如圖所示為研究電子槍中電子在電場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)的簡(jiǎn)化模型示意圖。在Oxy平面的ABCD區(qū)域內(nèi),存在兩個(gè)大小均為E的勻強(qiáng)電場(chǎng)I和II,兩電場(chǎng)的邊界均是邊長(zhǎng)為L的正方形(不計(jì)粒子所受重力,已知電子的質(zhì)量為m,電量為e)。
(1) 在該區(qū)域AB邊的中點(diǎn)處由靜止釋放電子,電子離開(kāi)勻強(qiáng)電場(chǎng)I的時(shí)間t和速率v0 。
(2)在該區(qū)域AB邊的中點(diǎn)處由靜止釋放電
子,求電子離開(kāi)ABCD區(qū)域的位置坐標(biāo);
(3)在電場(chǎng)I區(qū)域內(nèi)適當(dāng)位置由靜止釋放電子,電子恰能從ABCD區(qū)域左下角D處離開(kāi),求所有釋放點(diǎn)的位置坐標(biāo);
解:(1)電子在電場(chǎng)I中做勻加速直線運(yùn)動(dòng), ——2分
——1分
——1分
(2)此后電場(chǎng)II做類(lèi)平拋運(yùn)動(dòng),假設(shè)電子從CD邊射出,出射點(diǎn)縱坐標(biāo)為y,有
——1分
——1分
解得 ——1分
所以原假設(shè)成立,即電子離開(kāi)ABCD區(qū)域的位置坐標(biāo)為()——1分
。3)設(shè)釋放點(diǎn)在電場(chǎng)區(qū)域I中,其坐標(biāo)為(x,y),在電場(chǎng)I中電子被加速到v1,然后進(jìn)入電場(chǎng)II做類(lèi)平拋運(yùn)動(dòng),并從D點(diǎn)離開(kāi),有
——2分
——2分
解得 ——2分 即在電場(chǎng)I區(qū)域內(nèi)滿足方程的點(diǎn)即為所求位置。
解析
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