某同學(xué)用某種單色光做雙縫干涉實(shí)驗(yàn)時(shí),發(fā)現(xiàn)條紋太密難以測(cè)量,可以采用的改善辦法是
A.增大雙縫間距
B.增大雙縫到屏的距離
C.增大雙縫到單縫的距離
D.改用波長(zhǎng)較短的光(如紫光)作為入射光
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電阻R (KΩ) |
電流I (μ。 |
電流的倒數(shù)-
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10 | 80 | 12.50 | ||
8.0 | 98 | 10.20 | ||
6.0 | 122 | 8.20 | ||
5.0 | 145 | 6.90 | ||
3.0 | 225 | 4.44 |
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某同學(xué)用某種單色光做雙縫干涉實(shí)驗(yàn)時(shí),發(fā)現(xiàn)條紋太密難以測(cè)量,可以采用的改善辦法是( )
A.增大雙縫間距
B.增大雙縫到屏的距離
C.增大雙縫到單縫的距離
D.改用波長(zhǎng)較短的光(如紫光)作為入射光
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某同學(xué)用某種單色光做雙縫干涉實(shí)驗(yàn)時(shí),發(fā)現(xiàn)條紋太密難以測(cè)量,可以采用的改善辦法是
A.增大雙縫間距 B.增大雙縫到屏的距離
C.增大雙縫到單縫的距離 D.改用波長(zhǎng)較短的光(如紫光)作為入射光
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