2)降冰片烷發(fā)生一氯取代時,取代位置有種.
(3)籃烷發(fā)生一氯取代時,其一氯代物有種.
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【題目】在給定條件下,下列離子組的離子共存判斷及反應的離子方程式均正確的是
選項 | 條件 | 離子組 | 離子共存判斷及的離子方程式 |
A | =1溶液 | Fe2+、NO3-、Al3+、Cl- | 不能大量共存, |
B | 由水電離出c(H+) | K+、NH4+、Cl-、AlO2- | 能大量共存 |
C | 含有大量Al3+的溶液 | Na+、NH4+、SO42-、Cl- | 能大量共存 |
D | 通入少量SO2氣體 | K+、Na+、ClO-、SO42- | 不能大量共存, |
A.A
B.B
C.C
D.D
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【題目】根據(jù)熱化學反應方程式:N2(g) + O2(g)→2NO(g)-180.58kJ,若在標準狀況下反應生成11.2LNO,則此過程中共
A.放出45.145kJ的熱量B.放出180.58kJ的熱量
C.吸收45.145kJ的熱量D.吸收90.29kJ的熱量
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