回答下列問題。
(1) Cu₂S熔煉過程發(fā)生的主要反應(yīng)為：
2Cu₂S(s)+3O₂(g)=2Cu₂O(s)+2SO₂(g) △H=-768.2 kJ/mol
2Cu₂O(s)+Cu₂S(s)=6Cu(s)+SO₂(g) △H=+116.0 kJ/mol
在熔煉過程中不需要持續(xù)加熱，原因是____。
(2)熔煉過程中產(chǎn)生大量的___（填分子式），可進(jìn)一步加工并作為上述流程中的原料加以循環(huán)利用。
(3)爐渣的主要成分是Fe₂O₃、FeO、Al₂O₃、SiO₂，為了得到鐵紅，需對(duì)上述濾液進(jìn)行處理，處理過程涉及下列步驟中的___（填序號(hào)）。
A．氧化 B．還原 C．灼燒 D．加堿
(4)廢電解液中含有較多的Ni²⁺ ，從廢電解液提取硫酸鎳晶體，需要用電解法把電解液中的Cu²⁺ 除去，電解的陽極可以采用___作為電極材料，陽極的電極反應(yīng)式是____。
(5)從廢電解液中除去Pb²⁺的方法是往其中通入H₂S至飽和，使Pb²⁺轉(zhuǎn)化為硫化鉛沉淀，溶液的 pH對(duì)轉(zhuǎn)化效果的影響是____。已知 ，飽和H₂S溶液中c( H₂S)為0.1 mol/L，NiS的Ksp=10-11，若廢 電解液的pH =5，為保證不生成NiS沉淀，Ni²⁺的濃度應(yīng)控制在__以下。

A．該過程是一種新的硫酸生產(chǎn)方法
B．該過程中硫酸是催化劑
C．該過程中①、②是加成反應(yīng)
D．該過程中③、④是酯類的水解反應(yīng)

(1)請(qǐng)寫出下列各步反應(yīng)的化學(xué)方程式： ①____， ②____， ④____。
(2)若①步?jīng)]有過濾操作而直接進(jìn)入步驟②，對(duì)后面的操作會(huì)有什么影響______________？

①寫出由純SiHCl₃，制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式________________________。
②整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式______________________________；H₂還原SiHCl₃ 過程中若混入O₂，可能引起的后果是_________________________________。
（2）下列有關(guān)硅材料的說法正確的是____（填字母）。
A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料--光導(dǎo)纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高
E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅 

(1)其中關(guān)鍵的一步為（如圖乙所示）氯氣和氫氣在燃燒管口燃燒，生成HCl。氯氣有毒，因此，通入氣體的合理方式是：A處通入____， B處通入___，同時(shí)，應(yīng)采取的措施是____。
(2)合成鹽酸廠要求合成氣中HCl的體積分?jǐn)?shù)大于97%，試用最簡(jiǎn)便的方法進(jìn)行分析____ 。

查表得：
BaSO₄(s)+4C(s)4CO(g)+ BaS(s) △H1=+571.2kJ ·mol^-1 ①
BaSO₄(s)+2C(s)2CO₂(g)+BaS(s) △H2 =+ 226. 2kJ·mol^-1 ②
(1)氣體用過量的NaOH溶液吸收，得到硫化鈉。Na₂S水解的離子方程式為_________。
(2)向BaCl₂溶液中加入AgNO₃和KBr，當(dāng)兩種沉淀共存時(shí)____________． [ Ksp ( AgBr) = 5.4×10^-13 ,Ksp ( AgCl) = 2. 0×10 ^-10 ]
(3)反應(yīng)C(s) +CO₂(g)2CO( g)的△H=__________kJ·mol^-1。
(4)實(shí)際生產(chǎn)中必須加入過量的炭，同時(shí)還要通入空氣，其目的是_________。

(1)寫出鋁土礦與濃NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式：___________。
(2)寫出反應(yīng)Ⅱ的離子方程式：_____________；
(3)結(jié)合反應(yīng)Ⅱ，判斷下列微粒結(jié)合質(zhì)子(H⁺)的能力最強(qiáng)的是_____________ （填字母序號(hào)）。
a.AlO₂^-或[Al(OH)₄]^-
b.SiO₃^2-
c.CO₃^2-
(4)反應(yīng)Ⅲ制取Al₂O₃的操作是：洗滌、______________。
(5)寫出副產(chǎn)品Na₂SiO₃溶液的一種用途：_____________。

已知：
①溫度較低時(shí)：2KOH+Cl₂=KCl+KClO+H₂O
②溫度較高時(shí)：6KOH+3Cl₂=5 KCl+KClO₃+3H₂O
③Fe(NO₃)₃+KClO+KOH→K₂FeO₄+KNO₃+KCl+H₂O（未配平）
(1)該生產(chǎn)應(yīng)在溫度________的情況下進(jìn)行（填“較高”或“較低”）；
(2)請(qǐng)配平反應(yīng)③：
 口Fe(NO₃)₃+口KClO+口KOH→口K₂FeO₄+口KNO₃+口KCl+H₂O
(3) K₂FeO₄具有強(qiáng)氧化性的原因?yàn)開__________；
(4)在“反應(yīng)液I”中加KOH固體的目的是____________；
A．為下一步反應(yīng)提供反應(yīng)物
B．與“反應(yīng)液I”中過量的Cl₂繼續(xù)反應(yīng)，生成更多的KClO
C．KOH同體溶解時(shí)會(huì)放出較多的熱量，有利于提高反應(yīng)速率
D．使副產(chǎn)物KClO₃轉(zhuǎn)化為KClO
(5)從“反應(yīng)液Ⅱ”中分離出K₂FeO₄晶體后，可以得到的副產(chǎn)品有 ____（寫化學(xué)式）。

(1)制備三氯氫硅的反應(yīng)為：Si(s) +3 HCl(g)=SiHCl₃(g)+H₂(g) △H=-210 kJ·mol^-1。
伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)+4HCl(g)=SiCl₄(g)+2H₂(g) △H=-241 kJ·mol^-1。
SiCl₄在一定條件下與H₂反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl₃，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為SiCl₄(g)+H₂(g)=SiHCl₃(g)+HCl(g) △H=___________。
(2)由純SiHCl₃制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為___________。該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是_____________（至少寫出兩種）。
(3)由于SiH₄具有易提純的特點(diǎn)，因此硅烷熱分解法是制備高純硅很有發(fā)展?jié)摿Φ姆椒�。工業(yè)上廣泛采用的合成硅烷方法是讓硅化鎂和同體氯化銨在液氨介質(zhì)中反應(yīng)得到硅烷．化學(xué)方程式是___________；整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水，否則反應(yīng)將不能生成硅烷，而是生成硅酸和氫氣等，其化學(xué)方程式為___________；整個(gè)系統(tǒng)還必須與氧隔絕，其原因是___________。