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4.化合物M是二苯乙炔類液晶材料的一種,最簡單的二苯乙炔類化合物是.以互為同系物的單取代芳烴A、G為原料合成M的一種路線(部分反應(yīng)條件略去)如下:

回答下列問題:
(1)A的結(jié)構(gòu)簡式為
(2)D中含有的官能團是碳碳雙鍵,分子中最多有10個碳原子共平面.
(3)①的反應(yīng)類型是取代反應(yīng),④的反應(yīng)類型是加成反應(yīng).
(4)⑤的化學(xué)方程式為
(5)B的同分異構(gòu)體中能同時滿足如下條件:①苯環(huán)上有兩個取代基,②能發(fā)生銀鏡反應(yīng),共有15種(不考慮立體異構(gòu)),其中核磁共振氫譜為5組峰,且峰面積比為6:2:2:1:1的是(寫結(jié)構(gòu)簡式).
(6)參照上述合成路線,設(shè)計一條由苯乙烯和甲苯為起始原料制備的合成路線:

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3.黃銅礦(CuFeS2)是煉銅的最主要礦物,在野外很容易被誤會為黃金,又稱愚人金.

(1)火法冶煉黃銅礦的過程中,利用了Cu2O與Cu2S反應(yīng)生成Cu單質(zhì),反應(yīng)的化學(xué)方程式是2Cu2O+Cu2S$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$6Cu+SO2↑.
(2)S位于周期表中ⅥA族,該族元素氫化物中,H2Te比H2S沸點高的原因是兩者均為分子晶體且結(jié)構(gòu)相似,H2Te相對分子質(zhì)量比H2S大,分子間作用力更強,H2O比H2Te沸點高的原因是兩者均為分子晶體,H2O分子中存在氫鍵.
(3)S有+4和+6兩種價態(tài)的氧化物,回答下列問題:
①下列關(guān)于氣態(tài)SO3和SO2的說法中,正確的是AD.
A.中心原子的價層電子對數(shù)目相等             B.都是極性分子
C.中心原子的孤對電子數(shù)目相等               D.都含有極性鍵
②將純液態(tài)SO3冷卻到289.8K時凝固得到一種螺旋狀單鏈結(jié)構(gòu)的固體,其結(jié)構(gòu)如圖1,此固態(tài)SO3中S原子的雜化軌道類型是sp3
(4)Cu有+1和+2兩種價態(tài)的化合物,回答下列問題:
①Cu+的價層電子排布為3d10,Cu2+有1個未成對電子.
②新制的Cu(OH)2能夠溶解于過量濃堿溶液中,反應(yīng)的離子方程式是Cu(OH)2+2OH-=[Cu(OH)4]2-
(5)CuFeS2的晶胞如圖2所示,晶胞參數(shù)a=0.524nm,c=1.032nm;CuFeS2的晶胞中每個Cu原子與4個S原子相連,列式計算晶體密度 ρ=$\frac{4×184g/mol}{6.02×1{0}^{23}mo{l}^{-1}×(0.524×1{0}^{-7}cm)^{2}×1.032×1{0}^{-7}cm}$ g•cm-3

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2.高純MnCO3是廣泛用于電子行業(yè)的強磁性材料.MnCO3為白色粉末,不溶于水和乙醇,在潮濕環(huán)境下易被氧化,溫度高于100℃開始分解.
Ⅰ.實驗室以MnO2為原料制備MnCO3
(1)制備MnSO4溶液:
①主要反應(yīng)裝置如圖1,緩緩?fù)ㄈ虢?jīng)N2稀釋的SO2氣體,發(fā)生反應(yīng)H2SO3+MnO2$\frac{\underline{\;電爐\;}}{\;}$MnSO4+H2O.下列措施中,目的是加快化學(xué)反應(yīng)速率的是AB(填標號).
A.MnO2加入前先研磨       B.?dāng)嚢?nbsp;     C.提高混合氣中N2比例
②已知實驗室制取SO2的原理是Na2SO3+2H2SO4(濃) $\frac{\underline{\;電電爐\;}}{\;}$ 2NaHSO4+SO2↑+H2O.選擇如圖2所示部分裝置與圖裝1置相連制備MnSO4溶液,應(yīng)選擇的裝置有abef(填標號).

③若用空氣代替N2進行實驗,缺點是空氣中的O2能氧化H2SO3,使SO2利用率下降.(酸性環(huán)境下Mn2+不易被氧化)
(2)制備MnCO3固體:
實驗步驟:①向MnSO4溶液中邊攪拌邊加入飽和NH4HCO3溶液生成MnCO3沉淀,反應(yīng)結(jié)束后過濾;②…;③在70-80℃下烘干得到純凈干燥的MnCO3固體.
步驟②需要用到的試劑有乙醇.
Ⅱ.設(shè)計實驗方案
(3)利用沉淀轉(zhuǎn)化的方法證明KSP(MnCO3)<KSP(NiCO3):向少量NiSO4溶液中滴加幾滴Na2CO3溶液,生成淺綠色沉淀,再滴加足量MnSO4溶液,沉淀變成白色.(已知NiCO3為難溶于水的淺綠色固體)
(4)證明H2SO4的第二步電離不完全:用pH計測量Na2SO4溶液的pH大于7.[查閱資料表明K2(H2SO4)=1.1×10-2].

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1.W、X、Y、Z均為短周期主族元素,原子序數(shù)依次增加,且互不同族,其中只有兩種為金屬元素,W原子的最外層電子數(shù)與次外層電子數(shù)相等,W與Z、X與Y這兩對原子的最外層電子數(shù)之和均為9,單質(zhì)X與Z都可與NaOH溶液反應(yīng).下列說法正確的是( 。
A.原子半徑:Z>Y>X
B.最高價氧化物的水化物的酸性:Y>Z
C.化合物WZ2中各原子均滿足8電子的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)
D.Y、Z均能與碳元素形成共價化合物

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20.設(shè)NA為阿伏加德羅常數(shù),下列敘述中正確的是( 。
A.78 g Na2O2中存在的共價鍵總數(shù)為NA
B.0.1 mol${\;}_{38}^{90}$Sr原子中含中子數(shù)為3.8NA
C.氫氧燃料電池負極消耗2.24 L氣體時,電路中轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為0.1NA
D.0.1 mol氯化鐵溶于1L水中,所得溶液中Fe3+的數(shù)目為0.1NA

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19.下列敘述正確的是(  )
A.順-2-丁烯和反-2-丁烯的加氫產(chǎn)物不同
B.甲醛、氯乙烯和乙二醇均可作為合成聚合物的單體
C.ABS樹脂、光導(dǎo)纖維及碳纖維都是有機高分子材料
D.酸性條件下,C2H5CO18OC2H5的水解產(chǎn)物是C2H5CO18OH和C2H5OH

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18.芳香酯I的合成路線如下:

已知以下信息:
①A-I均為芳香族化合物,A的苯環(huán)上只有一個取代基,B能發(fā)生銀鏡反應(yīng),D的相對分子質(zhì)量比C大4,E的核磁共振氫譜有3組峰.
$→_{△}^{KMnO_{4}/H+}$
③2RCH2CHO$→_{△}^{NaOH/H_{2}O}$
請回答下列問題:
(I)A→B的反應(yīng)類型為氧化反應(yīng),G所含官能團的名稱為羥基、羧基.
(2)步驟E→F與F→G的順序能否顛倒?否(填“能”或“否”),理由:如果顛倒,則(酚)羥基會被KMnO4/H+氧化.
(3)B與銀氨溶液反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(4)I的結(jié)構(gòu)簡式為
(5)符合下列要求的A的同分異構(gòu)體有9種.
①遇氯化鐵溶液顯紫色 ②屬于芳香族化合物
(6)根據(jù)已有知識并結(jié)合相關(guān)信息,寫出以CH3CH2OH為原料制備CH3CH2CH2CH2OH的合成路線流程圖(無機試劑任用).合成路線流程圖示例如下:CH3CH2Br$→_{△}^{NaOH溶液}$CH3CH2OH$→_{濃硫酸,△}^{CH_{3}COOH}$CH3COOCH2CH3

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17.E、G、M、Q、T是五種原子序數(shù)依次增大的前四周期元素.E、G、M是位于p區(qū)的同一周期的元素,M的價層電子排布為ns2np2n,E與M原子核外的未成對電子數(shù)相等;QM2與GM2-具有相等的價電子總數(shù);T為過渡元素,其原子核外沒有未成對電子.請回答下列問題:
(1)T元素原子的價電子排布式是3d104s2
(2)E、G、M三種元素的第一電離能由大到小的順序為N>O>C(用元素符號表示),其原因為同周期隨原子序數(shù)增大,第一電離能呈增大趨勢,但N原子2P能級為半滿穩(wěn)定狀態(tài),能量較低,第一電離能大于氧的.
(3)E、G、M的最簡單氫化物中,鍵角由大到小的順序為CH4>NH3>H2O(用分子式表示),
其中G的最簡單氫化物的分子立體構(gòu)型名稱為三角錐形,M的最簡單氫化物的分子中中心原子的雜化類型為sp3.M和Q的最簡單氫化物的沸點大小順序為H2O>H2S(寫化學(xué)式).
(4)EM、CM+、G2互為等電子體,EM的結(jié)構(gòu)式為(若有配位鍵,請用“→”表示).E、M電負性相差1.0,由此可以判斷EM應(yīng)該為極性較強的分子,但實際上EM分子的極性極弱,請解釋其原因:從電負性分析,CO中的共用電子對偏向氧原子,但分子中形成配位鍵的電子對是由氧原子單方面提供的,抵消了共用電子對偏向O而產(chǎn)生的極性

(5)TQ在熒光體、光導(dǎo)體材料、涂料、顏料等行業(yè)中應(yīng)用廣泛.立方TQ晶體結(jié)構(gòu)如右圖所示,該晶體的密度為pg•cm-3.如果TQ的摩爾質(zhì)量為Mg.mol-1,阿伏加德羅常數(shù)為NAmol-1,則a、b之間的距離為$\frac{\sqrt{3}}{4}$×$\root{3}{\frac{4M}{ρ{N}_{A}}}$cm.

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16.硅是帶來人類文明的重要元素之一,從傳統(tǒng)材料到信息材料的發(fā)展過程中創(chuàng)造了許多奇跡.
(l)新型陶瓷Si3N4的熔點高、硬度大、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定.工業(yè)上可以采用化學(xué)氣相沉積法,在H2的保護下,使SiCI4與N2反應(yīng)生成Si3N4沉積在石墨表面,寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
(2)已知硅的熔點是1420℃,高溫下氧氣及水蒸氣能明顯腐蝕氮化硅.一種用工業(yè)硅(含少量鉀、鈉、鐵、銅的氧化物)合成氮化硅的主要工藝流程如圖:

①凈化N2和H2時,銅屑的作用是除去原料氣中的氧氣;硅膠的作用是除去生成的水蒸氣.
②在氮化爐中3Si(s)+2N2(g)=Si3N4(S)△H=-727.5kJ.mol-l,開始時為什么要嚴格控制氮氣的流速以控制溫度?該反應(yīng)為放熱反應(yīng),防止局部過熱,導(dǎo)致硅熔化熔合成團,阻礙與N2的接觸;體系中要通人適量的氫氣是為了將體系中的氧氣轉(zhuǎn)化為水蒸氣,而易被除去(或?qū)⒄麄體系中空氣排盡).
③X可能是硝酸(選填“鹽酸”、“硝酸”、“硫酸”或“氫氟酸”).
(3)工業(yè)上可以通過如圖所示的流程制取純硅:

①整個制備過程必須嚴格控制無水無氧.SiHCl3遇水能發(fā)生劇烈反應(yīng),寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl.
②假設(shè)每一輪次制備1mol純硅,且生產(chǎn)過程中硅元素沒有損失,反應(yīng)I中HCI的利用率為90%,反應(yīng)II中H2的利用率為93.750/0.則在第二輪次的生產(chǎn)中,補充投入HC1和H:的物質(zhì)的量之比是5:1.

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15.某無色溶液中可能含有①Na+②Ba2+③Cl-④Br -⑤S042-⑥SO32-中的若干種,依次進行下列實驗,且每步所加試劑均過量,觀察到的現(xiàn)象如下:
步驟序號操作步驟現(xiàn) 象
(1)用pH試紙檢驗溶液的pH>7
(2)向溶液中滴加氯水,再加人CC14、振蕩、靜置下層呈橙色
(3)向(2)所得水溶液中加人Ba(N032溶液和 稀 HNO3有白色沉淀產(chǎn)生
(4)過濾,向濾液中加人AgNO3溶液和稀HNO,有白色沉淀產(chǎn)生
下列結(jié)論正確的是( 。
A.不能確定的離子是①B.不能確定的離子是②③
C.肯定含有的離子是①④⑥D.肯定沒有的離子是②⑤

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同步練習(xí)冊答案