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將11. 2g鐵投入200mL某濃度的硫酸中,鐵和硫酸恰好完全反應(yīng)。求:
(1)11.2g鐵的物質(zhì)的量
(2)所用硫酸中H2SO4的物質(zhì)的量濃度
(3)反應(yīng)中生成的H2在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積
(4)在反應(yīng)后的溶液中通入1.12 L(標(biāo)準(zhǔn)狀況下)Cl2 ,求所得溶液各種離子的物質(zhì)的量之比(H+和 OH 除外)。
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電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板,該廠所用原料如下:FeCl3、Fe粉、Cl2 、HCl 。為了使FeCl3能循環(huán)使用,且回收較貴重的金屬銅設(shè)計(jì)了如下操作流程
回答下列問題
(一).流程圖中(1)加入的是
其反應(yīng)的離子方程式為
(二).流程圖(2)中是加入過量的鐵粉,發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為
(三).濾渣里含 ;
加過量的(3)后發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為
流程圖(4)濾液與氯氣反應(yīng)的離子方程式為
(四).制造印刷電路板的過程中實(shí)際消耗的原料是 、 、
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有一氧化還原反應(yīng)2NH3 + 3Cl2 ==== 6HCl + N2 該反應(yīng)的氧化劑是 ,還原劑是 ,若反應(yīng)生成3 mol HCl ,則轉(zhuǎn)移的電子個(gè)數(shù)是 個(gè)。
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A、B、C、D、E 5瓶透明溶液,分別是HCl、BaCl2、NaHSO4、Na2CO3和AgNO3中的一種。已知:
①A與B反應(yīng)有氣體生成 ②B與C反應(yīng)有沉淀生成 ③C與D反應(yīng)有沉淀生成 ④D與E反應(yīng)有沉淀生成 ⑤A與E反應(yīng)有氣體生成 ⑥在②和③的反應(yīng)中生成的沉淀是同一種物質(zhì)
請(qǐng)?zhí)羁眨?/p>
(1)在②和③的反應(yīng)中,生成的沉淀物質(zhì)的化學(xué)式(分子式)是__________。
(2)A是__________,B是__________,C是__________,D是__________,E是__________。
(3)A與E反應(yīng)的離子方程式是
_____________________________________________________。
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按要求寫出有關(guān)反應(yīng)的離子方程式
① 實(shí)驗(yàn)室用硝酸銀溶液檢驗(yàn)氯離子的存在
② 硫酸銅與氫氧化鋇溶液反應(yīng)
③ 三氧化二鐵和鹽酸反應(yīng)
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按要求完成下列反應(yīng)的化學(xué)方程式
① 鈉與水反應(yīng)
② 過氧化鈉與二氧化碳反應(yīng)
③ 氯氣與氫氧化鈉溶液反應(yīng)
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在下列物質(zhì):燒堿,SO3,鐵片,石墨,甲烷,醋酸中,屬于電解質(zhì)的是___ _ _,其中屬于強(qiáng)電解質(zhì)的是__ __,屬于非電解質(zhì)的是 既不屬于電解質(zhì)又不屬于非電解質(zhì)的是__________。
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14.2g Cl2 含 個(gè)氯氣分子、 摩爾氯原子,標(biāo)準(zhǔn)狀況下所占的體積為 升,與這些Cl2分子數(shù)相同的H2的質(zhì)量是 g ,它們恰好完全反應(yīng)后得到的氯化氫氣體的物質(zhì)的量是 摩爾,質(zhì)量為 g,在標(biāo)準(zhǔn)狀況下是 升,將產(chǎn)生的氯化氫氣體溶于490.4 mL 水中,則所得溶液的質(zhì)量為 g ,若所得溶液的密度為1.01 g?cm-3 ,則該溶液的體積為 L。 溶液的物質(zhì)的量濃度為 mol?L-1 ,質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 。
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在兩個(gè)容積相同的容器中,一個(gè)盛有HCl氣體,另一個(gè)盛有H2和Cl2的混合氣體。在同溫同壓下,兩容器內(nèi)的氣體一定具有相同的( )
A.原子數(shù) B.密度 C.質(zhì)量 D.質(zhì)子數(shù)
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