下列反應(yīng)中.水只作為氧化劑的是( ) A.CaO+H2O=Ca(OH)2 B.2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑ C.C+H2OCO+H2↑ D.Cl2+H2O=HCl+HClO 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

下列反應(yīng)中,水只作為氧化劑的是(  )

高溫

 
A、CaO+H2O=Ca(OH)2                      B、2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑

C、C+H2O =CO+H2                 D、Cl2+H2O=HCl+HClO

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(1)下列反應(yīng)中:
A.2F2+2H2O═4HF+O2
B.2Na+2H2O═2NaOH+H2
C.CaO+H2O═Ca(OH)2
D.2H2O═2H2↑+O2
E.2Na2O2+2H2O═4NaOH+O2
水只作氧化劑的是______;水既作氧化劑又作還原劑的是______;
水只作還原劑的是______;水既不作氧化劑又不作還原劑的是______.
(2)已知鐵和稀硝酸反應(yīng)的離子方程式為:
NO
-3
+Fe+yH+═Fex++NO↑+zH2O
試分析:y=______;
當(dāng)生成0.5mol氧化產(chǎn)物時(shí),轉(zhuǎn)移的電子為_(kāi)_____個(gè);
(3)某有色電解質(zhì)溶液中,可能大量存在有Ag+、H+、Cu2+、OH-、Cl-等離子,你認(rèn)為:一定有的離子是______,一定沒(méi)有的離子是______,不能確定的離子______.將鈉投入該溶液中一定發(fā)生的離子反應(yīng)方程式是______.

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回答下列有關(guān)氧化還原反應(yīng)的問(wèn)題:
(1)在下列反應(yīng)中:A.2F2+2H2O=4HF+O2↑;
B.2Na+2H2O=2NaOH+H2↑;
C.CaO+H2O=Ca(OH)2;D.2H2O
 通電 
.
 
2H2↑+O2↑.其中水只是氧化劑的是
B
B
,水只是還原劑的是
A
A
,水既是氧化劑,又是還原劑的是
D
D
,水既不是氧化劑,又不是還原劑的是
C
C
(填序號(hào)).
(2)印刷電路板是由塑料和銅箔復(fù)合而成,刻制印刷電路時(shí)要用FeCl3溶液作為“腐蝕液”生成CuCl2和FeCl2,其反應(yīng)的化學(xué)方程式如下:Cu+2FeCl3═CuCl2+2FeCl2
①請(qǐng)用雙線橋法在上式中標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的情況
②試比較Fe3+、Cu2+、Fe2+氧化性的強(qiáng)弱:
Fe3+
Fe3+
Cu2+
Cu2+
Fe2+
Fe2+

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回答下列有關(guān)氧化還原反應(yīng)的問(wèn)題:
(1)在下列反應(yīng)中:A.2F2+2H2O=4HF+O2↑;
B.2Na+2H2O=2NaOH+H2↑;
C.CaO+H2O=Ca(OH)2;D.2H2O數(shù)學(xué)公式2H2↑+O2↑.其中水只是氧化劑的是______,水只是還原劑的是______,水既是氧化劑,又是還原劑的是______,水既不是氧化劑,又不是還原劑的是______(填序號(hào)).
(2)印刷電路板是由塑料和銅箔復(fù)合而成,刻制印刷電路時(shí)要用FeCl3溶液作為“腐蝕液”生成CuCl2和FeCl2,其反應(yīng)的化學(xué)方程式如下:Cu+2FeCl3═CuCl2+2FeCl2
①請(qǐng)用雙線橋法在上式中標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的情況
②試比較Fe3+、Cu2+、Fe2+氧化性的強(qiáng)弱:______>______>______.

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回答下列有關(guān)氧化還原反應(yīng)的問(wèn)題:
(1)在下列反應(yīng)中:A.2F2+2H2O=4HF+O2↑;
B.2Na+2H2O=2NaOH+H2↑;
C.CaO+H2O=Ca(OH)2;D.2H2O
 通電 
.
 
2H2↑+O2↑.其中水只是氧化劑的是______,水只是還原劑的是______,水既是氧化劑,又是還原劑的是______,水既不是氧化劑,又不是還原劑的是______(填序號(hào)).
(2)印刷電路板是由塑料和銅箔復(fù)合而成,刻制印刷電路時(shí)要用FeCl3溶液作為“腐蝕液”生成CuCl2和FeCl2,其反應(yīng)的化學(xué)方程式如下:Cu+2FeCl3═CuCl2+2FeCl2
①請(qǐng)用雙線橋法在上式中標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的情況
②試比較Fe3+、Cu2+、Fe2+氧化性的強(qiáng)弱:______>______>______.

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