下列敘述正確的是

氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。

（1）Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為???????????????????????????????????? 。

（2）下列實(shí)驗(yàn)?zāi)鼙容^鎂和鋁的金屬性強(qiáng)弱的是???? ??? ?? （填序號）。

a．測定鎂和鋁的導(dǎo)電性強(qiáng)弱

b．測定等物質(zhì)的量濃度的Al2(SO4)3和MgSO4溶液的pH

c．向0.1 mol/LAlCl3和0.1 mol/L MgCl2中加過量NaOH溶液

（3）鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。

已知：4Al (s)+3O2(g) =2Al2O3(s)??? ΔH1 = -3352 kJ/mol

Mn(s)+ O2(g) =MnO2 (s)???? ΔH2 = -521 kJ/mol

Al與MnO2反應(yīng)冶煉金屬Mn的熱化學(xué)方程式是?????????????????????? ????? 。

（4）氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應(yīng)方程式為??????????????????? ????????? ???????????? 。

（5）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g) Si3N4(s) + 12HCl(g)?? △H＜0??

某溫度和壓強(qiáng)條件下，分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。

①H2的平均反應(yīng)速率是???????? mol／(L·min)。

②若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) = 3 : 2 : 6的投料配比，向上述容器不斷擴(kuò)大加料，SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)????? （填“增大”、“減小”或“不變”）。

（6）298K時，Ksp[Ce(OH)4]＝1×10—29。Ce(OH)4的溶度積表達(dá)式為Ksp＝?????????????? 。

為了使溶液中Ce4＋沉淀完全，即殘留在溶液中的c(Ce4+)小于1×10－5mol·L－1，需調(diào)節(jié)pH為????? 以上。

下列說法中正確的是

A．有單質(zhì)參加或有單質(zhì)生成的化學(xué)反應(yīng)不一定是氧化還原反應(yīng)

B．有化學(xué)鍵斷裂或有化學(xué)鍵形成的變化一定是化學(xué)變化

C．若A元素的金屬性強(qiáng)于B元素的金屬性，則A一定可置換B鹽溶液中的B

D．弱酸不可能制得強(qiáng)酸，弱酸鹽也不可能制得強(qiáng)酸鹽

氧化鋁(Al₂O₃) 和氮化硅（Si₃N₄）是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途。
（1）Al與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式為                                    。
（2）下列實(shí)驗(yàn)?zāi)鼙容^鎂和鋁的金屬性強(qiáng)弱的是           （填序號）。
a．測定鎂和鋁的導(dǎo)電性強(qiáng)弱
b．測定等物質(zhì)的量濃度的Al₂(SO₄)₃和MgSO₄溶液的pH
c．向0.1 mol/LAlCl₃和0.1 mol/L MgCl₂中加過量NaOH溶液
（3）鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。
已知：4Al (s)+3O₂(g) =2Al₂O₃(s)   ΔH₁ =" -3352" kJ/mol
Mn(s)+ O₂(g) =MnO₂ (s)    ΔH₂ =" -521" kJ/mol
Al與MnO₂反應(yīng)冶煉金屬M(fèi)n的熱化學(xué)方程式是                            。
（4）氮化硅抗腐蝕能力很強(qiáng)，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應(yīng)方程式為                                          。
（5）工業(yè)上用化學(xué)氣相沉積法制備氮化硅，其反應(yīng)如下：3SiCl₄(g) + 2N₂(g) + 6H₂(g)Si₃N₄(s) + 12HCl(g)  △H＜0  
某溫度和壓強(qiáng)條件下，分別將0.3mol SiCl₄(g)、0.2mol N₂(g)、0.6mol H₂(g)充入2L密閉容器內(nèi)，進(jìn)行上述反應(yīng)，5min達(dá)到平衡狀態(tài)，所得Si₃N₄(s)的質(zhì)量是5.60g。
①H₂的平均反應(yīng)速率是         mol／(L·min)。
②若按n(SiCl₄) : n(N₂) : n(H₂) =" 3" : 2 : 6的投料配比，向上述容器不斷擴(kuò)大加料，SiCl₄(g)的轉(zhuǎn)化率應(yīng)     （填“增大”、“減小”或“不變”）。
（6）298K時，K_sp[Ce(OH)₄]＝1×10^—29。Ce(OH)₄的溶度積表達(dá)式為K_sp＝              。
為了使溶液中Ce^4＋沉淀完全，即殘留在溶液中的c(Ce⁴⁺)小于1×10^－5mol·L^－1，需調(diào)節(jié)pH為     以上。