硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．
（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅，工業(yè)上可以按如下步驟制備高純硅．
Ⅰ．高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅；
Ⅱ．粗硅與干燥的氯氣在450～500℃條件下反應(yīng)制得SiCl₄；
Ⅲ．SiCl₄液體經(jīng)精餾提純后與過(guò)量H₂在1 100～1 200℃條件下反應(yīng)制得高純硅．
已知SiCl₄沸點(diǎn)為57.6℃，能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)．1mol H₂與SiCl₄氣體完全反應(yīng)吸收的熱量為120.2kJ．
請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
①第Ⅲ步反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為．
②整個(gè)制備純硅的過(guò)程中必須嚴(yán)格控制在無(wú)水無(wú)氧的條件下．SiCl₄在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧，其生成物是；H₂還原SiCl₄過(guò)程中若混入O₂，可能引起的后果是．
（2）二氧化硅被大量用于生產(chǎn)玻璃．工業(yè)上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283kg在高溫下完全反應(yīng)時(shí)放出CO₂ 44kg，生產(chǎn)出的玻璃可用化學(xué)式Na₂SiO₃?CaSiO₃?xSiO₂表示，則其中x=．