如圖所示是雙縫干涉實驗,使用波長為600nm的橙色光照射時,在光屏上的P0點和P0點上方的P1點恰好形成兩列相鄰的亮條紋,若用波長為400nm的紫光重復(fù)上述實驗,則P0點和P1點形成的明暗條紋情況是(   )
A.P0點和P1點都是亮條紋
B.P0點是亮條紋,P1點是暗條紋
C.P0點是暗條紋,P1點是亮條紋
D.P0點和P1點都是暗條紋
B

試題分析:P0點到雙縫的路程差為0,出現(xiàn)明條紋.用600nm的橙色光照射時,在光屏上的P0點和P0點上方的P1點恰好形成兩列相鄰的亮條紋,則,用400nm的橙色光照射時,,可知P1點是暗條紋.故B正確,A、C、D錯誤
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中物理 來源:不詳 題型:實驗題

某同學(xué)用圓柱形玻璃磚做測定玻璃折射率的實驗,先在白紙上放好圓柱形玻璃磚,在玻璃磚的一側(cè)插上兩枚大頭針P1和P2,然后在圓柱形玻璃磚另一側(cè)觀察,調(diào)整視線使P1的像被P2的像擋住,接著在眼睛所在一側(cè)相繼又插上兩枚大頭針P3、P4,使P3擋住P1、P2的像,使P4擋住P3和P1、P2的像,在紙上標(biāo)出大頭針位置和圓柱形玻璃磚的邊界如圖所示.

(1)在圖上畫出所需的光路.
(2)為了測量出玻璃磚的折射率,需要測量的物理量有________(要求在圖上標(biāo)出).
(3)測出的折射率n=________.

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科目:高中物理 來源:不詳 題型:單選題

激光散斑測速是一種嶄新的測速技術(shù),它應(yīng)用了光的干涉原理.用二次曝光照相所獲得的“散斑對”相當(dāng)于雙縫干涉實驗中的雙縫,待測物體的速度v與二次曝光時間  Δt的乘積等于雙縫間距.實驗中可測得二次曝光時間Δt、雙縫到屏的距離l以及相鄰兩條亮紋的間距Δx.若所用激光波長為λ,則該實驗確定物體運動速度的表達(dá)式是
A.v=
B.v=
C.
D.v=

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科目:高中物理 來源:不詳 題型:單選題

為了減少光學(xué)元件的反射損失,可在光學(xué)元件表面鍍上一層增透膜,利用薄膜的干涉相消來減少反射光.如果照相機鏡頭所鍍膜對綠光的折射率為n,厚度為d,它使綠光在垂直入射時反射光完全抵消,那么綠光在真空中的波長λ0為(  )
A.
d
4
B.
nd
4
C.4dD.4nd

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科目:高中物理 來源:不詳 題型:單選題

如圖所示,在“用雙縫干涉測光的波長”的實驗中,光具座上放置的光學(xué)元件有光源、遮光筒和其他元件,其中a、b、c、d各裝置的名稱依次是下列選項中的(  )
A.a(chǎn)單縫、b濾光片、c雙縫、d光屏
B.a(chǎn)單縫、b雙縫、c濾光片、d光屏
C.a(chǎn)濾光片、b單縫、c雙縫、d光屏
D.a(chǎn)濾光片、b雙縫、c單縫、d光屏

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科目:高中物理 來源:不詳 題型:實驗題

“利用雙縫干涉測定光的波長”實驗中,雙縫間距d=0.4 mm,雙縫到光屏的距離L=0.5 m,用某種單色光照射雙縫得到干涉條紋如圖所示,分劃板在圖中A、B位置時游標(biāo)卡尺讀數(shù)也如圖中所示,則:

(1)分劃板在圖中A、B位置時游標(biāo)卡尺讀數(shù)xA=11.1mm,則xB=________mm,相鄰兩條紋間距Δx=________mm;
(2)波長的表達(dá)式λ=________(用Δx、L、d表示),該單色光的波長λ=________m;
(3)若改用頻率較高的單色光照射,得到的干涉條紋間距將_______(填“變大”、“不變”或“變小”)。

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科目:高中物理 來源:不詳 題型:實驗題

(12分)在《用雙縫干涉測光的波長》的實驗中,裝置如圖所示,雙縫間的距離d=3.0 mm.

(1)若測定紅光的波長,應(yīng)選用________色的濾光片.實驗時需要測定的物理量有________和________.
(2)若測得雙縫與屏之間的距離為0.700 0 m,通過測量頭(與螺旋測微器原理相似,手輪轉(zhuǎn)動一周,分劃板前進(jìn)或后退0.500 mm)觀察第1條亮紋的位置如圖甲所示,觀察第5條亮紋的位置如圖乙所示.則可求出紅光的波長λ=________m.

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科目:高中物理 來源:不詳 題型:計算題

在“用雙縫干涉測光的波長”實驗中,將雙縫干涉實驗儀按要求安裝在光具座上(如圖)。從儀器注明的規(guī)格可知,雙縫屏上的雙縫間距d=0.3mm,像屏與雙縫屏間的距離l=1.2m。在像屏上用測量頭測出,第1個亮條紋到第10個亮條紋的中心間距a=22.78mm。求:

(1)相鄰兩個亮條紋問的距離△x;
(2)這種單色光的波長。(最后結(jié)果保留兩位有效數(shù)字)

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科目:高中物理 來源:不詳 題型:單選題

某同學(xué)用某種單色光做雙縫干涉實驗時,發(fā)現(xiàn)條紋太密難以測量,可以采用的改善辦法是
A.增大雙縫間距B.增大雙縫到屏的距離
C.增大雙縫到單縫的距離D.改用波長較短的光(如紫光)作為入射光

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