電解飽和食鹽水裝置中.下列有關(guān)陽極的物質(zhì)變化.正確的是 ( ) A. 還原劑發(fā)生氧化反應(yīng) B. 還原劑發(fā)生還原反應(yīng) C. 氧化劑發(fā)生氧化反應(yīng) D. 氧化劑發(fā)生還原反應(yīng) 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅.下圖1是離子交換膜法(允許鈉離子通過,不允許氫氧根與氯離子通過)電解飽和食鹽水,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是______,NaOH溶液的出口為______(填字母),精制飽和食鹽水的進口為______(填字母),干燥塔中應(yīng)使用的液體是______.

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(1)多晶硅主要采用SiHC13還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiC14的綜合利用受到廣泛關(guān)注.SiC14可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiC14、H2、O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為______.SiC14可轉(zhuǎn)化為SiC13而循環(huán)使用.一定條件下,在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiC14(g)+2H2(g)+Si(s)═4SiHC13(g)達平衡后,H2與SiHC13物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗NaC1的質(zhì)量為______kg.
(2)如圖2,實驗室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng):
Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑,MnO2+4HC1(濃)
.
.
MnC12+C12↑+2H2O

據(jù)此,從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置______(填代號)和制備并收集干燥、純凈C12的裝置______(填代號).
可選用制備氣體的裝置:
(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣.現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣______m3(標準狀況).(忽略可能存在的其他反應(yīng))

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(2013?濰坊模擬)工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅.下圖1是離子交換膜法(允許鈉離子通過,不允許氫氧根與氯離子通過)電解飽和食鹽水,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是
氯氣
氯氣
,NaOH溶液的出口為
a
a
(填字母),精制飽和食鹽水的進口為
d
d
(填字母),干燥塔中應(yīng)使用的液體是
濃硫酸
濃硫酸


(1)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注.SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4、H2、O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl
.SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiCl3而循環(huán)使用.一定條件下,在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)═4SiHCl3(g)達平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗NaCl的質(zhì)量為
0.35
0.35
kg.
(2)如圖2,實驗室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng):
Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑,MnO2+4HCl(濃)
.
.
MnCl2+Cl2↑+2H2O

據(jù)此,從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置
e
e
(填代號)和制備并收集干燥、純凈Cl2的裝置
d
d
(填代號).
可選用制備氣體的裝置:
(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣.現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣
134.4
134.4
m3(標準狀況).(忽略可能存在的其他反應(yīng))

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工業(yè)上通過電解飽和氯化鈉溶液的方法獲得氫氧化鈉和氯氣,圖為某實驗小組自制的電解飽和食鹽水的簡易裝置,
(1)寫出電解飽和氯化鈉溶液時,總離子反應(yīng)方程式:
2Cl-+2H2O
 電解 
.
 
Cl2↑+H2↑+2OH-
2Cl-+2H2O
 電解 
.
 
Cl2↑+H2↑+2OH-

(2)下列有關(guān)說法正確的是
A.電解一段時間后,往蛋殼內(nèi)溶液中滴加幾滴
紫色石蕊試液,先變紅后又褪色
B.蛋殼表面纏繞鐵絲發(fā)生氧化反應(yīng)
C.為增強導(dǎo)電性,可將石墨棒換成銅電極
D.蛋殼可阻止生成的氯氣與氫氣、氫氧化鈉溶液接觸
(3)電解200mL 0.5mol/L的NaCl溶液,在標準狀況下,陰極收集到2.24L氣體時,
陽極產(chǎn)生的氣體為
1.68
1.68
L,常溫下,若將電解后的溶液稀釋至1L,則溶液的pH約為
13
13
;若將陽極生成的氣體通入電解后的溶液中,反應(yīng)的離子方程式為
Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O
Cl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O
,充分反應(yīng)后,則所得溶液中陰離子的濃度由大到小依次是
C(Cl-)>C(ClO-)>C(OH-
C(Cl-)>C(ClO-)>C(OH-

(4)若將電解后陽極所產(chǎn)生的氣體全部通入1mol/L 500mL Na2SO3的溶液中,使之充分反應(yīng)(假設(shè)溶液的體積變化忽略不計),則所得溶液中SO42-的物質(zhì)的量濃度最多為
0.2
0.2
 mol/L.

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(9分)工業(yè)上通過電解飽和氯化鈉溶液的方法獲得氫氧化鈉和氯氣,圖為某實驗小組自制的電解飽和食鹽水的簡易裝置,

(1)寫出電解飽和氯化鈉溶液時,總離子反應(yīng)方程式:       _____             __。

(2)下列有關(guān)說法正確的是

A.電解一段時間后,往蛋殼內(nèi)溶液中滴加幾滴紫色石蕊試液,先變紅后又褪色

B.蛋殼表面纏繞鐵絲發(fā)生氧化反應(yīng)

C.為增強導(dǎo)電性,可將石墨棒換成銅電極

D.蛋殼可阻止生成的氯氣與氫氣、氫氧化鈉溶液接觸 

(3)電解200 mL 0.5 mol/L的NaCl溶液,在標準狀況下,陰極收集到2.24 L氣體時,陽極產(chǎn)生的氣體為        L,常溫下,若將電解后的溶液稀釋至1 L,則溶液的pH約為            ;若將陽極生成的氣體通入電解后的溶液中,反應(yīng)的離子方程式為                      ,充分反應(yīng)后,則所得溶液中陰離子的濃度由大到小依次是__________________。

(4)若將電解后陽極所產(chǎn)生的氣體全部通入1 mol/L 500 mLNa2SO3的溶液中,使之充分反應(yīng)(假設(shè)溶液的體積變化忽略不計),則所得溶液中SO42-的物質(zhì)的量濃度最多為________ mol/L。

 

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(9分)工業(yè)上通過電解飽和氯化鈉溶液的方法獲得氫氧化鈉和氯氣,圖為某實驗小組自制的電解飽和食鹽水的簡易裝置,

(1)寫出電解飽和氯化鈉溶液時,總離子反應(yīng)方程式:      _____             __。
(2)下列有關(guān)說法正確的是

A.電解一段時間后,往蛋殼內(nèi)溶液中滴加幾滴紫色石蕊試液,先變紅后又褪色
B.蛋殼表面纏繞鐵絲發(fā)生氧化反應(yīng)
C.為增強導(dǎo)電性,可將石墨棒換成銅電極
D.蛋殼可阻止生成的氯氣與氫氣、氫氧化鈉溶液接觸
(3)電解200 mL 0.5 mol/L的NaCl溶液,在標準狀況下,陰極收集到2.24 L氣體時,陽極產(chǎn)生的氣體為       L,常溫下,若將電解后的溶液稀釋至1 L,則溶液的pH約為            ;若將陽極生成的氣體通入電解后的溶液中,反應(yīng)的離子方程式為                     ,充分反應(yīng)后,則所得溶液中陰離子的濃度由大到小依次是__________________。
(4)若將電解后陽極所產(chǎn)生的氣體全部通入1 mol/L 500 mL Na2SO3的溶液中,使之充分反應(yīng)(假設(shè)溶液的體積變化忽略不計),則所得溶液中SO42-的物質(zhì)的量濃度最多為________ mol/L。

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