氮化硅(Si₃N₄)是一種優(yōu)良的高溫結構陶瓷，在工業(yè)生產和科技領域中有重要用途。

Ⅰ.工業(yè)上有多種方法來制備氮化硅，下面是幾種常見的方法：

方法一　直接氮化法：在1 300～1 400 ℃時，高純粉狀硅與純氮氣化合，其反應方程式為________________________________________________________________________。

方法二　化學氣相沉積法：在高溫條件下利用四氯化硅氣體、純氮氣、氫氣反應生成氮化硅和HCl，與方法一相比，用此法制得的氮化硅純度較高，其原因是________________________________________________________________________。

方法三　Si(NH₂)₄熱分解法：先用四氯化硅與氨氣反應生成Si(NH₂)₄和一種氣體________________(填分子式)；然后使Si(NH₂)₄受熱分解，分解后的另一種產物的分子式為____________________。

Ⅱ.(1)氮化硅抗腐蝕能力很強，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽，此鹽中存在的化學鍵類型有______________。

(2)已知：25 ℃，101 kPa條件下的熱化學方程式：

3Si(s)＋2N₂(g)===Si₃N₄(s)　ΔH＝－750.2 kJ·mol^－1①

Si(s)＋2Cl₂(g)===SiCl₄(g)　ΔH＝－609.6 kJ·mol^－1②

H₂(g)＋Cl₂(g)===HCl(g)　ΔH＝－92.3 kJ·mol^－1③

請寫出四氯化硅氣體與氮氣、氫氣反應的熱化學方程式：

________________________________________________________________________。

Ⅲ.工業(yè)上制取高純硅和四氯化硅的生產流程如下：

已知：X、高純硅、原料B的主要成分都可與Z反應，Y與X在光照或點燃條件下可反應，Z的焰色呈黃色。

(1)原料B的主要成分是________(寫名稱)。

(2)寫出焦炭與原料B中的主要成分反應的化學方程式：

________________________________________________________________________。

(3)上述生產流程中電解A的水溶液時，陽極材料能否用Cu？________(填“能”或“不能”)。寫出Cu為陽極電解A的水溶液開始一段時間陰、陽極的電極方程式。

陽極：________；陰極________。

硅及其化合物在自然界廣泛存在并被人類應用。

(1)氮化硅膜與二氧化硅膜相比較具有表面化學性能穩(wěn)定等優(yōu)點，故氮化硅膜可用于半導體工業(yè)�？梢杂肗H₃和SiH₄(硅烷)在一定條件下反應，并在600 T的加熱基板上生成氮化硅膜：

3SiH₄＋4NH₃Si₃N₄＋12H₂

以硅化鎂為原料制備硅烷的反應和工業(yè)流程如下：

反應原理：4NH₄Cl＋Mg₂Si4NH₃↑＋SiH₄↑＋2MgCl₂　(ΔH＜0)

①NH₄Cl中的化學鍵類型有______________________，SiH₄的電子式為______________。

②上述生產硅烷的過程中液氨的作用是______________________________________

________________________________________________________________________。

③氨氣是重要的工業(yè)原料，寫出氨氣發(fā)生催化氧化反應生成NO的化學方程式________________________________________________________________________，

實驗室可利用如右圖所示裝置完成該反應。在實驗過程中，除觀察到錐形瓶中產生紅棕色氣體外，還可觀察到有白煙生成，白煙的主要成分是________。

(2)三硅酸鎂(Mg₂Si₃O₈·nH₂O)難溶于水，在醫(yī)藥上可做抗酸劑。它除了可以中和胃液中多余的酸之外，生成的H₂SiO₃還可覆蓋在有潰瘍的胃表面，保護其不再受刺激。三硅酸鎂與鹽酸反應的化學方程式為__________________________________

____________________________。將0.184 g三硅酸鎂加入到50 mL 0.1 mol·L^－1鹽酸中，充分反應后，濾去沉淀，用0.1 mol·L^－1 NaOH溶液滴定剩余的鹽酸，消耗NaOH溶液

30 mL，則Mg₂Si₃O₈·nH₂O中的n值為__________。(注：Mg₂Si₃O₈的摩爾質量為

260 g·mol^－1)。

含A元素的一種單質是一種重要的半導體材料，含A元素的一種化合物C可用于制造高性能的現(xiàn)代通訊材料——光導纖維，C與燒堿反應生成含A元素的化合物D。

(1)在元素周期表中，A位于________族，與A同族但相對原子質量比A小的元素B的原子結構示意圖為________，A與B在原子的電子層結構上的相同點是________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

(2)易與C發(fā)生化學反應的酸是________(寫名稱)，反應的化學方程式是________________________________________________________________________。

(3)將C與純堿混合高溫熔融時也發(fā)生化學反應生成D，同時還生成B的最高價氧化物E；將全部的E與全部的D在足量的水中混合后，又發(fā)生化學反應生成含A的化合物F。

①寫出生成D和F的化學反應方程式：_____________________________________

________________________________________________________________________。

②要將純堿高溫熔化，下列坩堝中可選用的是________。

A．普通玻璃坩堝                                   B．石英玻璃坩堝

C．氧化鋁坩堝                                      D．鐵坩堝

(4)100 g C與石灰石的混合物充分反應后，生成的氣體在標準狀況下的體積為11.2 L,

100 g混合物中石灰石的質量分數(shù)是____________________。

如圖所示物質的轉化關系中，A是一種固體單質，E是一種白色沉淀。

請回答下列問題：

(1)B的化學式是____________，目前B已被用作________的主要原料。

(2)B和a溶液反應的離子方程式是_______________________________________。

(3)A和a溶液反應的離子方程式是_______________________________________。

(4)C和過量的鹽酸反應的離子方程式是___________________________________。

下列說法正確的是                                                                                           (　　)

A．高溫下，可在試管內完成焦炭和石英砂(SiO₂)制取硅的反應

B．CO₂和鈉在一定條件下反應可以得到金剛石和碳酸鈉，反應中氧化劑和還原劑物質的量之比是3∶4

C．現(xiàn)代海戰(zhàn)通過噴放液體SiCl₄(極易水解)和液氨可產生煙幕，煙幕的主要成分是NH₄Cl

D．從燃煤煙道灰(含GeO₂)中提取半導體材料單質鍺(Ge)，沒有發(fā)生氧化還原反應

將足量CO₂通入KOH和Ca(OH)₂的混合稀溶液中，生成沉淀的物質的量(n)和通入CO₂體積(V)的關系正確的是                                                                                    (　　)

用足量的CO還原13.7 g某鉛氧化物，把生成的CO₂全部通入到過量的澄清石灰水中，得到的沉淀干燥后質量為8.0 g，則此鉛氧化物的化學式是                                   (　　)

A．PbO                                                         B．Pb₂O₃

C．Pb₃O₄                                                      D．PbO₂

       將足量CO₂氣體通入水玻璃(Na₂SiO₃溶液)中，然后加熱蒸干，再在高溫下充分灼燒，最后得到的固體物質是                                                                                       (　　)

A．Na₂SiO₃                                                   B．Na₂CO₃、Na₂SiO₃

C．Na₂CO₃、SiO₂                                          D．SiO₂

       下列離子方程式不正確的是                                                                             (　　)

A．石英與燒堿反應：SiO₂＋2OH^－===SiO＋H₂O

B．硅與燒堿反應：Si＋2OH^－===SiO＋H₂↑

C．硅酸鈉溶液中通入少量CO₂：SiO＋CO₂＋H₂O===CO＋H₂SiO₃↓

D．往水玻璃中加入鹽酸：2H^＋＋SiO===H₂SiO₃↓

       下列敘述正確的是                                                                                           (　　)

A．高溫下二氧化硅與碳酸鈉反應放出二氧化碳，說明硅酸(H₂SiO₃)的酸性比碳酸強

B．陶瓷、玻璃、水泥容器都能貯存氫氟酸

C．石灰抹墻、水泥砌墻的硬化過程原理相同

D．玻璃窯中出來的氣體的主要成分是二氧化碳