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化學(xué)反應(yīng)的△H等于反應(yīng)中斷裂舊化學(xué)鍵的鍵能之和與反應(yīng)中形成新化學(xué)鍵的鍵能之和的差,參考下表鍵能數(shù)據(jù)和晶體硅與二氧化硅結(jié)構(gòu)模型估算晶體硅在氧氣中燃燒生成二氧化硅晶體的熱化學(xué)方程式:Si(s)+O2(g)=SiO2(s)中,△H的值為( 。
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