A.△H1＞△H2＞△H3B.△H1＜△H2＝△H3

C.△H1＞△H2＝△H3D.△H1＝△H2＜△H3

A.SO2具有還原性，可用于漂白紙漿

B.硅硬度大，可用于制造半導(dǎo)體芯片

C.液氨汽化時(shí)要吸熱，可用作制冷劑

D.Na2S具有還原性，可作廢水中Hg2+的沉淀劑

A. 裝置I左側(cè)的液面一定會(huì)下降

B. 左側(cè)液面裝置I比裝置II的低

C. 裝置II中的鐵釘腐蝕最嚴(yán)重

D. 裝置Ⅲ中的鐵釘幾乎沒被腐蝕

【題目】我國化學(xué)家侯德榜（如圖）改進(jìn)國外的純堿生產(chǎn)工藝，生產(chǎn)流程可簡要表示如圖：

該生產(chǎn)純堿的方法稱聯(lián)合制堿法或侯德榜制堿法聯(lián)合制堿法或侯德榜制堿法，在制得純堿的同時(shí)，還可得到一種副產(chǎn)品．
（1）上述沉淀池中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)方程式是 ， 實(shí)驗(yàn)室分離出沉淀的操作是 ， 該操作使用的玻璃儀器有；
（2）寫出上述流程中X物質(zhì)的分子式；
（3）使原料氯化鈉的利用率從70%提高到90%以上，主要是設(shè)計(jì)了的循環(huán)（填上述流程中的編號(hào)1、2）；
（4）為檢驗(yàn)產(chǎn)品碳酸鈉中是否含有氯化鈉，可取少量試樣溶于水后，還需要的試劑有；
（5）向母液中通氨氣，加入細(xì)小食鹽顆粒，冷卻析出副產(chǎn)品．通氨氣的作用有 ．
A.增大NH4+的濃度，使NH4Cl更多地析出
B.使NaHCO3更多地析出
C.使NaHCO3轉(zhuǎn)化為Na2CO3 ， 提高析出的NH4Cl純度．

【題目】某化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)物和產(chǎn)物如下：KMnO4+KI+H2SO4→MnSO4+I2+KIO3+K2SO4+H2O
（1）該反應(yīng)的氧化劑是
（2）如果該反應(yīng)方程式中I2和KIO3的系數(shù)都是5
①KMnO4的系數(shù)是
②在下面的化學(xué)式上標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目KMnO4+KI+H2SO4→
（3）如果沒有對(duì)該方程式中的某些系數(shù)作限定，可能的配平系數(shù)有許多組．原因是

①鐵與稀硝酸 ②硝酸銀溶液與氨水 ③碳酸鈉溶液與稀鹽酸 ④鐵與氯氣

A. ①②③B. ①②③④C. ②③D. ③④

A. 酸性氧化物：CO2、SiO2、SO2、NO2

B. 堿：燒堿、純堿、苛性鉀、氫氧化鋇

C. 混合物：鹽酸、漂白粉、水煤氣、氫氧化鐵膠體

D. 堿性氧化物：Na2O、CaO、MgO、Al2O3

A. 過濾 B. 蒸餾

C. 電泳 D. 滲析

A. a是正極，發(fā)生還原反應(yīng)

B. b是陽極，發(fā)生氧化反應(yīng)

C. 稀硫酸中硫酸根離子的物質(zhì)的量不變

D. 往濾紙上滴加酚酞試液，a極附近顏色變紅

【題目】在101 kPa和298 K時(shí)，有關(guān)反應(yīng)的熱化學(xué)方程式有：H2(g)+ O2(g)=H2O(g) △H1=-241.8 kJ·mol-1，

H2(g)+ O2(g)=H2O(l) △H2=-285.8 kJ·mol-1，

下列說法錯(cuò)誤的是

A. H2燃燒生成1mol H2O(g)時(shí)，放出241.8 kJ的熱量

B. O2前面的表示參加反應(yīng)的O2的分子數(shù)目

C. 298K時(shí)，lmolH2完全燃燒生成穩(wěn)定的氧化物時(shí)放出的熱量為285.8 kJ

D. 1mol液態(tài)水變成水蒸氣時(shí)吸收44 kJ的熱量