A. 入射光的頻率增大,為了測(cè)遏止電壓,則滑動(dòng)變阻器的滑片P應(yīng)向M端移動(dòng)

B. 增大入射光的強(qiáng)度,光電子的最大初動(dòng)能也增大

C. 由Uc-ν圖像可知,這種金屬的截止頻率為νc

D. 由Uc-ν圖像可求普朗克常量表達(dá)式為

A. 物體受到重力、摩擦力、支持力的作用

B. 由于慣性，物體不需要摩擦力的作用就能夠向上勻速運(yùn)動(dòng)。

C. 物體受到的摩擦力的大小等于重力沿傳送帶向下的分力。

D. 物體受到摩擦力的大小為μmgcosθ

A．0～6 s內(nèi)木塊一直受到靜摩擦力的作用

B．最大靜摩擦力比滑動(dòng)摩擦力大

C．木塊與桌面間的動(dòng)摩擦因數(shù)為0.08

D．木塊與桌面間的動(dòng)摩擦因數(shù)為0.11

A．木塊A所受摩擦力大小是4 N,方向向右

B．木塊A所受摩擦力大小是9 N,方向向右

C．木塊B所受摩擦力大小是4 N,方向向左

D．木塊B所受摩擦力大小為6 N,方向向左

A. 將滑塊由靜止釋放，如果μ＞tanθ，滑塊將下滑

B. 給滑塊沿斜面向下的初速度，如果μ＜tanθ，滑塊將減速下滑

C. 用平行于斜面向上的力拉滑塊向上勻速滑動(dòng)，如果μ=tanθ，拉力大小應(yīng)是2mgsinθ

D. 用平行于斜面向下的力拉滑塊向下勻速滑動(dòng)，如果μ=tanθ，拉力大小應(yīng)是mgsinθ

A. A、B之間的摩擦力一定變大

B. B與墻面的彈力可能不變

C. B與墻之間可能沒有摩擦力

D. 彈簧彈力一定不變

【題目】如圖所示，表面光滑的長方體平臺(tái)固定于水平地面上，以平臺(tái)外側(cè)的一邊為x軸，在平臺(tái)表面建有平面直角坐標(biāo)系xoy，其坐標(biāo)原點(diǎn)O與平臺(tái)右側(cè)距離為d=1.2m。平臺(tái)足夠?qū)�，高�?/span>h=0.8m，長為L=3.3m。一個(gè)質(zhì)量m1=0.2kg的小球以v0=3m/s的速度沿x軸運(yùn)動(dòng)，到達(dá)O點(diǎn)時(shí)，給小球施加一個(gè)沿y軸正方向的水平力F1，且F1=5y（N）。經(jīng)一段時(shí)間，小球到達(dá)平臺(tái)上坐標(biāo)為（1.2m，0.8m）的P點(diǎn)時(shí)，撤去外力F1。在小球到達(dá)P點(diǎn)的同時(shí)，平臺(tái)與地面相交處最內(nèi)側(cè)的M點(diǎn)，一個(gè)質(zhì)量m2=0.2kg的滑塊以速度v在水平地面上開始做勻速直線運(yùn)動(dòng)，滑塊與地面間的動(dòng)摩擦因數(shù)μ=0.5，由于摩擦力的作用，要保證滑塊做勻速運(yùn)動(dòng)需要給滑塊一個(gè)外力F2，最終小球落在N點(diǎn)時(shí)恰好與滑塊相遇，小球、滑塊均視為質(zhì)點(diǎn)， ， 。求：

（1）小球到達(dá)P點(diǎn)時(shí)的速度大小和方向；

（2）M、N兩點(diǎn)間的距離s和滑塊速度v的大小；

（3）外力F2最小值的大�。ńY(jié)果可用根式表示）

（1）運(yùn)動(dòng)過程中輕繩與豎直方向的夾角θ；

（2）木塊M與桿間的動(dòng)摩擦因數(shù)μ.

A. 金屬熱電阻溫度降低，其他條件不變

B. 光照增強(qiáng)，其他條件不變

C. 金屬熱電阻溫度升高，光照增強(qiáng)，其他條件不變

D. 金屬熱電阻溫度降低，光照減弱，其他條件不變

A．B鏢的運(yùn)動(dòng)時(shí)間比A鏢的運(yùn)動(dòng)時(shí)間短

B．B鏢擲出時(shí)的初速度比A鏢擲出時(shí)的初速度大

C．A鏢擲出時(shí)的初速度比B鏢擲出時(shí)的初速度大

D．A鏢的質(zhì)量一定比B鏢的質(zhì)量小