Question

如圖所示，半圓形半滑凹槽放在光滑的水平面上，小滑塊從凹槽邊緣A點(diǎn)由靜止釋放經(jīng)最低點(diǎn)B，又向上到達(dá)另一側(cè)邊緣C．把從A點(diǎn)到達(dá)B點(diǎn)稱為過程I，從B點(diǎn)到達(dá)C點(diǎn)稱為過程II，則（　�。�

A．過程I中小滑塊減少的勢(shì)能等于凹槽增加的動(dòng)能

B．過程I小滑塊動(dòng)量的改變量等于重力的沖量

C．過程I和過程II中小滑塊所受外力的沖量相等

D．過程II中小滑塊的機(jī)械能的增量等于凹槽動(dòng)能的減少量

Answer 1

A、過程Ⅰ中系統(tǒng)機(jī)械能守恒，所以滑塊減少的勢(shì)能等于滑塊和凹槽增加的動(dòng)能，故A錯(cuò)誤；
B、根據(jù)動(dòng)量定理可知，合外力的沖量等于物體動(dòng)量的變化量，小滑塊受到重力和支持力，故B錯(cuò)誤；
C、設(shè)到達(dá)B點(diǎn)速度為v，則過程Ⅰ和過程Ⅱ中物塊的動(dòng)量變化量相等，所以所受外力的沖量相等，故C正確；
D、過程Ⅱ中系統(tǒng)機(jī)械能守恒，所以小滑塊的機(jī)械能的增量等于凹槽機(jī)械能的減少量，而凹槽只能動(dòng)能，所以等于凹槽動(dòng)能的減少量，故D正確．
故選CD