11．制備單質(zhì)硅的主要化學(xué)反應(yīng)如下: ① , ② , ③,下列對上述三個(gè)反應(yīng)的敘述中不正確的是( ) A．①③為置換反應(yīng) B．①②③均為氧化還原反應(yīng) C．③中是氧化劑 D．三個(gè)反應(yīng)的反應(yīng)物中的硅元素均被還原 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

制備單質(zhì)硅時(shí)，主要化學(xué)反應(yīng)如下：①SiO2+2CSi+2CO↑；②Si+2Cl2SiCl4；③SiCl4+2H2Si+4HCl。下列對上述三個(gè)反應(yīng)的敘述中，不正確的是(　　)

A.①③為置換反應(yīng)

B.①②③均為氧化還原反應(yīng)

C.②為化合反應(yīng)

D.三個(gè)反應(yīng)的反應(yīng)物中硅元素均被氧化

查看答案和解析>>

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．三氯硅烷（SiHCl3）還原法是目前工業(yè)制高純度硅的主要方法，生產(chǎn)過程如下圖：
精英家教網(wǎng)
根據(jù)題意完成下列備題：
（1）硅在元素周期表的位置
 
，其最外層有
 
種能量不同的電子．
（2）硅的氣態(tài)氫化物為SiH4，其空間構(gòu)型為
 
；三氯硅烷中某些元素最高價(jià)氧化物對應(yīng)水化物的酸性
 
＞
 
（填化學(xué)式）．
（3）寫出三氯硅烷與氫氣反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)方程式：
 
．
（4）自然界中硅酸鹽種類多，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，通常用二氧化硅和金屬氧化物的形式來表示其組成．如正長石（KALSi3O8），氧化物形式為：
 
．

查看答案和解析>>

（16分）硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題：

制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

（1）在制粗硅的反應(yīng)中，焦炭的作用是                                                  。

（2）整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。

①SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式　　　　；②H2還原SiHCl3過程中若混O2，可能引起的后果是                                    。

 (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋　　　                                                         　。

 

查看答案和解析>>

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題：
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。
三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式                                 。
②整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式                                             ；
H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是                                 
                                                                            。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是        (填字母)。

A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高
E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
高溫

查看答案和解析>>

（16分）硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題：

制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

（1）在制粗硅的反應(yīng)中，焦炭的作用是                                                   。

（2）整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。

①SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式　　　　；②H2還原SiHCl3過程中若混O2，可能引起的后果是                                     。

 (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋　　　                                                          　。

 

查看答案和解析>>


同步練習(xí)冊答案