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科目: 來(lái)源: 題型:

下列化合物不屬于天然高分子化合物的是:

A.淀粉       B.油脂         C.纖維素        D.蛋白質(zhì)

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

新材料技術(shù)已成為高新技術(shù)關(guān)注的焦點(diǎn),下列材料中屬于新型無(wú)機(jī)材料的是:

    A.鋼化玻璃                            B.高標(biāo)號(hào)水泥

C.氧化鋁陶瓷                          D.酚醛樹酯制成的玻璃鋼

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

在煉鐵、制玻璃、制水泥三種工業(yè)生產(chǎn)中,都需要的原料是:

A.純堿        B.石灰石       C.石英         D.粘土

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

將鐵制零件與下列哪種金屬或非金屬接觸時(shí),可以減少空氣和水對(duì)鐵的腐蝕:

A.銅          B.銀          C.石墨         D.鋅

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

“不粘鍋”是在金屬內(nèi)壁上涂上一薄層聚四氟乙烯制成的物質(zhì),下列關(guān)于聚四氟乙烯的敘述中正確的是:

A.在聚四氟乙烯的單體中含有碳碳雙鍵

B.聚四氟乙烯在高溫時(shí)易燃燒

C.聚四氟乙烯化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,正常使用不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)

D.聚四氟乙烯的分子內(nèi)支鏈很多,且相互纏繞,不會(huì)污染食物

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

為了降低硫氧化物造成的空氣污染,可以在含硫的燃料中加入生石灰,這種方法稱為“鈣基固硫”,則燃料燃燒過(guò)程中的“固硫”反應(yīng)為:

A.CaO+2S= 2CaS + O2               B.S + O2 = SO2

C.CaO + SO2 = CaSO3                D.2CaO + 2SO2 + O2 = 2CaSO4

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

下列關(guān)于鋼鐵冶煉的說(shuō)法錯(cuò)誤的是:

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

 

⑴聚苯乙烯的鏈節(jié)是              ,單體是               

⑵實(shí)驗(yàn)測(cè)得某聚苯乙烯的相對(duì)分子質(zhì)量(平均值)為52 000,則該高聚物的聚合度n     。

⑶已知聚苯乙烯為線型結(jié)構(gòu)的高分子化合物,試推測(cè):      溶于CHCl3,具有      (填“熱塑”或“熱固”)性。

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

(14分)硫酸工業(yè)中2SO2(g)+O2(g)催化劑△2SO3(g);ΔH<0(放熱反應(yīng))有關(guān)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)如下:

壓強(qiáng)

 

SO2

轉(zhuǎn)化率

溫度

1×105 Pa

5×105 Pa

10×105 Pa

50×105 Pa

100×105 Pa

450 ℃

97.5%

98.9%

99.2%

99.6%

99.7%

550 ℃

85.6%

92.9%

94.9%

97.7%

98.3%

(1)在生產(chǎn)中常用過(guò)量的空氣是為了________。

(2)高溫對(duì)該反應(yīng)有何影響?________,實(shí)際生產(chǎn)中采用400~500 ℃的溫度除了考慮速率因素外,還考慮到________。

(3)增大壓強(qiáng)對(duì)上述反應(yīng)有何影響?____,但工業(yè)上又常采用常壓進(jìn)行反應(yīng),其原因是______________。

(4)常用濃H2SO4而不用水吸收SO3是由于___ ___,尾氣中SO2必須回收,主要是為了________。

 

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科目: 來(lái)源: 題型:

(18分)晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下:

 ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl3:Si+3HCl    SiHCl3+H2

③SiHCl3與過(guò)量H2在1000~1100℃反應(yīng)制得純硅。

已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。

請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為                 。

(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為:            

(3)用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):

①裝置B中的試劑是        ,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是:         。

②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是       ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是     ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為               

③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及    

④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號(hào))是          

a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液     d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液

 

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同步練習(xí)冊(cè)答案